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K1050X 射頻等離子體蝕刻機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
  • 品牌 助藍(lán)科技
  • 型號(hào) K1050X
  • 產(chǎn)地 英國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/6/6 7:28:44
  • 訪問次數(shù) 2727

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勻膠機(jī),光刻機(jī),,顯影機(jī),,等離子清洗機(jī),紫外臭氧清洗機(jī),,紫外固化箱,,壓片機(jī),等離子去膠機(jī),,刻蝕機(jī),,加熱板

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 20萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池

射頻等離子體蝕刻機(jī)簡(jiǎn)介
Quorum K1050X RF等離子桶式反應(yīng)器設(shè)計(jì)用于等離子蝕刻,等離子灰化和等離子清潔應(yīng)用,。
射頻等離子體可對(duì)各種樣品和基板進(jìn)行低溫修飾,。等離子體蝕刻通常僅限于半導(dǎo)體行業(yè),因?yàn)?/span>Quorum K1050X可以用于使用反應(yīng)氣體(例如CF 4 去除硅層,,以及用于使用氧氣去除光刻膠,。 
等離子灰化是指使用氧氣或空氣對(duì)有機(jī)材料進(jìn)行可控的低溫去除,其廣泛應(yīng)用于研究和質(zhì)量控制領(lǐng)域,。RF等離子還可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清潔TEMSEM樣品以及樣品支架,。
K1050X是一款現(xiàn)代的固態(tài)RF等離子桶式反應(yīng)器,旨在滿足廣泛多樣的等離子蝕刻,,等離子灰化和等離子清洗應(yīng)用的研發(fā)和小批量生產(chǎn)的需求,。
等離子刻蝕機(jī)
主要特征

  • 用于RF等離子蝕刻,,灰化和清潔工藝
  • 抽屜式樣品臺(tái)-輕松便捷地取放樣品
  • 微控制器:操作員*可編程-操作簡(jiǎn)便,靈活
  • 全自動(dòng)操作
  • 現(xiàn)代固態(tài)100 W 13.56 MHz射頻電源-堅(jiān)固可靠
  • 兩個(gè)氣體流量計(jì)-允許準(zhǔn)確控制和混合工藝氣體,,特別適用于等離子蝕刻工藝
  • 通風(fēng)孔控制-*小的樣品干擾-特別適用于精細(xì)的等離子體灰化樣品
  • 提供渦輪分子泵送版本(K1050XT

射頻等離子體蝕刻機(jī)產(chǎn)品描述

K1050X RF等離子桶式反應(yīng)器經(jīng)過精心設(shè)計(jì),,可以承受大量使用-每天24小時(shí)處理某些等離子灰化計(jì)劃-具有微處理器控制和自動(dòng)操作功能,并具有耐用性和操作簡(jiǎn)便性,。各向同性(各個(gè)方向)的桶式系統(tǒng)等離子刻蝕或等離子灰化,,適用于廣泛的應(yīng)用,。

K1050X使用低壓射頻感應(yīng)產(chǎn)生的氣體放電來以柔和,,可控的方式修飾樣品表面或去除樣品材料。與替代方法相比的一個(gè)顯著優(yōu)勢(shì)是等離子蝕刻和灰化過程是干燥的(不需要濕化學(xué)藥品),,并且在相對(duì)較低的溫度下進(jìn)行,。

使用多種工藝氣體,可以使用多種表面改性方法,。使用氧氣(或空氣)作為工藝氣體,,分子分解為化學(xué)活性原子和分子,并且所產(chǎn)生的燃燒產(chǎn)物可通過真空系統(tǒng)方便地在氣流中帶走,。

腔室,,樣品處理和氣體控制

K1050X的直徑為110毫米x 160毫米的硼硅酸鹽玻璃室水平安裝,帶有滑出式樣品抽屜和觀察窗,。通過可選的50 L / m機(jī)械旋轉(zhuǎn)真空泵可以抽空腔室,。反應(yīng)性氣體的進(jìn)入由兩個(gè)內(nèi)置電磁流量計(jì)控制的內(nèi)置流量計(jì)控制。
注意:對(duì)于需要避免使用硼硅酸鹽玻璃的等離子蝕刻應(yīng)用,,K1050X可以配備可選的石英腔(EK4222),。

功率,調(diào)諧和真空監(jiān)控

可提供在13.56 MHz時(shí)高達(dá)100 WRF功率,,可以無限地控制RF功率并將其預(yù)設(shè)為所需值,。自動(dòng)調(diào)整正向和反射功率是標(biāo)準(zhǔn)配置,并顯示在數(shù)字顯示屏上,。

自動(dòng)化微處理器控制

K1050X是全自動(dòng)的,。時(shí)間,功率和真空度的控制參數(shù)易于預(yù)設(shè),,并且可以在整個(gè)過程中進(jìn)行監(jiān)視和調(diào)整,。
 

射頻功率的自動(dòng)調(diào)諧以實(shí)現(xiàn)*佳控制和重現(xiàn)性

等離子過程中,自動(dòng)調(diào)諧功能可確保RF功率自動(dòng)與系統(tǒng)或負(fù)載的任何變化進(jìn)行阻抗匹配,。這意味著將腔室內(nèi)的RFplasma條件保持在*佳狀態(tài)-這很重要,,因?yàn)樗梢约涌旆磻?yīng)時(shí)間,提高結(jié)果的可重復(fù)性,,并在RF周期內(nèi)保護(hù)電源,。

抽水選項(xiàng)

K1050X僅需要添加的旋轉(zhuǎn)泵,。出于安全原因,當(dāng)?shù)入x子蝕刻應(yīng)用涉及使用氧氣作為工藝氣體時(shí),,出于安全原因,,強(qiáng)烈建議使用Edwards RV3 Fomblinized旋轉(zhuǎn)泵(參見  EK3176)。在需要避免使用油基旋轉(zhuǎn)泵的地方,,可以選擇干式抽氣(請(qǐng)參閱:訂購(gòu)信息),。

內(nèi)置渦輪分子泵浦的K1050XT RF等離子蝕刻機(jī)/灰砂機(jī)/清潔器

對(duì)于需要更清潔真空環(huán)境的等離子蝕刻和等離子清潔應(yīng)用,K1050XT具有內(nèi)置的渦輪分子泵
 
射頻等離子體的應(yīng)用
等離子蝕刻,,等離子灰化和等離子清潔應(yīng)用多種多樣-以下是一些示例:

  • 使用等離子灰化制備技術(shù)  檢測(cè)石棉和人造礦物纖維及石棉
  • 光刻膠和外延層的等離子蝕刻(去除)
  • 有機(jī)材料(例如環(huán)氧樹脂,,過濾器,食品等)的低溫等離子灰化
  • 塑料的表面處理,,實(shí)現(xiàn)了從疏水到親水的轉(zhuǎn)化
  • 我改善了塑料的油漆和上墨特性
  • 用于SEMTEM檢查的有機(jī)樣品的等離子蝕刻和等離子灰化

SEM,,TEMSPM部分Plasma清洗



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