一、核心耗材分類與用途
1. 研磨盤(Grinding Discs)
材質(zhì)與類型:
金剛石研磨盤:用于硬質(zhì)材料(如淬火鋼,、陶瓷),顆粒度從粗(50μm)到細(xì)(1μm),。
碳化硅(SiC)砂紙/磨盤:通用型,適合中低硬度材料(如鋁合金,、銅),,成本低但壽命短,。
氧化鋁(Al?O?)磨盤:適用于軟金屬或精細(xì)拋光階段,。
顆粒度選擇:
粗磨:120-400目(去除切割損傷層)。
精磨:600-1200目(細(xì)化表面),。
拋光前過渡:2000目以上(減少后續(xù)拋光時間),。
推薦品牌:標(biāo)樂(Buehler)MetaDi金剛石盤。
2. 拋光布(Polishing Cloths)
類型與用途:
短絨毛布(如標(biāo)樂TexMet):適合粗拋光,,配合金剛石懸浮液,。
長絨毛布(如標(biāo)樂ChemoMet):用于終拋光,,配合氧化硅或氧化鋁拋光液。
合成纖維布(如斯特爾DP-Nap):抗撕裂,,適合高壓力拋光,。
適配場景:
硬質(zhì)材料:選高密度布(如尼龍布)。
軟材料:選低彈性布(避免嵌入劃痕),。
3. 研磨/拋光劑(Abrasives & Polishing Suspensions)
金剛石懸浮液:
粒度范圍:9μm、6μm,、3μm,、1μm,用于硬材料拋光,。
推薦:標(biāo)樂MetaDi懸浮液(水基/油基可選),。
氧化鋁拋光液:
終拋光用(0.05μm),適合軟金屬(鋁,、鎂合金)。
硅膠拋光液(SiO?):
用于高精度拋光(如EBSD樣品),,粒度低至0.02μm,。
4. 砂紙(SiC Paper)
用途:手動或自動研磨的初始階段,快速去除切割痕跡,。
規(guī)格:80目(粗)→ 1200目(細(xì)),濕磨為主,。
壽命:單張砂紙可處理10-20個樣品(視材料硬度),。
5. 夾具與固定耗材
樣品夾具:磁性夾具、多孔夾具(適配不同尺寸),。
石蠟/熱熔膠:用于固定微小或異形樣品,。
6. 冷卻/潤滑劑
水基冷卻液:防銹、降溫,,通用型,。
酒精或?qū)S脻櫥瑒河糜诒苊廛浗饘傺趸ㄈ玮伜辖穑?/p>
二、耗材壽命與成本參考
耗材類型 | 壽命(參考) | 成本范圍 | 更換建議 |
---|---|---|---|
金剛石研磨盤 | 500-1000個樣品(硬質(zhì)材料) | 3000-8000元/片 | 定期檢查表面磨損均勻性 |
碳化硅砂紙 | 10-20個樣品/張 | 20-50元/張 | 出現(xiàn)明顯劃痕或邊緣磨損即換 |
拋光布 | 50-200個樣品/塊 | 50-500元/塊 | 清潔后重復(fù)使用3-5次 |
金剛石懸浮液(1L) | 約300-500個樣品 | 2000-5000元/瓶 | 避免污染,,密封保存 |
三,、耗材選購注意事項(xiàng)
匹配材料硬度:
硬材料(如陶瓷)必須用金剛石耗材,軟材料(鋁)避免金剛石(易嵌入),。
兼容設(shè)備型號:
部分品牌設(shè)備(如標(biāo)樂)需專用耗材,,第三方耗材可能影響保修。
經(jīng)濟(jì)性平衡:
高價(jià)值耗材(金剛石盤)建議原廠采購,,砂紙/拋光布可選第三方(如國產(chǎn)品牌),。
避免交叉污染:
不同粒度砂紙/拋光布需分開放置,,使用后清潔設(shè)備。
四,、推薦品牌與替代方案
耗材類型 | 品牌 | 國產(chǎn)替代 | 性價(jià)比建議 |
---|---|---|---|
金剛石研磨盤 | 密朗德/czmld | 密朗德/czmld | 國產(chǎn)粒度一致性稍低,但價(jià)格低50% |
拋光布 | 密朗德/czmld | 密朗德/czmld | 國產(chǎn)適合低精度需求 |
碳化硅砂紙 | 密朗德/czmld | 密朗德/czmld | 國產(chǎn)砂紙壽命為進(jìn)口的70% |
金剛石懸浮液 | 密朗德/czmld | 密朗德/czmld | 國產(chǎn)懸浮液顆粒分布略不均 |
五,、維護(hù)與存儲技巧
清潔:
拋光布使用后立即用清水沖洗,避免拋光液干結(jié),。
研磨盤定期用軟刷清理碎屑。
存儲:
砂紙,、拋光布需防潮避光,,金剛石耗材避免碰撞。
壽命延長:
砂紙可翻面使用,,拋光布分區(qū)域旋轉(zhuǎn)使用,。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品,。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”,。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任,。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,,目的在于傳遞更多信息,,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),,不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任,。其他媒體,、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)等問題,,請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利,。