ZetaAPS 粒度及 Zeta 電位分析儀在有色樣品中的應(yīng)用展現(xiàn)了顯著的技術(shù)優(yōu)勢，其核心在于采用聲衰減光譜技術(shù)和多頻電聲測量，避免了傳統(tǒng)光學(xué)方法受顏色干擾的局限。以下從技術(shù)原理,、實際應(yīng)用和操作優(yōu)勢三方面展開說明：

一、技術(shù)原理與抗干擾機制

聲衰減光譜技術(shù)
ZetaAPS 通過測量 1-100 MHz 頻率范圍內(nèi)的聲衰減信號來分析顆粒粒度分布,。聲波穿透能力強,，不受樣品顏色或光吸收的影響,，即使是高濃度（如 60% 體積比）,、不透明或深色樣品（如炭黑、TiO?漿料）也能直接測量,，無需稀釋,。例如，在鋰電池陰極材料的研究中,，聲衰減技術(shù)測得的粒度分布比掃描電鏡（SEM）更具統(tǒng)計代表性,，且避免了稀釋導(dǎo)致的顆粒團聚風(fēng)險。

多頻電聲 Zeta 電位測量
該技術(shù)通過檢測顆粒在電場中的振動響應(yīng)計算 Zeta 電位,，無需依賴雙電層模型或光學(xué)信號,。對于有色樣品（如染料溶液或金屬納米顆粒），其表面電荷性質(zhì)可直接通過電聲信號反映,，不受顏色導(dǎo)致的光散射干擾,。

二、典型應(yīng)用領(lǐng)域與案例

以下胤煌科技實驗室為某企業(yè)做的一個深顏色樣本檢測案例

稀釋對傳統(tǒng)設(shè)備的檢測結(jié)果可能造成系統(tǒng)性偏差,。DLS檢測結(jié)果粒徑高估（偏差>50%）,、分布展寬。光阻法檢測造成顆粒計數(shù)缺失,、分布失真,。而 ZetaAPS 通過無需稀釋,、抗顏色干擾、多參數(shù)同步檢測,，從根本上避免了這些問題,，為深色復(fù)雜體系提供了更可靠的表征手段。

 ZetaAPS粒度及Zeta電位分析儀

深顏色樣品

第一次測試數(shù)據(jù)

第二次測試數(shù)據(jù)

 平行測試2次數(shù)據(jù)差異較小,，平行性較好

ZetaAPS 通過聲衰減光譜技術(shù)和多頻電聲測量,，解決了深顏色、高濃度樣品的檢測難題,。在胤煌科技實驗室的技術(shù)支持下,，通過精準的顆粒特性分析，推動了樣品工業(yè)化應(yīng)用,。這一案例充分體現(xiàn)了 ZetaAPS 在無需稀釋,、抗干擾、多參數(shù)同步檢測方面的優(yōu)勢,，為化工,、環(huán)保等領(lǐng)域的復(fù)雜體系分析提供了創(chuàng)新范式。

三,、操作優(yōu)勢與樣品兼容性

無需稀釋與預(yù)處理
傳統(tǒng)光散射方法需稀釋樣品以降低吸光度,，可能改變顆粒表面電荷狀態(tài)。ZetaAPS 允許直接測量高濃度（0.1-60% 體積比）,、高粘度或非水體系,，例如原油、煤漿等深色樣品,。此外,，其攪拌或泵送系統(tǒng)可避免顆粒沉降，確保測量準確性,。

多參數(shù)同步檢測

除粒度和 Zeta 電位外,，儀器還可實時測量 pH、電導(dǎo)率,、溫度和聲速等參數(shù),。例如，在 CMP 漿料分析中,，結(jié)合 Zeta 電位與電導(dǎo)率數(shù)據(jù)可更全面評估顆粒 - 溶液相互作用,。

硬件設(shè)計優(yōu)化

鍍金浸入式探頭：適用于獨立容器或樣品池，減少污染風(fēng)險,，尤其適合貴重或易變質(zhì)的有色樣品（如生物膠體）,。

自動滴定功能：快速定位等電點（IEP），例如在涂料分散體系中,，通過滴定曲線可直觀顯示 pH 對 Zeta 電位的影響,，指導(dǎo)配方優(yōu)化。

四,、總結(jié)

ZetaAPS 通過聲衰減和電聲技術(shù),，有效解決了有色樣品的光干擾問題，在納米材料,、化工,、環(huán)境等領(lǐng)域展現(xiàn)了廣泛應(yīng)用價值。其無需稀釋,、多參數(shù)同步檢測的特點,，為高濃度、深色或復(fù)雜體系的顆粒表征提供了可靠方案,。無論是實驗室研究還是工業(yè)生產(chǎn),，ZetaAPS 均能快速、準確地提供粒度分布和 Zeta 電位數(shù)據(jù),，助力材料性能優(yōu)化與工藝控制,。