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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>恒溫/加熱/干燥>真空烘箱>PVD-090-HMDS 半導(dǎo)體電子HMDS預(yù)處理真空烘箱涂膠烤箱

PVD-090-HMDS 半導(dǎo)體電子HMDS預(yù)處理真空烘箱涂膠烤箱

參考價(jià) 130000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 上海實(shí)貝儀器設(shè)備廠
  • 品牌 TATUNG
  • 型號(hào) PVD-090-HMDS
  • 產(chǎn)地 上海奉賢
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2018/4/17 9:47:51
  • 訪問(wèn)次數(shù) 2985

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上海實(shí)貝儀器設(shè)備廠成立于2010年,,是生產(chǎn)銷售實(shí)驗(yàn)室設(shè)備、儀器儀表,、醫(yī)用及分析設(shè)備的廠家,,企業(yè)憑借有經(jīng)驗(yàn)的研發(fā)設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)及高效的制造能力,使產(chǎn)品技術(shù)不斷創(chuàng)新,改進(jìn)提升產(chǎn)品質(zhì)量?,F(xiàn)以生產(chǎn)銷售恒溫設(shè)備為核心的上海實(shí)貝儀器設(shè)備廠用全新的面貌服務(wù)客戶,,“服務(wù)于客戶,立足于客戶”是我們的經(jīng)營(yíng)理念,,也是我們一直秉承的銷售思路,,因?yàn)槲覀兿嘈趴蛻舨攀瞧髽I(yè)的原動(dòng)力,,也是企業(yè)發(fā)展的基本。我們提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,、完善的售后服務(wù),,并信守誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)的原則,服務(wù)好每一位客戶,,讓客戶滿意就是我們的責(zé)任與義務(wù),。
產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空、航天,、通訊,、機(jī)械電子、半導(dǎo)體,、電器,、汽車、化工,、生物醫(yī)藥,、醫(yī)療、食品,、農(nóng)業(yè)科學(xué),、紡織、??圃盒<翱蒲械雀黝I(lǐng)域,。
主營(yíng)產(chǎn)品: 干燥箱,高溫烘箱,,低溫恒溫培養(yǎng)箱,,真空干燥箱,高低溫試驗(yàn)箱,,恒溫恒濕箱,,生化培養(yǎng)箱,干烤滅菌器,,恒溫水浴箱,,老化箱,潔凈烘箱,,高溫?zé)o氧烤箱,,真空攪拌脫泡機(jī), HMDS真空烘箱,,各類工業(yè)流水線烘道產(chǎn)品及恒溫設(shè)備,。

 

 

干燥箱,真空干燥箱,,高溫烘箱,,恒溫培養(yǎng)箱,,低溫培養(yǎng)箱,恒溫恒濕箱,,生化培養(yǎng)箱,,霉菌培養(yǎng)箱,光照培養(yǎng)箱,,高低溫試驗(yàn)箱,,潔凈烘箱,高溫?zé)o氧烘箱,,熱風(fēng)循環(huán)烘箱,,老化箱,馬弗爐

半導(dǎo)體電子HMDS預(yù)處理真空烘箱涂膠烤箱

半導(dǎo)體電子HMDS預(yù)處理真空烘箱涂膠烤箱


 

HMDS預(yù)處理真空烘箱/HMDS涂膠烤箱

一,、預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),而涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,,涂膠工藝顯得更為必要,,尤其在所刻線條比較細(xì)的時(shí)候,任何一個(gè)環(huán)節(jié)出現(xiàn)一點(diǎn)紕漏,,都可能導(dǎo)致光刻的失敗,。在涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,,如果在晶片表面直接涂膠的話,,會(huì)造成光刻膠和晶片的黏合性較差,甚至造成局部的間隙或氣泡,,涂膠厚度和均勻性都受到影響,,進(jìn)而會(huì)影響了光刻效果和顯影,尤其是正膠,,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和晶片的連接處,,容易造成漂條、浮膠等,,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,,所以涂膠工藝中引入一種化學(xué)制劑HMDS(六甲基二硅氮甲烷,,英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到晶片表面后,,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,,是一種表面活性劑,它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,,起著偶聯(lián)劑的作用,。

二、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)與性能

2.1產(chǎn)品結(jié)構(gòu):

1.設(shè)備外殼采用SUS304不銹鋼材質(zhì),,內(nèi)膽316L不銹鋼材料制成,;不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁,內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置,;鋼化,、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實(shí)驗(yàn)情況。

