CVD系統(tǒng)適用領(lǐng)域：

    CVD系統(tǒng)設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室,、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn),，除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),，包括納米電子學(xué),、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā),、涂料等領(lǐng)域 ,。

    CVD成長系統(tǒng)是利用氣態(tài)化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而在基體表面上生成不揮發(fā)涂層的一種薄膜材料制備系統(tǒng),。

CVD系統(tǒng)產(chǎn)品的特點：
    1.兼容,、常壓,、微正壓多種主流的生長模式
    2.可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進行石墨烯的生長
    3.使用計算機控制，可以設(shè)置多種生長參數(shù)
    4.可以制備高質(zhì)量,，大面積石墨烯等碳材料,，尺寸可達(dá)數(shù)厘米，研究動力學(xué)過程
    5. 沉積效率高,；薄膜的成分可控,，配比范圍大；厚度范圍廣,，由幾百埃至數(shù)毫米,，可以實現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)

產(chǎn)品用途：

此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜,、陶瓷基片導(dǎo)電率測試,、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控

生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火,，快速降溫等工藝實驗,。

產(chǎn)品組成：

配置：

1.1200度開啟式真空管式爐（可選配多溫區(qū)）。

2.滑動系統(tǒng)分為手動,、電動滑動,，并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。

3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）    




控制電路選用模糊PID程控技術(shù),，該技術(shù)控溫精度高,，熱慣性小，溫度不過沖,，性能可靠,，操作簡單。



中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能,，高真空系統(tǒng)采用高壓強,，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞,，延長系統(tǒng)使用壽命,。

電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成,，爐體按設(shè)定的速度滑動,，因有滑動限位功能爐體不會發(fā)生碰撞,，待樣品露出爐體后,，通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。