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EVG 301 Wafer Cleaning EVG 301 單晶圓清洗系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 EVG 301 Wafer Cleaning
  • 產(chǎn)地 奧地利
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/9/25 16:44:21
  • 訪問次數(shù) 611

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公司自成立以來就一直專注于半導(dǎo)體,、微組裝和電子裝配等領(lǐng)域的設(shè)備集成和技術(shù)服務(wù),；目前公司擁有一支在半導(dǎo)體制造、微組裝及電子裝配等領(lǐng)域經(jīng)驗(yàn)豐富的專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),，專業(yè)服務(wù)于混合電路,、光電模塊、MEMS,、先進(jìn)封裝（TSV,、Fan-out等）、化合物半導(dǎo)體,、微波器件,、功率器件、紅外探測,、聲波器件,、集成電路、分立器件,、微納等領(lǐng)域,。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設(shè)備，還能根據(jù)客戶的實(shí)際生產(chǎn)需求制訂可行的工藝技術(shù)方案,。
目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導(dǎo)體制造設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系（如：BRUKER,、EVG、TRYMAX,、CAMTEK,、CENTROTHERM、SENTECH,、ENGIS,、ADT、SONOSCAN,、ASYMTEK,、MARCH,、PANASONIC、HYBOND,、OKI,、KEKO等），為向客戶提供先進(jìn)的設(shè)備和專業(yè)的技術(shù)服務(wù)打下了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ),。

 

半導(dǎo)體設(shè)備,，微組裝設(shè)備，LTCC設(shè)備,，化工檢測設(shè)備

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子

EVG 301  Single Wafer Cleaning System

EVG 301  單晶圓清洗系統(tǒng)

 

研發(fā)型單晶圓清洗系統(tǒng)

 

EVG301半自動化單晶片清洗系統(tǒng)采用一個(gè)清洗站,，該清洗站使用標(biāo)準(zhǔn)的去離子水沖洗以及超音速，毛刷和稀釋化學(xué)藥品作為附加清洗選項(xiàng)來清洗晶片,。

EVG301具有手動加載和預(yù)對準(zhǔn)功能,，是一種多功能的R＆D型系統(tǒng)，適用于靈活的清潔程序和300 mm的能力,。

EVG301系統(tǒng)可與EVG的晶圓對準(zhǔn)和鍵合系統(tǒng)結(jié)合使用,，以消除晶圓鍵合之前的任何顆粒。旋轉(zhuǎn)夾頭可用于不同的晶圓和基板尺寸,，從而可以輕松設(shè)置不同的工藝,。

 

特征

使用1 MHz的超音速噴嘴或區(qū)域傳感器（可選）進(jìn)行高效清潔

單面清潔刷（選件）

用于晶圓清洗的稀釋化學(xué)品

防止從背面到正面的交叉污染

*由軟件控制的清潔過程

 

選件

帶有紅外檢查的預(yù)粘接臺

非SEMI標(biāo)準(zhǔn)基材的工具

技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）200、100-300毫米

清潔系統(tǒng)：開室,，旋轉(zhuǎn)器和清潔臂

腔室：由PP或PFA制成（可選）

清潔介質(zhì)：去離子水（標(biāo)準(zhǔn)）,，其他清潔介質(zhì)（可選）

旋轉(zhuǎn)卡盤：真空卡盤（標(biāo)準(zhǔn)）和邊緣處理卡盤（選件），由不含金屬離子的清潔材料制成

 

旋轉(zhuǎn)：zui高3000 rpm（5秒內(nèi)）

超音速噴嘴：頻率：1 MHz（3 MHz選件）


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