奧林巴斯顯微鏡

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冷凍斷裂裝置技術(shù)應(yīng)用

奧林巴斯顯微鏡的斷裂在特殊的冷凍斷裂儀中進(jìn)行,。冷凍斷裂儀有多種商品出售,，其

復(fù)雜程度也有很大差別，

但原理都是相同的,，

它們都是一個真空噴鍍儀和一個冷凍斷裂裝置

組成的?，F(xiàn)以本室的日立

HHS

一

5GB

冷凍斷裂儀為例說明其原理。

  奧林巴斯顯微鏡的冷凍斷裂裝置,。其主要部件有兩個：刀座和樣品座,，均由導(dǎo)熱良

好的銅制成。

刀座上安置一刀片,，

它可沿樣品座上的導(dǎo)軌順斜面下滑,。

樣品座上可安放樣品

杯,。當(dāng)拉動塑料支撐塊時,，刀座下滑，將樣品切斷,。在刀座上方與前方各有一孔,，供噴鉑與

噴碳用。樣品座上可裝上蝕到加溫器,，使樣品升溫,。刀座前還有一隔熱板，

以阻擋噴鍍時的

熱輻射,。為保證整個裝置有良好的導(dǎo)熱,、

滑動與切斷性能，每次使用前均應(yīng)認(rèn)真擦拭,，

除去

上面的油污,、水份和氧化層,。必要時可用拋光膏，丙酮清洗表面,。

  奧林巴斯顯微鏡使用時,，將刀座和樣品座置入液氮中冷凍待液氯停止沸騰后，取出,，

并在室溫下迅速將經(jīng)過冷凍的樣品連同樣品杯一

‘

起裝到樣品座亡,，再將刀座放在樣品座導(dǎo)

軌上方，下面墊以塑料文撐塊,，

插攢舶入隔熱板,，

然后將整個裝置再次故人液氮冷卻。

待液

氯沸騰停止,，

立即提出,，

放到真空明鍍儀的噴鍍臺上，

技上支撐塊的拉繩,，

接通溫度控制器,，

蓋放真空罩開始抽真空。

 奧林巴斯顯微鏡真空噴銨儀內(nèi)的真空度達(dá)到樣品溫度時,，通過快門把手迅速拉動真

空罩內(nèi)的支撐塊,，

刀座即從樣品座的斜面上滑下，

并將樣品切斷,，

在樣品杯內(nèi)留下一個帶裂

面的樣品,。

 有時奧林巴斯顯微鏡需要研究腹表面的結(jié)構(gòu)，這就要使樣品慢慢升溫,，令冰升華,，把

膜內(nèi)外表面暴露出來，這一過程稱為蝕到,。蝕刻速度與溫度和真空度有關(guān),。

具體作法是，在

樣品斷裂后．在的真空度下,，用蝕刻加溫器使樣品溫度慢慢升至,，并在該條件下維持

3

一

10

分鐘。

奧林巴斯顯微鏡的斷裂或蝕刻后的樣品均需噴鍍,。

噴鍍的目的是在暴露的樣品表面造成

一個連續(xù)的,，具有足夠反差并富有立體感的薄膜，印制備樣品表面的復(fù)型,。

 奧林巴斯顯微鏡噴鍍分兩步進(jìn)行,。

先在與樣品成

45

。

A

的方向通過噴鉑孔噴鍍。

為此,，

先要在的真空度下,，使帶有鑰珠的碳棒預(yù)熱，再加大電流使鉑在

2

—

3

秒鐘內(nèi)熔融氣化,，當(dāng)

剛剛出現(xiàn)碳花時,，即終止通電。第：

：步為噴碳,，其噴鍍方向與樣品表面垂直,。每次噴碳時

間為

1

秒，

總計可噴

4

—

5

次,。

每次間隔

3

—

4

秒,。

間歇噴碳的目的是防止樣品因過熱而發(fā)生

蝕刻。噴碳是為了在樣品表面形成一個連續(xù)的膜,。噴鉑與噴碳的方向,。

 以上所述的奧林巴斯顯微鏡冷凍超薄切片制備法適用于形態(tài)，

細(xì)胞化學(xué)或免疫標(biāo)記研

究,。

制備過程中樣品要通過一系列的水溶性介質(zhì),，

可稱為濕法。

濕法會使樣品中的可溶性成

份流失,，因此不能用于這些成份的研究,。

為研究紹胞中的可擴(kuò)散的，水溶性成份,，

應(yīng)當(dāng)使用

于法制備超薄切片,。