多功能磁控濺射鍍膜機（TSV1200-S）主要特點： 
　　1,，側面開門結構,，便于裝片和換靶 
　　2，*設計預濺射擋板,，工藝控制簡便,，節(jié)省時間 
　　3，*設計的充氣和抽氣系統(tǒng),，有效鍍膜區(qū)寬 
　　4,，專業(yè)脈沖偏壓非平衡對靶中頻磁控濺射技術，鍍膜質量穩(wěn)定 
　　5,，采用PLC工控機控制,，可實現(xiàn)設備和工藝手動和自動控制，多重泵閥水電互鎖互保護 
　　6,，安裝采用全程四極質譜監(jiān)控和氦質譜檢漏,，真空密封性好,，設備工藝穩(wěn)定可靠 
　　7,，轉動采用磁流體引入，*運轉密封可靠 
　　8,，綜合效率高,，裝片量大。50X70mm工件,，**一次可裝800片 
　　9,，所有零部件采用國內廠家，電器元件采用進口或合資企業(yè)產品,，設備*運行可靠穩(wěn)定,。 
　　 

多功能磁控濺射鍍膜機（TSV1200-S）　　主要技術參數(shù)和配置： 
　　（一）,，真空系統(tǒng)技術指標 
　　1,，極限真空：優(yōu)于2×10-3Pa； 
　　2,，抽速：大氣到5×10-3Pa≤30mm（空載,，冷態(tài),，潔凈）； 
　　3,，壓升率：小于0.5Pa／hr,。 
　　 
　　（二）,，真空室和真空系統(tǒng)配置 
　　1,，鍍膜室尺寸：1210mm（直徑）×1200mm（高）； 
　　2,，采用側面對開方式,，便于工件裝卸； 
　　3,，外壁通冷卻水,，冷卻水管采用半圓管焊接方式，焊縫美觀,，平整,； 
　　4，3個觀察窗口,，左右門上各一個,，室體正前方一個； 
　　5,，抽氣室內安裝一個旋轉抽氣擋板,，旋轉角度范圍0～90° 
　　6，兩臺φ400mm口徑分子泵,； 
　　7,，1臺ZJP300型羅茨泵，增加氣動旁通閥,； 
　　8,，2臺2X-70型機械泵，一臺為粗抽泵,，一臺為分子泵維持泵,； 
　　9，φ400mm口徑高真空氣動閥2套,； 
　　 
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　　1,，一套公,，自轉工轉機構，采用下驅動方式的二維平面行星機構,，自轉軸20根,； 
　　2,，轉速0-8圈／分鐘可控可調； 
　　3,，驅動引入采用磁流體密封,； 
　　 
　　（四）,，真空測量系統(tǒng) 
　　1,，采用一臺數(shù)字式復合真空計； 
　　2,，一路高真空測量,，兩路低真空測量（室體一路，低真空管道一路）,。 
　　 
　?。ㄎ澹趴貫R射陰極靶 
　　1,，四對磁控濺射靶（四只外裝靶,，四只內裝靶，共八只靶） 
　　2,，磁控濺射靶靶材尺寸：912mm×120mm（長×寬）,；