IC制造潔凈標(biāo)準(zhǔn)
   集成電路（IC）制造潔凈廠房是滿(mǎn)足半導(dǎo)體制造工藝需求的潔凈室,，該潔凈室對(duì)環(huán)境潔凈度、溫濕度,、振動(dòng),、ESD（靜電控制）,、AMC（氣態(tài)分子級(jí)污染物）控制等都有一定的要求,。相對(duì)于其他工業(yè)潔凈室，集成電路制造潔凈室有面積大,、潔凈等級(jí)高,、溫濕度控制精度高等特點(diǎn),。

FFU系統(tǒng)已成主流方案

　　根據(jù)潔凈室空氣循環(huán)特點(diǎn)可以將潔凈室分為三種類(lèi)型：循環(huán)空調(diào)機(jī)配合送風(fēng)口系統(tǒng),、循環(huán)風(fēng)機(jī)配合濕式密封系統(tǒng)和FFU（風(fēng)機(jī)過(guò)濾單元）循環(huán)系統(tǒng)。

　　*種形式在小規(guī)模低等級(jí)要求的潔凈室設(shè)計(jì)中被廣泛應(yīng)用，對(duì)于大面積高等級(jí)的潔凈室則存在運(yùn)行成本過(guò)高,、占用空間過(guò)大等缺點(diǎn)。

　　第二種形式的設(shè)計(jì)可以滿(mǎn)足集成電路制造潔凈室大面積高等級(jí)的要求，但運(yùn)行成本較高,，并且潔凈室風(fēng)速,、風(fēng)量調(diào)節(jié)困難,，系統(tǒng)升級(jí)改造困難，因此操作靈活性很低,。

　　第三種的FFU循環(huán)系統(tǒng)不僅節(jié)省運(yùn)行空間、潔凈度安全性高,、運(yùn)行成本低,，而且操作靈活性很高，可以在不影響生產(chǎn)的情況下隨時(shí)進(jìn)行系統(tǒng)升級(jí)和調(diào)整,，這些都能很好地滿(mǎn)足半導(dǎo)體制造的需求,，因此在半導(dǎo)體制造業(yè)FFU循環(huán)系統(tǒng)逐漸成為zui主要的潔凈設(shè)計(jì)方案。

　　FFU循環(huán)系統(tǒng)的特點(diǎn)是：整個(gè)潔凈室由靜壓層,、工藝層,、工藝輔助層和回風(fēng)通道組成，由FFU提供循環(huán)空氣的動(dòng)力，將新風(fēng),、循環(huán)風(fēng)混合后通過(guò)超過(guò)濾器送入工藝層和工藝輔助層,，靜壓層相對(duì)于工藝層為負(fù)壓。此外,，還有生產(chǎn)輔助區(qū)為集成電路制造廠務(wù)設(shè)備區(qū)域,，包括電力供應(yīng)、氣體和化學(xué)品供應(yīng),、超純水供應(yīng)等,。

AMC控制標(biāo)準(zhǔn)更加嚴(yán)格

　　集成電路制造對(duì)潔凈室環(huán)境的控制有較為嚴(yán)格的要求。不同的工藝制程對(duì)潔凈度的要求也各不相同,，例如光刻要求在1級(jí)的微環(huán)境下,，而化學(xué)機(jī)械研磨則只要求1000級(jí)的環(huán)境即可。

　　采用FFU系統(tǒng)的潔凈室一般通過(guò)FFU的分布率來(lái)決定該潔凈室的潔凈等級(jí),，潔凈室的正壓通過(guò)新風(fēng)量來(lái)控制,，潔凈室溫濕度的控制是通過(guò)循環(huán)空氣冷卻系統(tǒng)（RCU）和新風(fēng)空調(diào)系統(tǒng)（MAU）完成。

　　ESD也是半導(dǎo)體制造環(huán)境控制的重要內(nèi)容,，靜電釋放可能對(duì)產(chǎn)品和生產(chǎn)設(shè)備造成損害,，還可能引起硅片表面塵粒吸附，影響產(chǎn)品的良率,。靜電消除要在潔凈室設(shè)計(jì)上進(jìn)行總體考慮,，除了設(shè)備接地（包括潔凈墻板和高架地板，辦公設(shè)備等）外,，還要采用防靜電墻板,、高架地板，人員要求穿著防靜電的潔凈服,、潔凈鞋,。對(duì)存在ESD危害風(fēng)險(xiǎn)的設(shè)備和生產(chǎn)區(qū)域應(yīng)安裝靜電消除器。

