

沈興志
珠海歐美克儀器有限公司產(chǎn)品經(jīng)理,,中國顆粒學(xué)會青年理事,全國顆粒表征與分檢及篩網(wǎng)標(biāo)委會顆粒分技術(shù)委員會委員,,具有超過20年的光學(xué)分析儀器的技術(shù)工作經(jīng)驗,。主要從事粒度分析儀、Zeta電位分析儀,、光譜儀等光學(xué)儀器在多種不同領(lǐng)域的應(yīng)用解決方案研究和開發(fā),、技術(shù)支持、應(yīng)用培訓(xùn)和推廣等方面工作,,并參與相關(guān)儀器的開發(fā)和完善,。協(xié)助分析儀器需求者開發(fā)和優(yōu)化合適的測試方法,使測試結(jié)果更可靠,。提供分析儀器在產(chǎn)業(yè)鏈中的質(zhì)控方法的管理和質(zhì)量信息的傳遞的技術(shù)咨詢和服務(wù),,使分析儀器能發(fā)揮其最佳的性能和社會效益。
綜述
OMEC
原料藥(API)和輔料的粒度分布是藥物制劑開發(fā)與生產(chǎn)中的關(guān)鍵物料屬性,,顆粒整體尺寸和級配(不同粒徑段含量)的不同會影響材料的可填充性,、流動性、混合均勻度,、穩(wěn)定性和成型壓力,,對于藥物制劑的生產(chǎn)可行性、工藝要求及產(chǎn)品均一性,、穩(wěn)定性,、溶出特性等質(zhì)量性能都有著顯著的影響。
大量的研究和實踐證明,,粒徑分布被認為是實現(xiàn)藥品目標(biāo)質(zhì)量指標(biāo)(QTPP)的關(guān)鍵物質(zhì)屬性,。有效的高質(zhì)量的藥物制劑各組分顆粒粒徑分布的表征測試是關(guān)系到藥物開發(fā)、生產(chǎn)工藝和工藝的擴大和轉(zhuǎn)移,、產(chǎn)品的穩(wěn)定性/靶向性及給藥效率等的關(guān)鍵,。美國食品藥品監(jiān)督管理局(FDA)頒布的《Guide to Inspection of Oral Solid Dosage forms: Pre/Post Approval Issues for Development and Validation》中曾指出,顆粒的粒度分布是判斷制粒工藝批間一致性的重要物理參數(shù),,尤其對于臨床批次和商業(yè)生產(chǎn)批次的對比,,或是生產(chǎn)工藝變更前后樣品的對比,粒度分布數(shù)據(jù)是證明工藝的穩(wěn)健性和產(chǎn)品質(zhì)量可比性的重要依據(jù),。
▲ 某API顯微成像圖
不同粒徑大小顆粒的理化現(xiàn)象
OMEC
一般來說,,較粗的顆粒有助于減少團聚,易于分散并保持穩(wěn)定,,但可能導(dǎo)致疏松性差,,難以混合均勻分布的問題;同時較粗的API顆粒溶出速率一般相對較慢,可以用來控制藥物的緩釋性能,,但不當(dāng)?shù)牧揭部赡芙档退幬锏纳锢寐?。對于較細的顆粒,單位質(zhì)量具有更高的表面積,,即比表面積高,,一般會提高藥劑的加工混合難度,容易發(fā)生顆粒團聚,、崩解不良的問題,;經(jīng)由合理的生產(chǎn)工藝,分散良好的API細顆粒有利于提高溶出速率,,可以加速藥物起效時間,,但也可能由瞬間藥劑濃度劇烈變化引起機體的副作用。
因此,,對于藥物和輔料的粒徑分布進行合理的設(shè)計,、生產(chǎn)加工和表征驗證,能綜合提高藥物吸收,、穩(wěn)定性或靶向性的質(zhì)量,,減少副作用和浪費,減少批次間的不一致,,有利于疾病治療和國民健康管理水平的不斷提升,。
▲ 多個不同配方的仿制藥的溶出曲線示意圖
藥物和制劑發(fā)展新形勢和
2025新藥典表征選項
OMEC
