產(chǎn)品簡介

Neocera大尺寸PLD系統(tǒng)用于在各種襯底上沉積各種高質(zhì)量的薄膜,，晶圓（wafer）直徑可達8 "(200毫米),。基片旋轉(zhuǎn)結(jié)合激光掃描提供整個晶圓區(qū)域的厚度均勻性,。激光束掃描附件采用了獨\特的Neocera設計,，當激光束掃描時，可以在目標上產(chǎn)生固定的激光通量(J/cm2),。當激光束通過目標表面掃描時,，激光束掃描使用獨\特的掃描程序。激光位置在目標上的停留時間遵循逆速度程序,，促進了薄膜厚度的良好控制,。用戶可以*控制掃描參數(shù)的必要改變，厚度輪廓取決于沉積壓力,。

產(chǎn)品特點

•全自動大尺寸PLD系統(tǒng)

•晶圓尺寸:4 "(100毫米),，6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直徑

•外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積

•高溫下氧化膜沉積的氧相容性

•自動激光掃描厚度均勻性

技術參數(shù)

1.襯底尺寸:(直徑)4 " (100mm),，6 " (150mm)和8 " (200mn)

2.PLD腔室尺寸:18英寸直徑球體或圓柱體,。

3.襯底加熱:850 ℃(4 "wafers))，750℃(6 "wafers),，700℃(8" wafers)

4.目標旋轉(zhuǎn): 直徑4 × 2"

5.厚度均勻性: ±5%或更好,。

6.工業(yè)氣體: O₂, N₂, Ar， (MFC控制)

7.Loadlocks: 包括

8.自動化: Windows 7, LabView 2013