化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>光學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備>其它光學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備>CP 平臺遮光罩
CP 平臺遮光罩
- 公司名稱 山東創(chuàng)譜光學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 CP
- 產(chǎn)地 山東省濟(jì)南市槐蔭區(qū)德邁國際信息產(chǎn)業(yè)園12棟東戶 創(chuàng)譜儀器
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2022/8/11 10:17:14
- 訪問次數(shù) 155
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創(chuàng)譜儀器主要生產(chǎn)經(jīng)營:探針臺,,光電測試系統(tǒng),,光譜測量系統(tǒng),光譜儀器,,科研級光源,,光學(xué)積分球,光學(xué)隔振平臺,,精密位移臺,,光學(xué)調(diào)整架,光具座元器件等產(chǎn)品,。
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,電氣 |
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平臺遮光罩大多數(shù)光學(xué)實(shí)驗(yàn)或工業(yè)生產(chǎn)都對系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求,。各種因素造成的振動會導(dǎo)致儀器測量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準(zhǔn)確性,嚴(yán)重干擾生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)的進(jìn)行,,振動來源主要分為來自系統(tǒng)之外的振動和系統(tǒng)內(nèi)部的振動,,地面固有振動,工作人員踩踏地板以及開,、關(guān)門或墻壁碰撞等通過地面?zhèn)鱽淼恼駝泳鶎傧到y(tǒng)之外的振動,,這一類振動需通過光學(xué)平臺的隔振支架衰減;而來自系統(tǒng)內(nèi)部的振動包括儀器振動,、氣流,、冷卻水流等,則需依靠光學(xué)平臺的桌面阻尼來隔絕,。
隨著光學(xué)加工設(shè)備和測量儀器精度的不斷提高,, 其對工作環(huán)境的振動隔離提出了更加嚴(yán)苛的要求。例如,,離子激光器泵浦噴流染料激光器時,,激光器的振動要求達(dá)到了微米級;由于可見光波長約為0.5微米,,即使振動在次微米級別時,以光的干涉為基礎(chǔ)的實(shí)驗(yàn)(如全息攝影) 也將無法進(jìn)行,; LμmArray 公司的并行激光直寫設(shè)備的直寫頭振動線位移不能超過15nm ;超精密機(jī)械加工的表面粗糙度要求已經(jīng)達(dá)到 0.1nm ;高精度掃面探針顯微鏡的雙向分辨率都已達(dá)到亞納米級,。因此,對光學(xué)加工設(shè)備及光學(xué)測量儀器進(jìn)行有效的隔振是保證科研生產(chǎn)活動正常進(jìn)行的必要條件,。
同時,,對于大型精密光學(xué)儀器來說,其除了有近乎嚴(yán)苛的隔振要求外,,儀器本身往往還具有較大的體積和質(zhì)量,,這對作為隔振基礎(chǔ)的光學(xué)隔振平臺的承載能力和工作空間也提出了更進(jìn)一步的要求。因此,,隔振性能好,、承載能力強(qiáng),、工作空間大的大型或超大型精密光學(xué)隔振平臺具有了較大的市場需求。
創(chuàng)譜儀器自主研發(fā)生產(chǎn)的光學(xué)隔振平臺廣泛的應(yīng)用于精密科研光學(xué)試驗(yàn),、加工及測量中,,是您理想的選擇。
平臺遮光罩雜散光會給探測器和實(shí)驗(yàn)帶來不利的影響,。對于高增益探測系統(tǒng),,由于信號在房間自然光情況下極易飽和,遮光材料尤其有益,。在橢圓光度法和某些偏振測量技術(shù)中,,背景光的調(diào)制信號對于精密測量有不利影響,遮光材料是消除這種影響的理想材料,。
創(chuàng)譜遮光罩提供了一個不透光的操作空間,,可以在里面進(jìn)行圖像測量、感光操作或者其它需要黑暗空間的光學(xué)測量,、光路搭建,。