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CMD2000/4 納米研磨機(jī)

參考價(jià) 108900
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司是一家中德合作經(jīng)營企業(yè),,依肯通過引進(jìn)德國xian進(jìn)技術(shù)和科學(xué)管理模式,,形成了完整的研發(fā)、制造及營銷體系,。她保持與quan球的混合乳化技術(shù)同步,,同時擁有yi流的技術(shù)研究人才和生產(chǎn)能力,為zhong國及quan球提供多元化的產(chǎn)品及技術(shù)服務(wù),。她已經(jīng)發(fā)展成為中國流體高剪切混合設(shè)備行業(yè)的者,。

       公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,,銷售流體領(lǐng)域的幾大系列:一高剪切分散乳化機(jī),二 均質(zhì)機(jī),,三 粉液混合設(shè)備,,四 膠體磨,五 攪拌機(jī),,六干燥機(jī)等系列,。為混合、分散,、均質(zhì),、懸浮、乳化,、濕磨,、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案,設(shè)備加工材料細(xì)度可達(dá)微納米級別,。依肯公司作為國nei的供應(yīng)商,,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,,混合技術(shù),,乳化均質(zhì),粉液混合技術(shù)和合理的配置方案,,確保設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定的可靠性,。她已廣泛應(yīng)用于石油、石化,、化工,、食品,、生物制藥、核工業(yè),、精細(xì)化工等領(lǐng)域,,并成功為guo家zhong點(diǎn)工程配套,部分產(chǎn)品返銷國外,,取得了顯zhu的經(jīng)濟(jì)效益和社會效益,。

 

      “追求高品質(zhì)”是依肯公司是的宗旨。“成功源自創(chuàng)新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標(biāo),。上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司將以求實(shí),、創(chuàng)新的企業(yè)精神走向市場。在您在關(guān)注和支持下,、她將以不斷發(fā)展壯大,,在混合乳化設(shè)備制造的廣闊天地中散發(fā)出*的魅力。

實(shí)驗(yàn)室分散機(jī),,高剪切乳化機(jī),,勻漿機(jī) 實(shí)驗(yàn)室膠體磨,高剪切乳化機(jī),管線式乳化機(jī)

納米研磨機(jī),進(jìn)口納米研磨機(jī),,德國是 是干磨的一種安全而高效的替代方案,。 
干磨產(chǎn)生大量灰塵,從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^濾系統(tǒng),。

 

的 

用轉(zhuǎn)子-定子裝置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:

· 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中,,因而從開始就避免了灰塵的形成。

· 與干磨系統(tǒng)不同,,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),,從而大幅減少了損失。因此,,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品,,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì),或者有毒物質(zhì)的研磨,。

· 相對干磨過程而言,,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易。

濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中,,并且取得了良好的效果,,因?yàn)樗浅_m用于API(活性藥用成分)。 

IKN分散機(jī)可直接結(jié)合到物質(zhì)合成過程中,。這使得濕磨過程與其他過程同時進(jìn)行,,從而能夠刪除后續(xù)工步。除了節(jié)省時間以外,需要的系統(tǒng)數(shù)量和接觸產(chǎn)品的表面尺寸可大幅減少,。管線式濕磨機(jī)非常適合于CIP或者SIP清潔,。濕磨機(jī)的好處使其成為具有吸引力的投資產(chǎn)品。 

IKN濕磨機(jī)基于轉(zhuǎn)子-定子原理,。IKN濕磨機(jī)的輸入剪切能大,,可實(shí)現(xiàn)10 μm及以下粒度。IKN濕磨機(jī)能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品,。鑒于其處理能力,,IKN濕磨機(jī)被用于諸多應(yīng)用,如織物涂料,、漆,、染紙顏料和潤滑脂濕磨。 

 

 

的結(jié)構(gòu) 

由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,,凹槽在每級都可以改變方向,。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫?,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度,、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要,。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高,,剪切間隙非常小,,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,,結(jié)果就是通常所說的濕磨,。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強(qiáng)的流體湍流下,,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,,可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

 

 的研磨分散效果 

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

 

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,,中齒,,細(xì)齒,超細(xì)齒,,約細(xì)齒效果越好)

物料在研磨腔體的停留時間,,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,,效果越好,到設(shè)備的期限,,就不能再好)

 

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率,。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g -轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距,。
IKN -轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

 

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 

的主要應(yīng)用 

  溶液中顆粒及脂肪球等超細(xì)破碎與均質(zhì)

          不相溶的固-液相懸浮物超細(xì)混合分散

               動物和植物組織的超細(xì)破碎及漿化加工

                   不相溶的液-液相溶液包容性微細(xì)乳化

                         納米材料團(tuán)聚物的強(qiáng)力解聚與超細(xì)分散,

 

納米研磨的參數(shù)和型號 

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù),。

2 處理量取決于物料的粘度,,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

 

更多詳情請接洽上海依肯 林經(jīng)理 

 



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