Samco Internatio RIE反應離子蝕刻機研磨去層拋光反向
參考價 | ¥ 89000 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 儀準科技(北京)有限公司
- 品牌
- 型號 Samco Internatio
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2018/5/4 11:05:40
- 訪問次數(shù) 1303
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RIE反應離子蝕刻機研磨去層拋光反向失效分析
Samco International是始于1979年的等離子蝕刻與沉積系統(tǒng)制造商,;日本zui大的客制Plasma和Deposition設備供應商;日本京都,、美國硅谷,、英國劍橋、中國上海,、中國臺灣和東南亞都有我們的設備和服務支持,。Samco International為混合半導體、MEMS(微機電系統(tǒng)),、光電,、失效分析以及其他市場制造各種各樣的系統(tǒng)。我們的產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積zui小、性價比zui低著稱,,且生產(chǎn)可靠性久經(jīng)考驗,。從整套生產(chǎn)需要工具、到簡單的實驗室系統(tǒng),,Samco International均有提供,。
反應性離子蝕刻,簡稱為RIE,,RIE反應離子蝕刻機研磨去層拋光反向失效分析,,zui為各種反應器廣泛使用的方法,便是結合(1)物理性的離子轟擊與(2)化學反應的蝕刻,。此鐘方式兼具非等向性與高蝕刻選擇比等雙重優(yōu)點,,蝕刻的進行主要靠化學反應來達成,以獲得高選擇比,。加入離子轟擊的作用有二:一是將被蝕刻材質表面的原子鍵結破壞,,以加速反應速率。二是將再沉積于被蝕刻表面的產(chǎn)物或聚合物(polymer)打掉,,以使被蝕刻表面能再與蝕刻氣體接觸,。
RIE-10NR反應離子蝕刻設備特點:
1. 高選擇性各向異性腐蝕,符合苛刻的制程要求,;
2. 全自動"一鍵"操作*代替手動操作,;
3. 易于使用的電腦觸摸屏的參數(shù)控制和配方輸入和存儲;
4. 晶圓尺寸達8"英寸直徑,,圓滑,、緊湊的設計使用zui少的潔凈室空間;
5. RIE-10NR設計用于蝕刻氮化物,、氧化物和任意需要氟基化學的薄膜或基片,。其安裝在節(jié)省空間的平臺上的模塊化設計,使其成為*許多用戶的shou選系統(tǒng),;
6. 高級選項:ICP(電感耦合等離子),、渦淪泵、帶背側氦冷卻系統(tǒng)和端點檢測系統(tǒng)的靜電吸盤等,;
7. 業(yè)已全面開發(fā)出各種工藝,,用于對使用氟基化學的材料進行各向同性和各向異性蝕刻,其中包括:碳,、環(huán)氧樹脂,、石墨、銦,、鉬,、氮氧化物,、光阻劑、聚酰亞胺,、石英,、硅、氧化物,、氮化物,、鉭、氮化鉭,、氮化鈦,、鎢鈦以及鎢。RIE反應離子蝕刻機研磨去層拋光反向失效分析