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鍍銀銅線在廣播通訊,、國防工業(yè)，甚至衛(wèi)星發(fā)射等重要領(lǐng)域中都有著廣泛應(yīng)用,。憑借耐高溫,、導(dǎo)電性能好等顯著優(yōu)勢，其每年的市場需求量巨大,。在鍍銀銅線的生產(chǎn)與質(zhì)量把控環(huán)節(jié),，銅基銀線的銀層厚度至關(guān)重要，這一參數(shù)不僅直接關(guān)聯(lián)著線纜的生產(chǎn)成本,，還對線纜的使用性能起著決定性作用,，因而一直是商家嚴格管控的關(guān)鍵技術(shù)指標。目前,，商檢部門和測試中心多采用傳統(tǒng)的酸浸退法（化學(xué)退鍍法）測定銀層鍍布量,，然而該方法存在操作繁瑣、工作量大的問題,。更值得注意的是,，在退銀過程中，酸浸退法可能會腐蝕基底元素,，進而影響分析結(jié)果的準確性,。
X 射線熒光分析作為一種先進的表面分析技術(shù)，應(yīng)用范圍廣泛,，不僅能夠?qū)鶆驑悠愤M行定性,、定量分析，還可用于表面狀態(tài)檢測和鍍層厚度測定,。X 射線熒光測厚儀便是基于這一技術(shù),，用于鍍層厚度測試。
X 射線熒光,，也被稱為特征 X 射線,，本質(zhì)上是光電過程中電子躍遷產(chǎn)生的次級 X 射線。原子由原子核和核外電子構(gòu)成穩(wěn)定結(jié)構(gòu),，核外電子圍繞原子核在不同軌道運行,。當高能入射 X 射線與原子碰撞，會打破原子的穩(wěn)定結(jié)構(gòu),，使低能量電子殼層（如 K 層）的電子被激發(fā)并脫離原子,，從而產(chǎn)生電子空位。此時,，高能量電子殼層（如 L 層）的電子會躍遷到低能量殼層填補空位,。由于不同電子殼層間存在能量差,，這部分能量會以二次 X 射線的形式釋放。每種元素的原子電子層能級固定,，能級差（E）恒定,，且 X 射線熒光源于原子內(nèi)層電子躍遷，只能產(chǎn)生有限組譜線,，所以不同元素的特征 X 射線譜線具有唯yi性,。此外，特定元素產(chǎn)生的 X 熒光光量與其含量（或鍍層厚度）存在嚴格對應(yīng)關(guān)系,，這為 X 射線熒光法進行元素定性,、定量分析提供了理論依據(jù)和技術(shù)基礎(chǔ)。
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