新一代GC PLOT 柱
?? 新型鍵合技術(shù)zui小化微粒脫落,，減少柱堵塞，保護(hù)儀器部件,。
?? 連續(xù)穩(wěn)定的流速意味著在 Deans 以及相關(guān)的流動切換技術(shù)中的保留
時間很穩(wěn)定,。
?? 優(yōu)異的對稱色譜峰改進(jìn)了氣體,、溶劑和烴的純度分析,。
可供選擇的柱子：
Rt®-Alumina 鍵合柱、Rt®-QS-鍵合柱,、Rt®-Msieve ,、Rt®-S-鍵合柱、
Rt®-Q-鍵合柱,、Rt®-U-鍵合柱,、New MXT®- Alumina 鍵合柱、New MXT®- Msieve
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新一代多孔層開口管柱（PLOT）
1. 穩(wěn)定的微粒涂層提高了保留時間和流速的穩(wěn)健性和重復(fù)性,。
2. *符合閥門切換和 Deans 切換系統(tǒng),。
3. 、重復(fù)性分析,，是*氣體,、溶劑和烴類的理想選擇。
4. 新的制作工序減少了微粒脫落,，改進(jìn)了多孔聚合物柱,、分子篩柱和PLOT
柱的性能。
多孔層開口管柱（PLOT）非常適合解決實(shí)際應(yīng)用的難題,，特別是揮發(fā)性化合
物的分析,。PLOT 柱具有*的選擇性，室溫下可以分離氣態(tài)化合物,。由于PLOT
柱中載體的吸附機(jī)理,，可以溶解室溫下的*氣體和輕烴，然后柱子程序升溫到
較高溫度,，蒸餾出較高沸點(diǎn)的化合物,。

傳統(tǒng)PLOT 柱的穩(wěn)定性比較差
傳統(tǒng)型PLOT 柱是由5-50μm 的微粒涂層粘附在管壁上制作而成。由于這種微
粒涂層缺乏穩(wěn)定性,，所以PLOT 柱必須謹(jǐn)慎使用,，因為微粒容易脫落，可能導(dǎo)致
保留時間和流動特性異常的變化,。通常,，PLOT 柱必須和微粒捕集器結(jié)合使用，
目的是防止閥門,、進(jìn)樣口和GC 檢測器被污染,。圖1 是一個微粒堆積導(dǎo)致
Press-Tight®襯管內(nèi)部堵塞的例子。如果不使用微粒捕集器,，微粒就會擊打檢測
器,，導(dǎo)致電子噪聲，表現(xiàn)出來的就是基線毛刺,；對于閥門來說,，微?？赡芫头e聚
在里面，導(dǎo)致泄露,。

新型PLOT 柱zui小化微粒脫落
Restek 開發(fā)的新工藝研制出的PLOT 柱具有集中,、穩(wěn)定的吸附層。新一代PLOT
色譜柱表現(xiàn)出穩(wěn)定的流動特性（通透性）,，顯著改進(jìn)了機(jī)械穩(wěn)定性,，使得操作更
容易、減少微粒脫落,，從而成為性能更好的色譜分析,。穩(wěn)定性更好的微粒意味著
保留時間的重復(fù)性更高、沒有尖峰,、柱子的壽命更長,。目前，這種創(chuàng)新型穩(wěn)定化
學(xué)技術(shù)應(yīng)用于Rt®-Alumina 鍵合柱,、Rt®-Msieve ,、Rt®-Q-鍵合柱、Rt®-QS-鍵合
柱,、Rt®-S-鍵合柱,、Rt®-U-鍵合柱等熔融石英柱。同時,，也應(yīng)用于*的金屬柱
包括MXT®-Alumina 鍵合柱和MXT®- Msieve 柱,。

限流因子（F）的一致性保證了流動特性的再現(xiàn)性
傳統(tǒng)工序制作的PLOT 柱，微粒不容易沉積在均勻的厚涂層上,，導(dǎo)致涂層的
厚度不均勻一致,。涂層比較厚的位置會限制和影響流速（圖2）。受這些限制因
素數(shù)量和強(qiáng)度的影響,，傳統(tǒng)PLOT 柱比涂壁空心柱的限流更易發(fā)生變化。實(shí)際上,，
在相同公稱壓力下使用相同尺寸的常規(guī)PLOT 柱,，它們的流速也會因4-6 個因素
的影響而不同。流動比較重要的應(yīng)用中,，比如Deans 切換器中,，大多數(shù)商業(yè)用
PLOT 柱的不穩(wěn)定的流動特性是個難題。
 

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