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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>其它分析儀器>其它通用分析> KSV NIMA roll to roll 柔性LB膜制備系統(tǒng)

KSV NIMA roll to roll 柔性LB膜制備系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 瑞典百歐林科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地 芬蘭
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2025/3/25 10:30:17
  • 訪問次數(shù) 702

聯(lián)系方式:陳俊燕查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!


   瑞典百歐林科技有限公司是一家*科研儀器生產(chǎn)商,,在北歐的瑞典,,丹麥和芬蘭都有主要產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)基地。我們?yōu)橛脩籼峁└呖萍?、高精度的科研設(shè)備,,可用于表界面、材料科學(xué),、生物科學(xué),、藥物開發(fā)與診斷等研究領(lǐng)域,。
   我們同時專注于用戶的技術(shù)和應(yīng)用支持,,以及科技的發(fā)展與進步。我們的產(chǎn)品均基于*的測量技術(shù),,而這些技術(shù),,或為我們,或為我們*,,或在*科研與發(fā)展中占主導(dǎo)地位,。我們的核心戰(zhàn)略是,通過尋找具有廣闊商業(yè)前景的科研領(lǐng)域,,來應(yīng)用我們的產(chǎn)品與技術(shù),。我們的現(xiàn)階段包含三大產(chǎn)品線:

QSense:用于研究大分子界面以及相互作用的分析儀器

QSense Pro耗散型全自動八通道石英晶體微天平;

QSense Omni下一代全自動四通道石英晶體微天平,;

QSense Analyzer四通道石英晶體微天平QCM-D,;

QSense Explorer單通道擴展版QCM-D

QSense Initiator單通道基礎(chǔ)版QCM-D,;

KSV NIMA:單分子層薄膜的構(gòu)建與表征工具

LBLangmuir-Blodgett)膜分析儀,;

氣液、液液/氣固界面上有序單層和多層結(jié)構(gòu)的組裝和表征

布魯斯特顯微鏡;

無損實時監(jiān)測空氣/水界面處分子層的圖像

界面剪切流變儀,;

高靈敏度測量液體界面處的流變性能

浸漬鍍膜機,;

無振動,可程序控制的固體樣品浸漬方案

界面紅外反射吸收光譜儀

用于薄膜和漂浮的單分子層膜的*的表面光譜方法

Attension:界面科學(xué)與材料技術(shù)所用的表面張力測量設(shè)備

光學(xué)接觸角測量儀/表界面張力儀 Theta/Theta Lite/Theta QC光學(xué)接觸角測量儀

力學(xué)法表界面張力儀Sigma 700/701/702/702ET/703D表/界面張力儀

   主要的客戶來自于學(xué)術(shù)機構(gòu),、科研單位以及企業(yè)研發(fā)部門,。在科研領(lǐng)域,用戶使用我們的儀器作為分析工具,,以更好地開展基礎(chǔ)或應(yīng)用研究,,獲取和發(fā)表優(yōu)異的科研結(jié)果。在工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域,,分析儀器同時用于基礎(chǔ)研究和質(zhì)量控制過程,。我們的主要工業(yè)用戶均為各領(lǐng)域性的*。目前,,百歐林的用戶已遍布70多個國家和地區(qū),。

中國代表處:

邊長8cm 掃描距離0.5m.jpg

上海市浦東新區(qū)祖沖之路2290弄展想廣場1號樓1205

電話 86 21 6837 0071/68370072

 

 

 

石英晶體微天平,,耗散型石英晶體微天平,,QCM-D,LB膜分析儀,,布魯斯特角顯微鏡,,界面剪切流變儀,,光學(xué)接觸角測量儀,表面張力測量儀,,薄膜制備與分析儀器

應(yīng)用領(lǐng)域 化工

KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析儀用于制備和表征具有可控堆積密度的薄膜,。當我們需要以半連續(xù)的沉積程序來制備超大面積的薄膜時,可以使用這種特殊的KSV NIMA roll to roll 柔性 LB膜制備系統(tǒng),。


納米材料薄膜涂層制備


使用納米顆粒材料制備的涂層和薄膜在各種產(chǎn)品和應(yīng)用中越來越受到人們的重視和使用,,如顯示器、傳感器,、醫(yī)療器械,、儲能材料和能量采集材料等。成功制備出能同時滿足堆積密度,、分子取向,、膜厚度等多參數(shù)要求的均一涂層成為了*的科研挑戰(zhàn)。

而解決這種納米顆粒薄膜涂層制備的一類精密技術(shù)就是KSV NIMA 的Langmuir-Blodgett (LB) 技術(shù)和 Langmuir-Schaefer (LS) 技術(shù),。


技術(shù)優(yōu)勢


KSV NIMA Langmuir膜分析儀可以在液-氣界面制備單分子層,,而KSV NIMA Langmuir Blodgett膜分析儀可以在液-氣界面處形成單分子層,然后將該層作為涂層轉(zhuǎn)移到固體基質(zhì)上,。Langmuir和Langmuir-Blodgett技術(shù)具有*的優(yōu)勢,,它們在被廣泛應(yīng)用于研究一些基本的科學(xué)問題,。 這些優(yōu)點包括:


