1200℃滑動(dòng)式單溫區(qū)/雙溫區(qū)/三溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品用途：

此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試,、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控

生長(zhǎng),、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn),。

產(chǎn)品組成：

CVD系統(tǒng)配置：

1,、1200度開啟式真空管式爐（可選配多溫區(qū)）。

2,、滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng),、電動(dòng)滑動(dòng)，并配有風(fēng)冷系統(tǒng),。

3,、多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4、真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）

1200℃滑動(dòng)式單溫區(qū)/雙溫區(qū)/三溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：

1,、控制電路選用模糊PID程控技術(shù),，該技術(shù)控溫精度高，熱慣性小,，溫度不過沖,，性能可靠,，操作簡(jiǎn)單。

2,、中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動(dòng)控制功能,，高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng)，耐沖擊分子泵,，防止意外漏氣造成分子泵損壞,，延長(zhǎng)系統(tǒng)使用壽命。

3,、(電動(dòng))滑動(dòng)系統(tǒng)采用溫度控制器自動(dòng)控制爐體移動(dòng),，等程序完成，爐體按設(shè)定的速度滑動(dòng),，因有滑動(dòng)限位功能爐體不會(huì)發(fā)生碰撞,，待樣品露出爐體后，通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫,。

產(chǎn)品圖片：