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等離子除膠機(jī)是一種利用等離子體技術(shù)去除材料表面殘留膠層的設(shè)備，基本原理：通過(guò)產(chǎn)生高能量的等離子體（如氧,、氬、氟等氣體的電離狀態(tài)）,，與膠層中的有機(jī)分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或物理轟擊,，使膠層分解,、揮發(fā)或剝離，從而實(shí)現(xiàn)無(wú)殘留的清潔效果,。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、電子、光學(xué),、航空航天等領(lǐng)域,。
等離子除膠機(jī)的使用步驟：
1. 開(kāi)機(jī)前準(zhǔn)備
檢查設(shè)備狀態(tài)：
確認(rèn)電源、氣路,、真空系統(tǒng)連接正常,。
檢查電極、反應(yīng)腔是否清潔,，無(wú)雜質(zhì)或殘留物,。
參數(shù)設(shè)置：
根據(jù)膠層類(lèi)型和材料特性，設(shè)置以下參數(shù)：
氣體類(lèi)型：常用氧氣或氬氣,，部分特殊膠層需氟化氣體,。
溫度：等離子處理可能產(chǎn)生熱量，需監(jiān)控樣品溫度（部分設(shè)備可水冷）,。
2. 裝載樣品
固定樣品：
將待除膠的樣品放入反應(yīng)腔內(nèi)的樣品架上,，確保樣品與電極之間無(wú)直接接觸。
避免樣品堆疊,，保證等離子體均勻覆蓋,。
密封反應(yīng)腔：
關(guān)閉反應(yīng)腔門(mén)，啟動(dòng)真空系統(tǒng),，抽至設(shè)定真空度,。
3. 啟動(dòng)設(shè)備
通氣：
開(kāi)啟氣瓶閥門(mén)，調(diào)節(jié)流量計(jì)至設(shè)定氣體流量,。
點(diǎn)火或激發(fā)等離子體：
開(kāi)啟射頻（RF）或直流（DC）電源,，逐步增加功率至設(shè)定值。
觀察等離子體是否穩(wěn)定形成,。
計(jì)時(shí)處理：
根據(jù)預(yù)設(shè)時(shí)間進(jìn)行等離子處理,，期間可觀察樣品表面變化。
4. 結(jié)束處理
關(guān)閉電源：
逐步降低射頻功率至0,，關(guān)閉電源,。
停止通氣：
關(guān)閉氣瓶閥門(mén)，斷開(kāi)氣路,。
解除真空：
緩慢充入惰性氣體或空氣,，恢復(fù)常壓后打開(kāi)反應(yīng)腔。
取出樣品：
檢查樣品表面是否完*除膠，必要時(shí)可二次處理,。
5. 后處理
清潔反應(yīng)腔：
定期清理反應(yīng)腔內(nèi)的殘留物,，避免污染后續(xù)樣品。
樣品冷卻：
若處理過(guò)程中樣品溫度較高,，可靜置冷卻或使用冷卻臺(tái)。
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