2.箱門(mén)閉合松緊能調(diào)節(jié),,整體成型的硅橡膠門(mén)封圈,,確保箱內(nèi)保持高真空度。

3溫度微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動(dòng)控溫,、定時(shí),、超溫報(bào)警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鍵,控溫精確可靠。

4.智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,、溫度,、真空度及每一程序時(shí)間。

5.HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),,使真空箱密封性能*,,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。

6.無(wú)發(fā)塵材料,,適用百級(jí)光刻間凈化環(huán)境使用,。

2.2產(chǎn)品性能:

1.由于是在經(jīng)過(guò)數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會(huì)有塵埃的干擾,,系統(tǒng)是將去水烘烤和HMDS處理放在同一道工藝,,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤,,再接著進(jìn)行HMDS處理,,不需要從容器里傳出而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,,所以有著更好的處理效果,。

2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性,。

3.液態(tài)涂布是單片操作,,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片,效率高,。

4.用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多,,經(jīng)實(shí)踐證明,更加節(jié)省藥液,。

5. HMDS是有毒化學(xué)藥品,,人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃,、嘔吐、腹痛,、刺激呼吸道等,,由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽,,也就更加安全,,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染,,更加環(huán)保和安全,。

 

三、技術(shù)參數(shù):

型號(hào):PVD-090-HMDS

容積:90L

控溫范圍:R.T.+10~250℃

溫度分辨率:0.1℃

控溫精度:±0.5℃

隔板數(shù)量:2pcs

真空度:<133Pa(真空度范圍100~100000pa)

真空泵:DM4(外置連接)

電源:AC220/50HZ

額定功率:3.0KW

內(nèi)膽尺寸mm:450x450x450 (W*D*H)

外形尺寸mm:650x640x910 (W*D*H)

木箱包裝mm: 840x750x1100(W*D*H)

連接管:316不銹鋼波紋管,,將真空泵與真空箱*密封無(wú)縫連接

四,、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的原理:

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間,、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片,、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,,降低了光刻膠的用量,,提高光刻膠與硅片的黏附性。

五,、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程:

首先確定烘箱工作溫度,。典型的預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_(kāi)真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,,開(kāi)始充入氮?dú)?,充到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空,、充入氮?dú)獾倪^(guò)程,,到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,開(kāi)始保持一段時(shí)間,,使硅片充分受熱,,減少硅片表面的水分。然后再次開(kāi)始抽真空,,充入HMDS氣體,,在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,停止充入HMDS藥液,,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng),。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后,,再次開(kāi)始抽真空,。充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過(guò)程,。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖:首先加熱到100-200,,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),,在硅片表面生成硅醚,,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面,。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng),。

開(kāi)箱溫度可以由user自行設(shè)定來(lái)降低process時(shí)間,正常工藝在50分鐘-90分鐘(按產(chǎn)品所需而定烘烤時(shí)間),為正常工作周期不含降溫時(shí)間(因降溫時(shí)間為常規(guī)降溫)),。

六,、尾氣排放:

多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到廢氣收集管道,。在無(wú)廢氣收集管道時(shí)需做專門(mén)處理,。

七、產(chǎn)品操作控制系統(tǒng)配置:

1.標(biāo)配DM4直聯(lián)旋片式真空泵(外置)

2.LCD液晶顯示溫度控制器,PLC觸摸屏操作模塊

3.固態(tài)繼電器

4. 加急停裝置

其它選配:

1)波紋管2米或3米(標(biāo)配含1米)

2)富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動(dòng))

3)三色燈

4)增加HMDS藥液瓶

5)下箱柜子(304不銹鋼)

6)壓力記錄儀(曲線)

7)溫度記錄儀(曲線)

備注:選配壓力記錄儀,、溫度記錄儀時(shí),,因工藝需要改變?cè)O(shè)備整個(gè)外箱結(jié)構(gòu),請(qǐng)參考實(shí)物圖,。外殼采用SS41粉末靜電噴涂,,內(nèi)膽采用316L不銹鋼,外箱尺寸為(W*D*H)mm:980x655x1600(含下箱柜高700),,下箱柜空置,。

其它規(guī)格HMDS真空烘箱技術(shù)參數(shù):

規(guī)格型號(hào):PVD-210-HMDS

電源電壓:AC380V/50Hz

輸入功率:4000W

控溫范圍:室溫+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動(dòng)度:±0.5℃

真空度極限:<133Pa

容積:210L

內(nèi)室尺寸(mm):560*640*600

外形尺寸(mm):720*820*1050

載物托架:3塊

時(shí)間單位:分鐘

 

 

 



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