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NE-550EX 刻蝕機(jī)

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刻蝕機(jī)

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半導(dǎo)體設(shè)備

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 能源

特長

·通過磁場輔助,可以產(chǎn)生比其他ICP方式低壓力,、低電子溫度,、高密度等離子體,從離子性蝕刻到自由基性蝕刻,,可以進(jìn)行寬范圍的等離子體控制,,因此可以對應(yīng)于作為開發(fā)tool的多用過程。

·搭載了防止RF投入窗的沉積物附著的“Star電極”,。另外,,具有加熱功能,重視再現(xiàn)性和穩(wěn)定性的裝置概念,。

·實(shí)現(xiàn)作為高可靠性輸送機(jī)器人,、裝置構(gòu)造簡單、維護(hù)簡單等研究開發(fā)Tool的可靠性,。

·還可以追加豐富的可選功能和暗盒室,。

·面向批量生產(chǎn)線,推出了由同一個(gè)Chamber構(gòu)成的支持多個(gè)Chamber的NE-5700,、NE-7700,。

用途

·化合物材料(LED、LD,、高頻器件和功率器件),。

·電極加工、金屬布線,、有機(jī)膜,、陶瓷等加工。

·用于加工鐵電體,、貴金屬,、磁性膜等難蝕刻材料。

·納米壓印,、NEMS,、MEMS,、各種傳感器。

·生物芯片,、微流體裝置,、光子晶體等。




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