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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>光學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備>其它光學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備> 校準(zhǔn)標(biāo)樣

校準(zhǔn)標(biāo)樣

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!


八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司是創(chuàng)建于2017年,,是集測試測量,、研發(fā)、生產(chǎn),、銷售,、服務(wù)為一體的高科技公司,亞太區(qū)總部位于中國上海,。并在北京設(shè)立辦事處,。八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司致力于代理和應(yīng)用*成熟的測試測量儀器及技術(shù),應(yīng)用于材料,,物理,,光學(xué),化學(xué),,生物等領(lǐng)域,。同時(shí)與國內(nèi)外研發(fā)機(jī)構(gòu)合作研究開發(fā)高精密測試測量技術(shù)及設(shè)備定制。有各*機(jī)構(gòu)的技術(shù)支持,,匯集有行業(yè)的精英技術(shù)團(tuán)隊(duì),,負(fù)責(zé)產(chǎn)品及方案設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造,、售前售后服務(wù),。

原子力顯微鏡,原子力拉曼,,有機(jī)合成質(zhì)譜儀,,制備色譜,納米紅外光譜儀,,掃描近場光學(xué)顯微鏡,,電鏡下原子力,微米級3D打印機(jī),,

應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

高分辨率校準(zhǔn)標(biāo)樣:綜述

Applied Nanotools為高分辨率應(yīng)用提供X射線,,EUV和可見光顯微鏡的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)。 這些高質(zhì)量的光學(xué)元件包括各種校準(zhǔn)元件,,可在以下SEM圖像中看到:

ANT Design

ANT校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)用于具有納米級特征的X射線成像系統(tǒng)的高分辨率要求,。適用于軟X射線和硬X射線機(jī)制以及光學(xué)設(shè)置。

Nested Ls

嵌套的Ls或彎頭允許高分辨率測量,,保證間距和效率,。在高分辨率標(biāo)準(zhǔn)下低至15 nm半間距,。

Siemen star

該圖案允許校準(zhǔn)和準(zhǔn)確比較X射線與其他成像方法的光學(xué)分辨率。

NanoUSAF 1951

Applied Nanotool的定制設(shè)計(jì)NanoUSAF 1951基于USAF 1951設(shè)計(jì),,但具有納米而非微米的特征

校準(zhǔn)標(biāo)樣價(jià)格列表

DeviceBase Price
 Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au)

(15 nm half pitch)

USD $5000
 Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au)

(20 nm half pitch or better)

USD $4500
 Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au)

(25 nm half-pitch or better)

USD $6000
Features Include:

     • Nested L’s

     • Siemen star patterns (large and small)

     • Varying pitch gratings and meshe

     • Nano USAF 1951

 
  CustomizationExtra Fee
     • Custom Logo (Max 50 µm 2 area)$1000
     • Low stress 50 nm silicon nitride membrane$2000
     • Low stress 100 nm silicon carbide membrane$2500
     • Fused Silica Substrate (~500 um thick)

Chrome metal on glass (positive tone-only)

$2500

Negative polarity (features transparent)

     • 30 nm minimum feature size (soft X-ray)

     • 50 nm minimum feature size (hard X-ray)

$1250
     • Custom chip sizesContact us

定制膜/基材

校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)在標(biāo)準(zhǔn)的5 mm x 5 mm框架上于堅(jiān)固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造,。 熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學(xué)顯微鏡。

 校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)在標(biāo)準(zhǔn)的5 mm x 5 mm框架上于堅(jiān)固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造,。
 熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學(xué)顯微鏡

定制設(shè)計(jì)

定制設(shè)計(jì)可添加具有高分辨率功能的設(shè)施徽標(biāo)(建議小元件尺寸為50 nm),。 必須以GDSII,EPS或矢量格式提供圖形以獲得佳分辨率,。如果您需要有關(guān)徽標(biāo)提交的幫助,,請與我們聯(lián)系。
 高分辨率ANT徽標(biāo),,20納米特征,,電鍍至200納米

總體布局

 注:終設(shè)計(jì)可能不*如圖所示。

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