通過構(gòu)建不同顆粒原材料的粒徑主體及離群顆粒組分分析的關(guān)鍵質(zhì)控能力,更好地指導(dǎo)藥物的設(shè)計,、生產(chǎn),、給藥及臨床性能的預(yù)期。隨著制藥行業(yè)的發(fā)展和工藝的進步,,除了傳統(tǒng)微米成分為主的藥劑外,,以脂質(zhì)體、脂質(zhì)納米顆粒,、微球,、膠束等為代表的各納米藥物也在蓬勃發(fā)展,對粒徑表征技術(shù)也提出了更高的要求和挑戰(zhàn),。
《中國藥典》通則0982粒度和粒度分布測定法中的第三法,,即光散射法中最具代表性的靜態(tài)光散射法(亦稱作激光衍射法)的激光粒度儀是在實際藥品中微米亞微米級顆粒質(zhì)量控制中最常使用的方法之一。為了應(yīng)對新的變化,,2025版《中國藥典》在該條目下更新增了動態(tài)光散射法,,使用該方法的典型儀器即動態(tài)光散射納米粒度儀,一般簡稱納米粒度儀,,適用于各種納米藥物和納米組分顆粒材料的粒徑分布表征測試。
▲ 顆粒散射激光形成艾里斑
兩種光散射法測試樣本的適用性
OMEC
兩種光散射方法儀器最大的不同是其物理原理對應(yīng)的顆粒粒徑尺度范圍的不同。激光粒度儀獲取的是空間中不同角度顆粒散射光強度信號,,適合亞微米至毫米級寬分布樣品的粒徑分布測試,;而納米粒度儀獲取的是在時域上散射光強的相關(guān)性,從而應(yīng)用相應(yīng)的米氏散射理論和流體運動斯托克斯-愛因斯坦方程反演計算對應(yīng)顆粒樣本的粒徑分布,,適用于納米至幾個微米區(qū)間的顆粒粒徑,。
當(dāng)樣本跨越交集的亞微米區(qū)間的兩側(cè)時,通常需要根據(jù)質(zhì)量評價的需要進行測試方法的選擇,,或者進行聯(lián)合測試,。具體原理和實現(xiàn)的方法,請參考此文章《從納米粒度儀,、激光粒度儀原理看如何選擇粒度測試方法》,。
▲ 典型的納米顆粒和制劑
兩種光散射法測試樣本
質(zhì)控參數(shù)及意義
OMEC
成功的粒徑質(zhì)量控制相關(guān)的測試體系,可以優(yōu)化工藝流程,,提高產(chǎn)品質(zhì)量一致性/穩(wěn)定性/藥效等性能,,減少上下游銜接風(fēng)險等。一般需要遵循方法設(shè)計,、方法開發(fā),,方法的驗證,方法生命周期的管理等一系列嚴謹?shù)倪^程管控,,以達到最終方法適用性和耐用性,,并使其符合GMP的有效、可控(例如滿足重現(xiàn)性和耐用性)和先進性的要求,??偟膩碚f,這些方法過程需遵循《中國藥典》0982通則及ICH Q2指導(dǎo)原則,,結(jié)合QbD理念制定合理的質(zhì)量標(biāo)準和限度,。
激光粒度儀的粒度分析結(jié)果的表述和意義
▲ 激光粒度儀粒度微分分布圖及特征粒徑D50,D90示意圖
在激光粒度儀的粒度分析結(jié)果中,,普遍地選取D10,、D50、D90這三個特征粒徑參數(shù),,其分別代表所測樣本中顆粒從小到大的體積累積達到總體積10%,,50%,90%分位處的顆粒粒徑數(shù)值,,以這些參數(shù)分別作為材料中粒徑較小,、中間和較大的顆粒的代表性粒徑數(shù)值。
通過設(shè)定D10,、D50,、D90的許可范圍作為質(zhì)控依據(jù),,可以使實際生產(chǎn)中的顆粒材料符合相對應(yīng)的基本質(zhì)量要求,在工業(yè)生產(chǎn)的來料,、過程產(chǎn)品和終產(chǎn)品的質(zhì)控中發(fā)揮著積極的作用,。對于小于10%占比的離群顆粒可能會影響藥物質(zhì)量的情形,,還需要增加與之相應(yīng)的區(qū)間含量或更接近粒徑分布兩端的特征粒徑參數(shù)進行質(zhì)量評價,。更多具體細節(jié),請參考文章《粒徑分布的表述與激光粒度儀的質(zhì)控指標(biāo)的設(shè)計》及國家標(biāo)準《GB/T19077-2024 粒度分析 激光衍射法》,。
▲ OMEC Topsizer Plus激光粒度儀及可選進樣器
