*材料在微納米尺度物理缺陷和化學(xué)成分差異將對宏觀性能產(chǎn)生重大影響,，材料科技工作者需要從微納米尺度掌握材料物理缺陷形成,、成分差異演變、晶體結(jié)構(gòu)組成的一般規(guī)律,。針對這樣的課題,，使用掃描電鏡（SEM）平臺配套EDS/WDS/EBSD觀察分析是科學(xué)的解決方案。

掃描電子顯微分析裝置EmCrafts電鏡附件常用的分析附件,，使用Si半導(dǎo)體晶體對元素特征X射線展譜,，自1970年代商品化以來，技術(shù)性能不斷進(jìn)步,，當(dāng)前技術(shù),，可在分秒間對微納米尺度成分差異做出準(zhǔn)確判斷。分析報告包括材料微觀圖像和不同微觀區(qū)域化學(xué)成分,，全元素構(gòu)成,，元素百分比以及測量方差。
    WDS作為早配合電子束探測材料微區(qū)元素組成的X射線分光儀器,，特征X射線能量分辨率5-10電子伏,，對微量成分定性定量精度比EDS提高一個數(shù)量級，目前在半導(dǎo)體,，電子材料,，地質(zhì)礦物和特殊合金研究中廣泛使用，但波譜分析逐個元素進(jìn)行定量,，比較耗時,，對電子束束流穩(wěn)定性提出更高要求。

    EBSD,，采用高能背散射電子,，對樣品剖面做晶體衍射，從而獲得微區(qū)晶體結(jié)構(gòu),，取向,，分布定性定量結(jié)果。在金屬、陶瓷和地質(zhì)學(xué)分析顯微結(jié)構(gòu)及織構(gòu)中使用越來越廣泛,。

掃描電子顯微分析裝置EmCrafts電鏡附件,，均采用專業(yè)級電子顯微成像技術(shù)，專業(yè)設(shè)計電子顯微分析附件探測器接口,，優(yōu)化探測器幾何探測效率,，是優(yōu)良的掃描電子顯微分析平臺。

Cube-200桌面臺式電鏡,，可拓展簡單易用的臺式電鏡能譜儀（EDS） ,；

Genesis-I型分析電鏡，可拓展專業(yè)級X-ray能譜儀,，定量更精,；    

Genesis-II型分析電鏡，可拓展專業(yè)EDS,、WDS,、EBSD裝置、CL等多種電子顯微分析附件,。

Veritas-300型分析電鏡,，具有大型樣品觀察分析倉，可裝備更多電子顯微分析附件和微操作樣品臺,。