進(jìn)口高真空離子濺射儀針對絕大多數(shù)掃描電鏡應(yīng)用,，高真空模式或高分辨模式,，要求樣品必須導(dǎo)電良好，否則樣品表面荷電造成圖像缺陷和分辨率惡化,。在非導(dǎo)電絕緣材料表面制備1-10nm金屬導(dǎo)電膜層是常用的樣品處理手段,，可采用離子濺射鍍膜法或熱蒸發(fā)鍍膜法，前者更為方便,，使用更為廣泛,，離子濺射儀在很多情況下是掃描電子顯微鏡實(shí)驗室標(biāo)配。

進(jìn)口高真空離子濺射儀,，采用磁控濺射方式,，獲得超級精細(xì)膜層,，廣泛用場發(fā)射掃描電鏡超高分辨觀察,，或透射電鏡樣品制備碳支持膜，可用于其他高質(zhì)量鍍膜實(shí)驗研究,。采用陽極保護(hù)柵網(wǎng),，實(shí)現(xiàn)鍍膜過程中樣品表面保持常溫狀態(tài)，沒有熱損傷,。該濺射儀具有樣品等離子清洗刻蝕功能,，可選配蒸碳附件。

主要功能：

1,、精細(xì),、超精細(xì)離子濺射導(dǎo)電膜制備；專業(yè)級金屬膜層試驗,。

2,、樣品等離子刻蝕清洗

3、蒸碳鍍膜

主要特點(diǎn)：

1,、磁控濺射速度快,。對于掃描電鏡或透射電鏡制樣，抽真空-濺射-泄真空3分鐘完成,。

2,、鍍膜質(zhì)量更高，可獲得精細(xì)晶粒膜層,，膜層結(jié)合力強(qiáng)度高,。可使用結(jié)晶更細(xì)小的金屬靶材。

3,、對樣品無熱損傷的冷濺射,。

4、樣品等離子刻蝕功能,，一個手動控制擋板降低樣片在刻蝕過程中受到的污染,。

5、基于PLC的強(qiáng)大控制系統(tǒng),，全部觸摸屏操作,，可手動、半自動控制,、全自動控制,。

6、真空高壓互鎖安全機(jī)制

7,、標(biāo)準(zhǔn)的操作軟件,，實(shí)時監(jiān)控各部件狀態(tài)，方便技術(shù)支持,，節(jié)約用戶費(fèi)用,。

性能指標(biāo)：

標(biāo)準(zhǔn)配置

樣品室：      φ150mm X 150mm(H) 不銹鋼真空室，帶觀察窗

靶：          金GOLD或金鈀合金GOLD/PALLADIUM（隨機(jī)）φ50mmX0.1mm

樣品臺：      φ50mm 旋轉(zhuǎn)樣品臺

濺射電流：    0-100mA

真空規(guī)：      皮拉尼+熱電偶

濺射氣體：    氬氣

真空泵：      85L/Min 機(jī)械泵

             Pfeiffer 70 lps渦輪分子泵

             15分鐘抽到5E-6Pa 極限真空,。獲得超高真空環(huán)境,，提高鍍膜質(zhì)量

選配

膜厚監(jiān)控：    石英晶體膜厚監(jiān)控器

樣品臺：      φ75mm 旋轉(zhuǎn)樣品臺

             φ100mm旋轉(zhuǎn)樣品臺（選此臺，膜厚監(jiān)控器無法安裝）

             旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺 （選擇此臺,，無法實(shí)現(xiàn)樣品刻蝕功能）

蒸碳附件：    碳棒或碳絲繩