  • 精確控制分子堆積密度

  • 精確控制涂層厚度

  • 在大面積上均勻沉積

  • 可制備具有不同層結(jié)構(gòu)的多層結(jié)構(gòu)

  • 可使用不同種類的顆粒和基材,具有高度的靈活性

  • 在沉積之前可以預(yù)先監(jiān)控涂層質(zhì)量


KSV NIMA 柔性LB膜制備系統(tǒng)


KSV NIMA Langmiur和Langmuir-Blodgett膜分析儀是制備和研究單分子層的首要工具,?;?0年來研究Langmuir膜累積得到的專業(yè)知識和經(jīng)驗,KSV NIMA 膜分析儀系統(tǒng)已成為一款多用途,、功能強大的儀器,,可以幫助您獲得高質(zhì)量數(shù)據(jù)。該系統(tǒng)設(shè)計非常靈活和堅固,,可以確保超高質(zhì)量的結(jié)果,。當我們需要以半連續(xù)的沉積程序來制備超大面積的薄膜時,可以使用一種特殊的KSV NIMA 柔性 LB膜制備系統(tǒng),。


操作原理

如上圖所示,,在柔性膜制備過程中,柔性基材被連續(xù)地輸送入槽體,,在槽體中穿過單層納米顆?;蚱渌牧稀Mㄟ^對沉積參數(shù)進行精確控制,,能夠快速地沉積大面積的均勻薄膜,。柔性基材的運動由計算機控制的電動輥推動。在此過程中,,超靈敏度的微量天平實時監(jiān)測納米顆粒的堆積密度,。

特點與優(yōu)勢

質(zhì)量

  • 單個固體PTFE槽(包括浸漬井)可以輕松清潔,沒有任何膠水或涂層污染,。

  • 可調(diào)支架,、槽頂定位銷、限位開關(guān)和溢流通道確保系統(tǒng)的安全可靠使用,。支架可以很容易地移除來與顯微鏡集成,。

  • 集成所有高精度部件的外殼一體化設(shè)計,,堅固耐用,。

  • KSV NIMA廣泛的知識和應(yīng)用支持團隊讓您可以充分利用您的儀器-與當?shù)睾献骰锇楹凸こ處熀献鳌?/span>

可用性

  • 采用超靈敏的壓力傳感器,使用標準Wilhelmy白金板方法進行表面壓力感應(yīng),??蛇x用一次性紙板來避免清潔或在有限空間內(nèi)使用高質(zhì)量鉑金棒。

  • 功能強大的KSV NIMA LB軟件將所有控制和數(shù)據(jù)分析集成到同一軟件中,,包括不同的表征工具,。

  • 所有的槽都帶有集成的溫度控制通道,可以方便地與獨立恒溫水浴一起使用,。

多功能性

  • 專門的表征工具可以保證在涂層之前和涂層工藝之后的漂浮薄層質(zhì)量,。

  • 采用簡單的槽體和滑障放置的開放式模塊化設(shè)計,,便于與特征化系統(tǒng)集成,可升級并易于清潔零件,。

  • 同時允許在液-液界面處進行研究,,并且可以使用交替系統(tǒng)在單個實驗中對兩種不同材料自動進行交替鍍膜。

  • 提供各種配件如pH探頭,、不同尺寸的Wilhelmy板,、注射口等


應(yīng)用概述

KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析儀可用于制備高度復(fù)雜的有序薄膜。 這些應(yīng)用包括:

  • 用納米顆粒制備功能性涂層(改變例如潤濕性,、反射性,、生物相容性、導(dǎo)電性,、結(jié)合性質(zhì)等)

  • 在空氣-緩沖液界面處形成模型細胞膜,,研究毒素或藥物對細胞膜的影響

  • 形成用于研究聚合物交聯(lián)、穩(wěn)定性,、降解等的聚合物薄膜

  • 用多組分結(jié)構(gòu)構(gòu)建復(fù)雜的傳感器表面

  • 研究兩親分子的相互作用,、吸附、解吸,、界面穩(wěn)定性和結(jié)構(gòu)

  • 界面流變學(xué)研究,,以確定薄膜的穩(wěn)定性、相變或反應(yīng)

通常用于薄膜制作的材料包括:

  • 納米顆粒(聚合物,,陶瓷,,金屬)和石墨烯

  • 脂質(zhì)體和磷脂

  • 聚合物和低聚物

  • 蛋白質(zhì),多肽和其他生物聚合物

  • 量子點

  • 表面活性劑,、乳液,、膠體

  • 其他兩親性分子


軟件

KSV NIMA LB軟件是制備涂層和研究Langmuir薄膜的強大工具。 基于30年的經(jīng)驗,,KSV NIMA LB軟件包含有效和簡便的測量和數(shù)據(jù)處理所需的所有工具,。

