蔡司場發(fā)射掃描電子顯微鏡 Sigma系列

[ 產品簡介 ]

蔡司新一代蔡司場發(fā)射掃描電子顯微鏡，具有高質量的成像和分析能力,，將先進的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術與優(yōu)秀的用戶體驗結合,。利用Sigma系列直觀的4步工作流程，在更短的時間內獲得更多的數(shù)據(jù),，提高測試與生產效率,。可選配多種探測器，以滿足半導體,、能源等新材料,、磁性樣品、生物樣品,、地質樣品等不同的應用需求,。結合蔡司原位電鏡實驗平臺，可以實現(xiàn)自動智能化的原位實驗工作流程,，高效率獲取高通量,、高質量的原位實驗數(shù)據(jù)。EDS幾何設計保證了出色的元素分析性能,，分析速度高,、精度好、結果可靠,。高分辨,、全分析、多擴展,、強智能,、廣應用，全新Sigma系列是助力于材料研究,、生命科學和工業(yè)檢測等領域的“多面手”,。

[ 產品特點 ]

ü Gemini鏡筒設計，低電壓高分辨,，無漏磁,；

ü 廣泛全面的應用場景；

ü 豐富靈活的探測手段,；

ü 智能高效的工作流程,；

ü 先進可靠的分析系統(tǒng)；

ü  強大完善的擴展平臺,；

[ 應用領域 ]

ü 材料科學,，如納米材料高分辨成像，高分子聚合物等不導電樣品成像,，電池材料成分襯度成像,，二維材料分析；

ü 生命科學,，如生物樣品超微結構成像,，冷凍樣品高分辨成像；

ü 地質礦物學,，如地質樣品高分辨成像,、成分分析以及原位拉曼聯(lián)用分析,；

ü 工業(yè)應用，如組件失效分析,，工藝診斷,；

ü電子半導體行業(yè)，如質量控制與分析,，6英寸Wafer快速換樣,，電子束曝光技術（EBL）；

ü鋼鐵行業(yè),，如夾雜物分析,，金屬材料自動原位成像分析；

ü刑偵,、法醫(yī)學,；

ü 考古學、文物保護與修復,；

NanoVP lite模式下斷裂的聚苯乙烯表面成像

氧化鋁顆粒高分辨二次電子成像

      ETSE探測器氧化鋅枝晶成像                          InLens SE探測器氧化鋯&氧化鐵復合材料成像

Sense BSD探測器刺毛苔蘚蟲超微結構成像        aBSD探測器超導合金成像