掃描電鏡（SEM）技術(shù)參數(shù)：

1、分辨率1.0 nmat 15 kV,；1.7 nm at 1 kV,；4.0 nmat 0.1 kV

2、加速電壓0.1-30kV
3,、放大倍數(shù)12-900000
4,、探測電流4pA-20nA
5、電子槍：熱場發(fā)射

掃描電鏡（SEM）應(yīng)用范圍：

　　用于觀察樣品的表面形態(tài),、斷口形貌,、磨損表面形貌、納米結(jié)構(gòu)材料形態(tài),、生物樣品形貌等,；結(jié)構(gòu)分析、成分分析,。廣泛用于材料學(xué),、機械學(xué)、微電子學(xué),、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,。

公司合作的大型儀器設(shè)備主要有頂端的透射電鏡（包括球差電鏡,、FEI廠家的Tecnai G²F20、Tecnai G² F30）,，美國和德國的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,、美國賽默飛的光電子能譜儀（XPS  ESCALAB250Xi），法國的拉曼（LabRAM HR Evolution）,，麥克儀器公司的物理吸附吸附儀,、化學(xué)吸附儀,，粉末X射線衍射儀（D-MAX 2500/PC）等二十余臺大型設(shè)備，服務(wù)對象主要有青島,、武漢,、西安、上海,、北京,、哈爾濱等各大城市的高校及研究所，面向全國各地,。