AP-1000等離子清洗系統(tǒng)

一,、功能簡(jiǎn)介：

在微電子加工過程中,，特別是在芯片貼裝和絲線鍵合的過程中，需要對(duì)表面輕微有機(jī)污染或氧化物進(jìn)行清洗,，在這種場(chǎng)合下,，需要用等離子清洗的方法進(jìn)行清洗。美國MARCH 公司的等離子清洗設(shè)備在以下器件的制造過程中能起到很好地清洗作用：光電器件,、微波器件,、混合電路、MEMS器件,、RF模塊,、功率器件、傳感器,、半導(dǎo)體器件,、LED、分立元器件,、納米器件,、聲表器件。

特征優(yōu)勢(shì)：

觸摸屏的PLC控制,，提供了形象的圖形界面和實(shí)時(shí)過程顯示,；

靈活的支架結(jié)構(gòu)允許處理多種部分，在水平或豎直模式下,；

13.56MHz的電源具有自動(dòng)阻抗匹配功能,，因此具有出色的過程重復(fù)性,；

專li的控制軟件系統(tǒng)為統(tǒng)計(jì)過程控制產(chǎn)生過程和產(chǎn)品的數(shù)據(jù),；

March AP-1000等離子清洗系統(tǒng),，是專門設(shè)計(jì)適應(yīng)24小時(shí)生產(chǎn)的嚴(yán)格要求的情況。此系統(tǒng)提供統(tǒng)一的等離子體,，具有優(yōu)良的可靠性,、安全性及操作簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)。

AP-1000平臺(tái)是*獨(dú)立的,，因此要求小的層空間,。泵、處理腔體,、電子控制和13.56MHz電源供應(yīng)都被安裝在一個(gè)單一的外殼內(nèi),。前面開門使得存取組件都很便利。泵安裝在便于拆卸的滾筒上,。

帶有HTP （高吞吐量）架選項(xiàng)的AP-1000等離子系統(tǒng)結(jié)合了可靠性和生產(chǎn)品質(zhì),，證明March 專li的HTP架的優(yōu)勢(shì)。AP-1000 HTP優(yōu)化在RF激勵(lì)源產(chǎn)生的離子的應(yīng)用,，使在減少過程時(shí)間的時(shí)候,，提高處理的*性。

AP-1000 HTP允許選擇一系列工藝氣體,，例如氬氣,、氫氣和氦氣等。它裝備4個(gè)質(zhì)量流量控制器以達(dá)到jia的工藝氣體控制,。

帶有槽的M/G制具垂直安裝在處理腔體中,。出色的是，每塊M/G制具可小支撐20個(gè)框架,。處理腔體多可裝12個(gè)M/G制具,，這有M/G制具的尺寸決定。