X熒光光譜儀檢測電鍍鍍層厚度的原理,主要是基于X射線與物質(zhì)的相互作用,,具體如下:
原理核心
當X射線照射到電鍍鍍層表面時,,鍍層中的原子會被激發(fā),從而發(fā)射出具有特定能量的熒光X射線(特征X射線),。不同元素的特征X射線能量不同,,且其強度與鍍層的厚度相關。通過檢測這些熒光X射線的能量和強度,,結合相應的物理模型和算法,,即可計算出鍍層的厚度。
簡單理解類比
就像用光照一疊紙,,紙越厚,,透過的光強度越弱,。X熒光光譜儀則是通過檢測X射線穿過鍍層后(或被鍍層反射的)特征信號強度,來反推鍍層的“厚度”,。
關鍵優(yōu)勢
- 非破壞性:無需破壞樣品,,可直接檢測。
- 多元素同時分析:能同時檢測多種金屬鍍層(如鎳,、銅,、鉻等)的厚度。
- 快速精準:幾分鐘內(nèi)即可得到結果,,適合工業(yè)生產(chǎn)中的質(zhì)量監(jiān)控,。
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