離子交換是指水通過(guò)離子交換柱時(shí)，水中的陽(yáng)離子和水中的陰離子(HCO-等離子) 與交換柱中的陽(yáng)樹(shù)脂的H+離子和陰樹(shù)脂的OH-離子進(jìn)行交換,，從而達(dá)到脫鹽的目的,。陽(yáng)、陰混柱的不同組合可使水質(zhì)達(dá)到更高的要求,。是目前成熟的常規(guī)制取純水,、超純水的裝置。(軟化器),、陰離子交換器,、混合離子交換器等。

缺點(diǎn)：樹(shù)脂飽和后需要用酸,、堿再生,。

、去離子水設(shè)備混合離子交換器(混床)

混床是指陰,、陽(yáng)樹(shù)脂裝在同一設(shè)備內(nèi),，水經(jīng)過(guò)混勻的陰、陽(yáng)樹(shù)脂層進(jìn)行除鹽,?；齑部梢钥醋魇怯稍S許多多陰陽(yáng)樹(shù)脂交錯(cuò)排列而組成的多組式復(fù)床，其陰,、陽(yáng)離子交換幾乎是同時(shí)進(jìn)行的,。經(jīng)H

型交換產(chǎn)生的H+和經(jīng)型交換OH-產(chǎn)生的可以互相中，因此交換反應(yīng)進(jìn)行十分*,，出水水質(zhì)很好,。用于陽(yáng)陰交換器，反滲透除鹽設(shè)備后,，制取高純水,。離子交換樹(shù)脂交換容量飽和，即需再生處理,，在容器內(nèi)把陽(yáng)陰離子分層,，進(jìn)行酸堿再生,，再生完畢后用壓縮氣體使陽(yáng)陰離子重新混合。

3,、去離子水設(shè)備主要的技術(shù)參數(shù)1,、工作壓力：0.1MPa～0.6Mpa 2、工作溫度：5～40(特殊溫度可以定做) 3,、單機(jī)流量：1T～100T 4,、操作方式：手動(dòng)操作或自動(dòng)控制5、產(chǎn)品規(guī)格：直徑：φ250～φ2000高H：1600～4500(特殊要求可以定做) 6,、過(guò)濾速度：15 m/h～25m/h 7,、筒體材料：

304、316L,、A3碳鋼及有機(jī)玻璃離子交換混床為深度脫鹽設(shè)備,，用于制造高純水，產(chǎn)水電阻率zui高為10-18MΩ·CM(25C),，二氧化硅含量(SIO2)≤0.02mg/L,，混床分為單、雙床,、拋光床,、雙床可一用一備,，（不影響生產(chǎn)用水的連續(xù)性); 可串聯(lián)使用,，以提高產(chǎn)水水質(zhì)，有效利用樹(shù)脂的交

換容量：當(dāng)生產(chǎn)用水量大時(shí),，可并聯(lián)使用,，運(yùn)行相當(dāng)靈活、方便出水電導(dǎo)率由高精度電阻率儀監(jiān)控,。環(huán)保型再生系統(tǒng),，高濃度酸堿通過(guò)射流器與進(jìn)水按一定的比例配制成再生溶液進(jìn)行再生，不需要酸堿泵及酸堿配制儲(chǔ)罐,，防止酸霧對(duì)環(huán)境的污染,。4、去離子水設(shè)備用途：1,、制藥水質(zhì)滿(mǎn)足中國(guó)藥典GMP標(biāo)準(zhǔn)2,、電子行業(yè)廣泛用于單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊，顯像管制造系統(tǒng)3,、化工原料配料用水,；4、電鍍行業(yè)沖洗用純水,；5,、生物工程,；

6、電路板芯片沖洗用純水