立式管式爐配備真空控制系統(tǒng)。通過各種真空控制系統(tǒng),，可以實(shí)現(xiàn)樣品在低,、中,、高真空環(huán)境下進(jìn)行試驗(yàn)。
立式管式爐的氣體流量控制系統(tǒng),。通過浮子或質(zhì)量流量控制器調(diào)節(jié)進(jìn)氣量，以滿足用戶在不同反應(yīng)氣氛或保護(hù)氣氛條件下的實(shí)驗(yàn)要求,。

組成的CVD系統(tǒng)主要應(yīng)用在新型材料測試,，氧化鋅納米結(jié)構(gòu)的可控生長、熒光粉材料,、金屬材料,、半導(dǎo)體材料、陶瓷材料,、電化學(xué),、薄膜材料、石墨烯,、碳納米管,、納米線等領(lǐng)域。

為產(chǎn)品,，具有多項(xiàng)獨(dú)立的知識產(chǎn)權(quán),，外觀美觀，使用方便

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