掃描電鏡是用聚焦電子束在試樣表面逐點掃描成像,。試樣為塊狀或粉末顆粒，成像信號可以是二次電子,、背散射電子或吸收電子,。其中二次電子是zui主要的成像信號。由電子槍發(fā)射的能量為5～35keV 的電子,，以其交叉斑作為電子源,，經(jīng)二級聚光鏡及物鏡的縮小形成具有一定能量、一定束流強度和束斑直徑的微細(xì)電子束,，在掃描線圈驅(qū)動下,，于試樣表面按一定時間、空間順序作柵網(wǎng)式掃描,。聚焦電子束與試樣相互作用,，產(chǎn)生二次電子發(fā)射（以及其它物理信號），二次電子發(fā)射量隨試樣表面形貌而變化,。二次電子信號被探測器收集轉(zhuǎn)換成電訊號,，經(jīng)視頻放大后輸入到顯像管柵極，調(diào)制與入射電子束同步掃描的顯像管亮度,，得到反映試樣表面形貌的二次電子像,。

掃描電鏡的特點

1.可以觀察直徑為0 ～30mm的大塊試樣（在半導(dǎo)體工業(yè)可以觀察更大直徑），制樣方法簡單,。   2.場深大（三百倍于光學(xué)顯微鏡）,，適用于粗糙表面和斷口的分析觀察；圖像富有立體感,、真實感,、易于識別和解釋。

3.放大倍數(shù)變化范圍大,，一般為15 ～200000 倍,，對于多相、多組成的非均勻材料便于低倍下的普查和高倍下的觀察分析,。

4.具有相當(dāng)高的分辨率,，一般為3.5 ～6nm。

5.可以通過電子學(xué)方法有效地控制和改善圖像的質(zhì)量，如通過調(diào)制可改善圖像反差的寬容度,，使圖像各部分亮暗適中,。采用雙放大倍數(shù)裝置或圖像選擇器，可在熒光屏上同時觀察不同放大倍數(shù)的圖像或不同形式的圖像,。

6.可進(jìn)行多種功能的分析,。與X射線譜儀配接，可在觀察形貌的同時進(jìn)行微區(qū)成分分析,；配有光學(xué)顯微鏡和單色儀等附件時,，可觀察陰極熒光圖像和進(jìn)行陰極熒光光譜分析等。 7.可使用加熱,、冷卻和拉伸等樣品臺進(jìn)行動態(tài)試驗,，觀察在不同環(huán)境條件下的相變及形態(tài)變化等

掃描電鏡的主要結(jié)構(gòu)

1.電子光學(xué)系統(tǒng)：電子槍；聚光鏡（*,、第二聚光鏡和物鏡）,；物鏡光闌。

2.掃描系統(tǒng)：掃描信號發(fā)生器,；掃描放大控制器,；掃描偏轉(zhuǎn)線圈。

3.信號探測放大系統(tǒng)：探測二次電子,、背散射電子等電子信號,。

4.圖象顯示和記錄系統(tǒng)：早期SEM采用顯象管、照相機等,。數(shù)字式SEM采用電腦系統(tǒng)進(jìn)行圖象顯示和記錄管理,。

5.真空系統(tǒng)：真空度高于10-4 Torr 。常用：機械真空泵,、擴散泵,、渦輪分子泵。

6.電源系統(tǒng)：高壓發(fā)生裝置,、高壓油箱,。