　　AMC是危害生產(chǎn)工藝并導(dǎo)致成品率降低的分子態(tài)化學(xué)物質(zhì),。AMC會(huì)在半導(dǎo)體制造的柵底氧化,、薄膜、多晶硅和硅化物形成,、接觸成型,、光刻等多個(gè)關(guān)鍵工藝上造成各種危害，影響產(chǎn)品質(zhì)量,，是半導(dǎo)體制造面臨的越來(lái)越嚴(yán)峻的問(wèn)題,，也是生產(chǎn)環(huán)境控制中亟待解決的問(wèn)題,?？梢灶A(yù)見(jiàn)，隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展，對(duì)AMC的控制標(biāo)準(zhǔn)將越來(lái)越嚴(yán)格,，而單一的采用化學(xué)過(guò)濾器去除AMC的控制方法有許多條件限制,，并且會(huì)大幅提高運(yùn)行成本。因此應(yīng)該從設(shè)計(jì)選址,、設(shè)備選型,、改進(jìn)工藝流程等多方面加以考慮。

　　另外,，集成電路制造潔凈廠房對(duì)噪聲,、微振、照度等都有相關(guān)的規(guī)定和要求,，尤其是振動(dòng)的控制,，在潔凈室的建筑結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上就要有所要求。關(guān)鍵設(shè)備必須安裝單獨(dú)的防振基礎(chǔ),。

潔凈系統(tǒng)設(shè)計(jì)突出節(jié)能理念

　　好的潔凈室設(shè)計(jì)不僅能節(jié)省能源,、降低運(yùn)行成本、降低人力投入,，而且可以給生產(chǎn)提供安全可靠的保證,。在3種潔凈系統(tǒng)中，FFU循環(huán)系統(tǒng)運(yùn)行成本zui低,，潔凈度安全性zui高,，因此集成電路潔凈廠房多采用FFU循環(huán)系統(tǒng)。而潔凈度要求越高,，溫濕度控制精度越高則潔凈室投資和運(yùn)行成本越高,，因此在大環(huán)境潔凈度或溫濕度要求相對(duì)較低的情況下，將一些關(guān)鍵的工藝設(shè)備布置在較高潔凈度或溫濕度控制區(qū)域內(nèi)（比如潔凈隧道和微環(huán)境）是集成電路制造潔凈廠房的設(shè)計(jì)趨勢(shì),。

　　MAU是潔凈系統(tǒng)運(yùn)行成本zui高的部分,，因此在設(shè)計(jì)上可以考慮通過(guò)熱回收進(jìn)行節(jié)能。夏季可以利用新風(fēng)空調(diào)的預(yù)熱盤(pán)管將熱回收到再熱盤(pán)管,，節(jié)省熱水用量,；采用噴淋室加濕設(shè)計(jì)，可以減少熱損失,，且可以穩(wěn)定而地去除新風(fēng)中的AMC,，延長(zhǎng)化學(xué)過(guò)濾器壽命。在運(yùn)行上要有效控制工藝排風(fēng)量以降低新風(fēng)用量,，降低MAU送風(fēng)溫度,，減少加熱量和潔凈室內(nèi)冷負(fù)荷。

　　集成電路制造是高能耗的產(chǎn)業(yè),，而潔凈空調(diào)系統(tǒng)的能耗則占其中的30%以上,，因此節(jié)能安全的潔凈室設(shè)計(jì)和各種熱能回收設(shè)計(jì)將是未來(lái)的發(fā)展方向,。　　隨著集成電路制造技術(shù)的不斷升級(jí)，主流大廠已經(jīng)進(jìn)入了納米時(shí)代,，集成電路制造潔凈廠房的設(shè)計(jì)建造和節(jié)能創(chuàng)新也需要不斷提升,，為*制程產(chǎn)品生產(chǎn)提供保障。