一,、產品關鍵詞

超細頭孢混懸液高速研磨機,，口服混懸液研磨分散機，頭孢混懸液高速研磨機,，醫(yī)藥級混懸液研磨機,，阿苯達唑混懸液高速研磨機，安達鋁鎂加混懸液高速研磨機,，布地奈德混懸液高速研磨機，布洛芬混懸液高速研磨機,，蒙脫石混懸液高速研磨機,，多潘立酮混懸液高速研磨機，磺胺二甲嘧啶混懸液高速研磨機

二,、研磨分散機的簡介

SGN研磨分散機設計*,，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎,?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用,，且粉碎粒度范圍廣,，成品粒徑可以進行調整。 

GMD2000超細頭孢混懸液高速研磨分散機為立式分體結構,，精密的零部件配合運轉平穩(wěn),，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻,，把泄露概率降到低,，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

三,、混懸液藥劑的簡介

混懸液藥劑是指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質中形成的非勻相的液體藥劑,。對于混懸液藥劑的制備有嚴格的規(guī)定：藥物本身的化學性質應穩(wěn)定，在使用或貯存期間含量應符合要求,；混懸劑中微粒大小根據用途不同而有不同要求,；粒子的沉降速度應很慢、沉降后不應有結塊現(xiàn)象,，輕搖后應迅速均勻分散,；混懸劑應有一定的粘度要求；外用混懸劑應容易涂布等,。

四,、混懸劑穩(wěn)定性影響因素：

1.粒子沉降----通過stokes沉降方程可知，粒子半徑越大,，介質粘度越低,，沉降速度越快，為保持穩(wěn)定,，應減小微粒半徑,，或增加介質粘度（助懸劑）。

2.荷電與水化膜-----雙電層與水化膜能保持粒子間斥力,，有助于穩(wěn)定,，如雙電層zeta電位降低，或水化膜破壞,，則粒子發(fā)生聚沉,，電解質容易破壞zeta電位和水化膜。

3.絮凝與反絮凝----適當降低zeta電位,，粒子發(fā)生松散聚集,，有利于混懸劑穩(wěn)定，能形成絮凝的物質為絮凝劑,。

4.結晶-----放置過程中微粒結晶,，結晶成長，形成聚沉,。

5.分散相溫度-----溫度降低使布朗運動減弱,降低穩(wěn)定性,，故應保持合適的溫度。

若要制得沉降緩慢的混懸液,，應減少顆粒的大小,，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差,。加入表面活性劑可以降低界面自由能，使系統(tǒng)更加穩(wěn)定,，而且表面活性劑由可以作為潤濕劑,，可有效的解決疏水性藥物在水中的聚集。顆粒的絮凝與其表面帶電情況有關,，若加入適量的絮凝劑（電解質）使顆粒ζ電位降至一定程度,，微粒就發(fā)生絮凝，混懸劑相對穩(wěn)定,，絮凝沉淀物體積大,，振搖后易再分散，加入反絮凝劑（電解質）可以增加已存在固體表面的電荷,，使這些帶電的顆粒相互排斥而不致絮凝,。  

五、研磨分散機的工藝

超細頭孢混懸液高速研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉,，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力,，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力,、摩擦力,、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化,、分散和粉碎,，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

六,、GMD2000系列研磨分散機設備選型表

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,，可以被調節(jié)到z大允許量的10%。