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300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

磁控濺射鍍膜儀

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  合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年,,是由一群來自麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的材料研究人員創(chuàng)辦的美國MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院合資興辦的高新技術(shù)企業(yè),。主要生產(chǎn)氧化物晶體(A--Z)和材料實驗室成套設(shè)備:包括“混料-壓料-燒料”(混料機、壓片機,、箱式爐,、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸,、金剛石線切割機,、自動研磨、拋光機),。公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸,、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品,,其中包括:箱式爐,、氣氛爐、管式爐,、井式爐,、RTP快速升溫爐,、高溫高壓爐、鍍膜機,、清洗劑及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實驗室設(shè)備?,F(xiàn)已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實驗室設(shè)備的*,為科研工作者提供材料研究解決方案,。產(chǎn)品設(shè)計*,、性能優(yōu)異,質(zhì)量可靠,,性價比高,,環(huán)保節(jié)能、返修率低,,遠(yuǎn)銷到歐洲,,美國,日本,,德國等許多國家,,廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué),、冶金,、醫(yī)學(xué)、新能源材料研發(fā)等領(lǐng)域,,受到客戶*好評。
 
  科晶公司秉承"以人為本,、技術(shù)為導(dǎo),、誠信為基、積極創(chuàng)新"的經(jīng)營理念,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學(xué)進(jìn)步和社會發(fā)展做出貢獻(xiàn),。
 

真空管式爐,,高溫箱式爐,高速震動球磨機,,RTP快速退火爐,,高溫高壓爐,涂覆機,,電池制備設(shè)備等

   VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),,系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W13.5MHz)的RF電源,、2"的磁控濺射頭,、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等,。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,,它是一款物美價廉的實驗幫手,。
我們用此設(shè)備得到擇優(yōu)取向的ZnO薄膜


技術(shù)參數(shù)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 800W  (包括真空泵)

等離子源

一個300W13.5MHz的射頻電源安裝在移動柜內(nèi)

(點擊圖片查看詳細(xì)資料)


磁控濺射頭

  • 一個 2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),,采用快速接頭與真空腔體相連接
  • 靶材尺寸直徑為50mm,zui大厚度6.35mm
  • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作,,見圖左3)
  • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機)
  • 同時可選配1英寸濺射頭

真空腔體

  • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作,,采用硅膠密封圈密封
  • 一個不銹鋼網(wǎng)罩住整個石英腔體,,以屏蔽等離子體
  • 真空度:10-3 Torr (采用雙極旋片真空泵)
  •         10-5 torr (采渦旋分子泵)

載樣臺

  • 載樣臺可旋轉(zhuǎn)(為了制膜更加均勻)并可加熱
  • 載樣臺尺寸:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉(zhuǎn)速度:1 - 20 rpm
  • 樣品的zui高加熱溫度為700℃,(短期使用,,恒溫不超過1小時),,長期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10

真空泵

可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統(tǒng)

   

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)控薄膜的厚度,,分辨率為0.10 ?  
  • LED顯示屏顯示,,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

外形尺寸

             

質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證

  • 一年質(zhì)保期,終生維護(hù)
  • CE認(rèn)證

使用注意事項

  • 這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜,,所以并不需要太高的真空度
  • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣,,建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗,可有效減少真空腔體中的氧含量
  • 請用純度大于5N的Ar來進(jìn)行等離子濺射,,甚至5NAr中也含有10- 100 ppm的氧和水,,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后,再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)





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