原料藥和輔料等成份復(fù)雜,,水和有機介質(zhì)中溶解度各異,樣品質(zhì)地脆易碎,,易潮濕團聚等都是其常見特征,。歐美克Topsizer系列激光粒度儀具有多種干濕法進樣器可選,多種分散測試裝置的性能連續(xù)可調(diào)并具有泵速,、壓力測量反饋和超聲功率補償?shù)裙δ?,保障了測試條件可重現(xiàn)。采用優(yōu)良進口He-Ne氣體光源,,以長焦距傅立葉鏡頭,,雙色光源為核心的透鏡后傅里葉光學(xué)設(shè)計和三維立體探測器布局設(shè)計,測量動態(tài)范圍大,,保障了僅使用單鏡頭儀器測量范圍內(nèi)的大小顆粒均能很好的被定量測量,,且儀器無需標(biāo)定,數(shù)據(jù)始終如一,。
納米粒度儀的粒度分析結(jié)果的表述和意義
▲ NS-90Z Plus納米粒度儀檢測某樣品的結(jié)果
由于動態(tài)光散射技術(shù)的精度限制及納米材料應(yīng)用的特點,,一般并不需要在其測試結(jié)果上進行如激光粒度儀那樣細致的特征值描述。雖然現(xiàn)代許多納米粒度儀可以將測試結(jié)果通過米氏(Mie)散射理論轉(zhuǎn)換成類似激光粒度儀的體積分布特征粒徑,,但最常使用的還是從測試信號直接分析計算得出的反應(yīng)整體粒徑細度的Z均值(Z-Average)粒徑和多分散指數(shù)(PI或PdI)這兩個參數(shù),。
其中,Z-Average是指定散射光強度加權(quán)的顆粒樣本的平均流體動力學(xué)直徑,。流體動力學(xué)直徑(DH)定義為與被測顆?;蚍肿佑邢嗤瑪U散速度的剛性球體直徑。PI(Polydispersity index)多分散指數(shù),,是對數(shù)據(jù)累積分析得出的顆粒尺寸分布寬度的無量綱數(shù)值,。一般,PI 值范圍為 0 到 1,,值越高表示樣本顆粒群體尺寸上的離散性越大,,數(shù)值越小表示粒度越均一。這些參數(shù)均采用動態(tài)光散射技術(shù)進行計算得來,,具體細節(jié)請參考《GB/T 29022-2021粒度分析 動態(tài)光散射法(DLS)》,。
▲ 雙峰粒徑分布圖
對于例如上圖所示意的多組分多粒徑分布的納米制劑樣品,,一般Z均值和PI的結(jié)果可能會出現(xiàn)重現(xiàn)性較差不能指導(dǎo)產(chǎn)品質(zhì)量的情況,宜采用獨立的粒徑光強分布峰的相關(guān)參數(shù)進行質(zhì)量評價,,如下圖所示,,可以分別采用每個分布峰的光強分布均值,,光強分布比例和分布寬度相關(guān)的指標(biāo)進行質(zhì)量評價,。
單峰的分布寬度也可以通過以下公式換算為該分布峰對應(yīng)的分布峰PI值,分布峰寬度/分布峰均值=分布峰離散系數(shù)=(分布峰PI)^1/2
▲ OMEC NS-90Z Plus納米粒度及Zeta電位分析儀
歐美克NS-90Z Plus納米粒度及電位分析儀采用動態(tài)光散射技術(shù)測量粒子和顆粒的粒度,,采用電泳光散射技術(shù)測定顆粒Zeta電位和電位分布,。其內(nèi)置進口的雪崩式光電二極管(APD)檢測器、He-Ne氣體激光器光源和高性能相關(guān)器等優(yōu)質(zhì)硬件,,加上精確的內(nèi)部溫控裝置,、密閉光纖光路設(shè)計以及先進的軟件算法,共同保障了數(shù)據(jù)的高重現(xiàn)性,、準確性和靈敏度,。NS-90Z Plus支持SOP標(biāo)準化操作,具有兼容CFDA GMP《計算機化系統(tǒng)和確認與驗證》要求的審計追蹤,、用戶分級,、權(quán)限管理及電子簽名功能,同時具有測試數(shù)據(jù)質(zhì)量智能反饋和優(yōu)化建議,,方便醫(yī)藥用戶使用,。
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