各行業(yè)無塵車間溫濕度規(guī)范要求(參考)
無塵車間對溫濕度的控制取決于其生產(chǎn)工藝,。例如怕鈉的半導體車間,,這種車間不宜超過25度,相對濕度超過55%時,,冷卻水管壁上會結露,,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,就會引起各種事/故,。今天,,我們來看常見無塵車間對溫濕度有要求的工藝。
示例 一
在精密機械加工和計量等場合,,為了防止因熱膨脹而引起的誤差,,須使工件保持一定的溫度。工件溫度的允許波動幅度應根據(jù)加工精度決定,。例如,,在恒溫室里對一根長500mm的標準尺刻線,工藝允許線間公差為2um,,其中l(wèi)um為尺溫變化所引起的形變誤差,,另1um為加工與量測誤差。1um折合尺溫變化量=0.20C[a為尺線膨脹系數(shù),,取10/um/(m?K),;l為尺長,m],,故工件溫度變化需在:()以內(nèi),。但由于工件測量儀器等都有一定的熱惰性,空氣溫度的波動傳人工件后,,就要衰減,。在設計恒溫系統(tǒng)時,,一般總是以恒定環(huán)境空氣溫度為依據(jù),,故相應的環(huán)境溫度精度可比工件允許的溫度精度低一些。因此,在確定恒溫室參數(shù)和選擇自動控制時,,須考慮工件恒溫恒濕車間,、圍護結構、空氣處理設備和自控系統(tǒng)之間的動態(tài)特性,。
示例 二
在電子行業(yè),,制造車間是產(chǎn)生靜電的主要地方,通常靜電會對產(chǎn)品造成短路甚至會造成員工導電暈倒事/故,,所以電子行業(yè)的無塵車間相對濕度不應低于30%,,這樣即可以減少靜電的產(chǎn)生,通常建議無塵車間的防靜電區(qū)域相對濕度不低于50%,。過于干燥的空氣中易粉塵飛揚,,電子廠無塵車間無特殊要求的情況下,溫度控制在22 ℃ 左右,,相對濕度控制在 55 ~ 60%RH 之間,,在這種環(huán)境下,人們感覺舒適,,靜電也消失了,。
示例 三
SMT車間對溫度和濕度有明確的要求,主要是為了錫膏能工作在一個較好的環(huán)境 ,,溫度會影響錫膏的活性,,對于里面所添加的助焊劑的相關溶劑的活性有一定的影響。溫度高會增加其的活性,,后影響絲印貼裝及回流的效果,。容易出現(xiàn)虛焊,焊點不光澤等現(xiàn)象,。 濕度的大小回引起錫膏在空氣中吸入水氣的多少,,如過吸如過多水氣,會使回流時產(chǎn)生氣空,,飛漸,,連焊等現(xiàn)象。故SMT恒溫恒濕車間溫濕度標準: 溫 度: 24±2℃ 濕 度: 50±10%,。
示例 四
在生物制藥的潔凈車間中對易吸潮藥品的相對濕度要求45% 一50%RH(夏季),,片劑等固體制劑50% ~55%RH,水針及口/服液55% ~65%RH ,。這樣有利于更好的控制藥品的生產(chǎn)質(zhì)量,。
示例 五
在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小,。直徑100 um的硅片,,溫度上升1度,,就引起了0.24um線性膨脹,所以必須有±0.1度的恒溫,,同時要求濕度值一般較低,,因為人出汗以后,對產(chǎn)品將有污染,,特別是怕鈉的半導體車間,,這種車間不宜超過25度?!穸冗^高產(chǎn)生的問題更多,。相對濕度超過55%時,冷卻水管壁上會結露,,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,,就會引起各種事/故。相對濕度在50%時易生銹,。
示例 六
食品,、保健品、飲料等車間對對生產(chǎn)潔凈度要求比較高,,通常為10萬級至萬級以上,,但同時車間的濕度越低越容易滋生細jun,細jun和其他生物污染,在相對濕度超過60%的環(huán)境中可以活躍地繁zhi,。一些菌群在相對濕度超過30%時就可以增長,。在相對濕度處于40%至60%的范圍之間時,可以使細jun的影響以及呼吸道感染降至低值,。
綜合以上多個行業(yè)我們總結出溫濕度對無塵車間的五大影響
1,、細jun生長;
2、工作人員感到室溫舒適的范圍;
3,、出現(xiàn)靜電荷;
4,、金屬fu蝕;
5、水汽冷凝;
6,、光刻的退化;
7,、吸水性。
所以無塵車間的溫濕度控制由其生產(chǎn)工藝決定,,但其精度同時也要看其房間的大小例如計量室,、光柵刻線室、精密儀器制造和裝配車間等,。前兩者都為小房間,,空調(diào)精度(這里主要指溫濕度)要求高;后兩者為較大的生產(chǎn)車間,,溫濕精度要求較低,。所以其房間大小也會決定恒溫恒濕車間的精度,。
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,,未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品,。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,,應在授權范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”,。違反上述聲明者,,本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,,目的在于傳遞更多信息,,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任,。其他媒體,、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,,并自負版權等法律責任,。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權等問題,,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,,否則視為放棄相關權利。