多功能測試模式使得測量涵蓋從浸漬到壓縮等溫線、吸附研究和界面流變學(xué),。 該軟件將整個測量設(shè)置與結(jié)果一起保存,,便于分析。 所有數(shù)據(jù)都可以根據(jù)需要輕松查看,、繪圖,、報告和導(dǎo)出。

測試功能包括:

  • 用于沉積材料層的鍍膜模式,,包括鍍膜效果參數(shù)轉(zhuǎn)移比,,在整個浸漬過程中保持堆積密度恒定

  • 壓縮/弛豫等溫線,用于分子相互作用和相變

  • 等溫等壓線,,通過自動保持壓力穩(wěn)定并跟隨溫度/面積變化

  • 單分子層動力學(xué),,用于酶,、聚合或任何其他零級反應(yīng)

  • 酶、蛋白質(zhì),、肽和類似分子的吸附和滲透

  • 采用滑障振蕩法測試界面流變學(xué),,用于Langmuir膜的粘彈性研究、乳液或泡沫穩(wěn)定性等

  • 集成的KSV NIMA表征工具功能,,便于集成如與KSV NIMA 小型布魯斯特角顯微鏡· MicroBAM聯(lián)用時基于表面壓力的自動圖像記錄


應(yīng)用實例

納米顆粒,、石墨烯和氧化石墨烯涂層

LB和LS技術(shù)提供了制備高度有序堆積的納米顆粒薄膜的平臺。 這些涂層具有特殊功能,,可用于新的應(yīng)用,。

在KSV NIMA中型槽上使用Langmuir-Blodgett技術(shù)沉積在石英基底上的單分子層200nm直徑聚苯乙烯納米球。 (a)單分子層的AFM圖像,,(b)同一圖像的傅立葉變換,,表明采用該技術(shù)可實現(xiàn)優(yōu)異的結(jié)晶度。Copyright Dr. Alaric Taylor

浸漬鍍膜,、LB和LS技術(shù)已被證明是控制石墨烯和氧化石墨烯薄膜的優(yōu)良方法,。 這些方法大大提高了由液體剝離方法生產(chǎn)得到的SG和SGO的沉積分散可控性。由于液體剝離法被認為是具有*潛力的工業(yè)大規(guī)模生產(chǎn)石墨烯的方法,,因此這些沉積方法在石墨烯研究中具有重要意義,。

利用PM-IRRAS,可以記錄漂浮和沉積層的詳細IR光譜以確定化學(xué)組成,。 可制備一張石墨烯片,,以驗證LS是制備和研究單層石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。

Gilje, S. et al.,‘Nano Letters’(2007), 7, 3394-339

親脂性蛋白常常存在于細胞膜中,,漂浮單分子層模型可用于研究它們在接近原始環(huán)境時的相互作用,,研究參數(shù)包括不同環(huán)境或含量的膜的堆積密度。

配件

KSV NIMA提供了廣泛的配件選擇,,可以集成到系統(tǒng)中提供進一步的檢測表征功能,。包括:

  • MicroBAM 布魯斯特角顯微鏡用于確保預(yù)沉積膜的表面結(jié)構(gòu)完整性

  • 用于自動導(dǎo)入樣品顆粒或分子的自動進樣泵

  • 亞相蒸發(fā)補償工具,,防止長時間測量中的亞相蒸發(fā)

  • 用于研究分子取向排布的表面電位儀(SPOT)

  • Langmuir-Schaeffer水平沉積樣品架

  • 用于沉積環(huán)境的溫度監(jiān)控設(shè)備

  • 用于監(jiān)測沉積液體的pH測量探針

  • 用于將樣品直接導(dǎo)入亞相的注射端口

  • 用于研究分子取向排布的表面電位儀(SPOT)

  • Langmuir-Schaeffer水平沉積樣品架

  • 用于沉積環(huán)境的溫度監(jiān)控設(shè)備

  • 用于監(jiān)測沉積液體的pH測量探針

  • 用于將樣品直接導(dǎo)入亞相的注射端口


技術(shù)參數(shù)


KSV NIMA 柔性 LB膜制備系統(tǒng)

表面積

2330 cm2

槽體內(nèi)部尺寸

685 mm x 340 mm x 4 mm

滑障速度(mm/min)

0.1...270

滑障類型

1 個, POM材質(zhì)

膜天平測量范圍(mN/m)

0...300

膜天平分辨率 (mN/m)

0.03

膜天平數(shù)量

1 -2

亞相容積(mL)

5430

浸漬井尺寸

300 mm x 300 mm x 50 mm

柔性基板寬度

1…200 mm

柔性基板轉(zhuǎn)速

1…100 mm/min

輥軸運動位置分辨率

20 um

薄膜提拉角度

可調(diào)節(jié), 30°- 90 °

鍍膜方式手動或半自動

鍍膜方式手動或半自動

兼容性

LB膜浸漬鍍膜頭,、小型布魯斯特角顯微鏡、表面電位儀,、自動進樣泵,、亞相蒸發(fā)補償工具、LS水平鍍膜裝置等







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