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JG-TP 光譜隨偏儀

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橢偏儀光譜隨偏儀*

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       璟瑞儀器儀表有限公司是集機,、電,、儀于一體化的試驗機專業(yè)生產(chǎn)廠商--專業(yè)生產(chǎn)銷售產(chǎn)品質(zhì)量檢驗設備。經(jīng)過努力開發(fā),,本公司已有三十多個系列一千多個品種,,適用于航天航空、車輛制造,、科研單位,、質(zhì)檢機構(gòu)、大專院校,、材料開發(fā),、物性萬能材料試驗機、教學研究,、品質(zhì)管制,、進料檢驗、科研開發(fā),、教學領域,、生產(chǎn)領域:辦公椅,、紙箱、紙板,、皮革,、環(huán)境試驗機、核能,、冶金,、家電、建材,、包裝業(yè),、質(zhì)檢、科研,、金屬,、塑料,、橡膠,、薄膜、土工布,、紗線,、纖維、紙張,、電線電纜,、彈簧、鋁塑復合管,、人造大理石,、水泥、包裝材料,、膠帶等進行循環(huán),、疲勞、松馳,、杯突,、蠕變、拉伸,、拉力,、壓縮、彎曲,、撕裂,、剝離、剪切,、穿刺,、頂破,、扭轉(zhuǎn)等力學性能測試和分析所*的。在非標準試驗設備方面,,更有一套豐富的實踐經(jīng)驗,,適用國內(nèi)外不同的領域的生產(chǎn)和測試。世界規(guī)范; ISO, BIFMA, ASTM, DIN, EN, GB ,JIIS, ANSI, UL,TAPPI, AATCC, IEC,VDE……均為所用,。
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實驗室通風柜,通風櫥,高低溫濕熱試驗箱,高低溫交變試驗箱,電子拉力試驗機

一,、光譜橢偏儀適用于材料范圍:

半導體、電介質(zhì),、聚合物,、有機物、金屬,、多層膜物質(zhì)等

二,、光譜橢偏儀
技術(shù)參數(shù):

膜厚范圍

1nm~5um

厚度分辨度

0.1 nm

膜厚準確度

1mm

光學參數(shù)

可得出:n(折射率)、k(吸收率)值

折射率精度

0.005

測量時間

3~15秒(典型10秒)

入射角度

70°(其它可選)

波長范圍

450 - 900 nm ( 380 - 780 nm 可選)

波長分辨率

4 nm

光斑大小

2×4 mm(200×400um可選)

樣品定位允許誤差

高度允許±1.5 mm,,角度允許±1°,。不需進行樣品放置高度和角度調(diào)整

顯微鏡

可與顯微鏡匹配使用,用于同時觀察膜層和材料的微觀結(jié)構(gòu)

掃描測量

可以掃描測量,,掃描范圍6英寸或12英寸

真空應用

可以在真空和非真空環(huán)境中使用

三,、光譜橢偏儀涉及領域行業(yè):

半導體、通訊,、數(shù)據(jù)存儲,、光學鍍膜,、平板顯示器、科研,、生物,、醫(yī)藥…


四、光譜橢偏儀檢測范圍:

1,、早些年,,橢偏儀的工作波長為單波長或少數(shù)獨立的波長,zui典型的是采用激光或?qū)﹄娀〉葟姽庾V光進行濾光產(chǎn)生的單色光源?,F(xiàn)在大多數(shù)的橢偏儀在很寬的波長范圍內(nèi)以多波長工作(通常有幾百個波長,,接近連續(xù))。和單波長的橢偏儀相比,,多波長光譜橢偏儀有下面的優(yōu)點:可以提升多層探測能力,,可以測試物質(zhì)對不同波長光波的折射率等。

2,、光譜橢偏儀的光譜范圍在深紫外的142nm到紅外33µm可選,。光譜范圍的選擇取決于被測材料的屬性、薄膜厚度及關心的光譜段等因素,。例如,,摻雜濃度對材料紅外光學屬性有很大的影響,,因此需要能測量紅外波段的橢偏儀,;薄膜的厚度測量需要光能穿透這薄膜,到達基底,,然后并被探測器檢測到,,因此需要選用該待測材料透明或部分透明的光譜段;對于厚的薄膜選取長波長更有利于測量,。

五,、光譜橢偏儀工作原理

1、給出了橢偏儀的基本光學物理結(jié)構(gòu),。已知入射光的偏振態(tài),,偏振光在樣品表面被反射,測量得到反射光偏振態(tài)(幅度和相位),,計算或擬合出材料的屬性,。

2、入射光束(線偏振光)的電場可以在兩個垂直平面上分解為矢量元,。P平面包含入射光和出射光,,s平面則是與這個平面垂直。類似的,,反射光或透射光是典型的橢圓偏振光,,因此儀器被稱為橢偏儀,。關于偏振光的詳細描述可以參考其他文獻。在物理學上,,偏振態(tài)的變化可以用復數(shù)ρ來表示:

 3,、其中,ψ和?分別描述振幅和相位,。P平面和s平面上的Fresnel反射系數(shù)分別用復函數(shù)rp和rs來表示,。rp和rs的數(shù)學表達式可以用Maxwell方程在不同材料邊界上的電磁輻射推到得到。

4,、其中?0是入射角,,?1是折射角。入射角為入射光束和待研究表面法線的夾角,。通常橢偏儀的入射角范圍是45°到90°,。這樣在探測材料屬性時可以提供*的靈敏度。每層介質(zhì)的折射率可以用下面的復函數(shù)表示

5,、通常n稱為折射率,,k稱為消光系數(shù)。這兩個系數(shù)用來描述入射光如何與材料相互作用,。它們被稱為光學常數(shù),。實際上,盡管這個值是隨著波長,、溫度等參數(shù)變化而變化的,。當代測樣品周圍介質(zhì)是空氣或真空的時候,N0的值通常取1.000,。

6,、通常橢偏儀作為波長和入射角函數(shù)的ρ的值(經(jīng)常以ψ和?或相關的量表示)。一次測量完成以后,,所得的數(shù)據(jù)用來分析得到光學常數(shù),,膜層厚度,以及其他感興趣的參數(shù)值,。如下圖所示,,分析的過程包含很多步驟。

7,、可以用一個模型(model)來描述測量的樣品,,這個模型包含了每個材料的多個平面,包括基底,。在測量的光譜范圍內(nèi),,用厚度和光學常數(shù)(n和k)來描述每一個層,對未知的參數(shù)先做一個初始假定,。zui簡單的模型是一個均勻的大塊固體,,表面沒有粗糙和氧化,。這種情況下,折射率的復函數(shù)直接表示,。但實際應用中大多數(shù)材料都是粗糙或有氧化的表面,,因此上述函數(shù)式常常不能應用。

8,、下一步,,利用模型來生成Gen.Data,由模型確定的參數(shù)生成Psi和Detla數(shù)據(jù),,并與測量得到的數(shù)據(jù)進行比較,,不斷修正模型中的參數(shù)使得生成的數(shù)據(jù)與測量得到的數(shù)據(jù)盡量*。即使在一個大的基底上只有一層薄膜,,理論上對這個模型的代數(shù)方程描述也是非常復雜的,。因此通常不能對光學常數(shù)、厚度等給出類似上面方程一樣的數(shù)學描述,,這樣的問題,,通常被稱作是反演問題。

9,、zui通常的解決橢偏儀反演問題的方法就是在衰減分析中,,應用Levenberg-Marquardt算法。利用比較方程,,將實驗所得到的數(shù)據(jù)和模型生成的數(shù)據(jù)比較,。通常,定義均方誤差為:

10,、在有些情況下,,zui小的MSE可能產(chǎn)生非物理或非*的結(jié)果,。但是加入符合物理定律的限制或判斷后,,還是可以得到很好的結(jié)果。衰減分析已經(jīng)在橢偏儀分析中收到成功的應用,,結(jié)果是可信的,、符合物理定律的、精確可靠,。

六,、光譜隨偏儀器結(jié)構(gòu)構(gòu)造:

1、在光譜橢偏儀的測量中使用不同的硬件配置,,但每種配置都必須能產(chǎn)生已知偏振態(tài)的光束,。測量由被測樣品反射后光的偏振態(tài)。這要求儀器能夠量化偏振態(tài)的變化量ρ,。

2,、有些儀器測量ρ是通過旋轉(zhuǎn)確定初始偏振光狀態(tài)的偏振片(稱為起偏器),。再利用第二個固定位置的偏振片(稱為檢偏器)來測得輸出光束的偏振態(tài)。另外一些儀器是固定起偏器和檢偏器,,而在中間部分調(diào)制偏振光的狀態(tài),,如利用聲光晶體等,zui終得到輸出光束的偏振態(tài),。這些不同的配置的zui終結(jié)果都是測量作為波長和入射角復函數(shù)ρ,。

3、在選則合適的橢偏儀的時候,,光譜范圍和測量速度也是一個通常需要考慮的重要因素,。可選的光譜范圍從深紫外的142nm到紅外的33µm,。光譜范圍的選擇通常由應用決定,。不同的光譜范圍能夠提供關于材料的不同信息,合適的儀器必須和所要測量的光譜范圍匹配,。

4,、測量速度通常由所選擇的分光儀器(用來分開波長)來決定。單色儀用來選擇單一的,、窄帶的波長,,通過移動單色儀內(nèi)的光學設備(一般由計算機控制),單色儀可以選擇感興趣的波長,。這種方式波長比較準確,,但速度比較慢,因為每次只能測試一個波長,。如果單色儀放置在樣品前,,有一個優(yōu)點是明顯減少了到達樣品的入射光的量(避免了感光材料的改變)。另外一種測量的方式是同時測量整個光譜范圍,,將復合光束的波長展開,,利用探測器陣列來檢測各個不同的波長信號。在需要快速測量的時候,,通常是用這種方式,。傅立葉變換分光計也能同時測量整個光譜,但通常只需一個探測器,,而不用陣列,,這種方法在紅外光譜范圍應用。



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