靜電放電(ESD: Electrostatic Discharge),，應(yīng)該是造成所有電子元器件或集成電路系統(tǒng)造成過度電應(yīng)力(EOS: Electrical Over Stress)破壞的主要元兇,。因?yàn)殪o電通常瞬間電壓非常高(>幾千伏),，所以這種損傷是毀滅性和永（）久性的，會(huì)造成電路直接燒毀,。所以預(yù)防靜電損傷是所有IC設(shè)計(jì)和制造的頭號(hào)難題。

靜電，通常都是人為產(chǎn)生的,，如生產(chǎn)、組裝,、測試,、存放、搬運(yùn)等過程中都有可能使得靜電累積在人體,、儀器或設(shè)備中,，甚至元器件本身也會(huì)累積靜電，當(dāng)人們?cè)诓恢榈那闆r下使這些帶電的物體接觸就會(huì)形成放電路徑,，瞬間使得電子元件或系統(tǒng)遭到靜電放電的損壞(這就是為什么以前修電腦都必須要配戴靜電環(huán)托在工作桌上,，防止人體的靜電損傷芯片)，如同云層中儲(chǔ)存的電荷瞬間擊穿云層產(chǎn)生劇烈的閃電,，會(huì)把大地劈開一樣,，而且通常都是在雨天來臨之際，因?yàn)榭諝鉂穸却笠仔纬蓪?dǎo)電通到,。

那么,，如何防止靜電放電損傷呢？首先當(dāng)然改變壞境從源頭減少靜電(比如減少摩擦,、少穿羊毛類毛衣,、控制空氣溫濕度等)，當(dāng)然這不是我們今天討論的重點(diǎn),。我們今天要討論的是如何在電路里面設(shè)計(jì)保護(hù)電路,，當(dāng)外界有靜電的時(shí)候我們的電子元器件或系統(tǒng)能夠自我保護(hù)避免被靜電損壞(其實(shí)就是安裝一個(gè)避雷針),。這也是很多IC設(shè)計(jì)和制造業(yè)者的頭號(hào)難題，很多公司有專門設(shè)計(jì)ESD的團(tuán)隊(duì),，今天我就和大家從最基本的理論講起逐步講解ESD保護(hù)的原理及注意點(diǎn),， 你會(huì)發(fā)現(xiàn)前面講的PN結(jié)/二極管、三極管,、MOS管,、全都用上了……

以前的專題講解PN結(jié)二極管理論的時(shí)候，就講過二極管有一個(gè)特性：正向?qū)ǚ聪蚪刂?不記得就去翻前面的課程),，而且反偏電壓繼續(xù)增加會(huì)發(fā)生雪崩擊穿(Avalanche Breakdown)而導(dǎo)通,，我們稱之為鉗位二極管(Clamp)。這正是我們?cè)O(shè)計(jì)靜電保護(hù)所需要的理論基礎(chǔ),，我們就是利用這個(gè)反向截止特性讓這個(gè)旁路在正常工作時(shí)處于斷開狀態(tài),，而外界有靜電的時(shí)候這個(gè)旁路二極管發(fā)生雪崩擊穿而形成旁路通路保護(hù)了內(nèi)部電路或者柵極(是不是類似家里水槽有個(gè)溢水口，防止水龍頭忘關(guān)了導(dǎo)致整個(gè)衛(wèi)生間水災(zāi)),。那么問題來了,，這個(gè)擊穿了這個(gè)保護(hù)電路是不是就徹（）底死了？難道是一次性的,？答案當(dāng)然不是,。PN結(jié)的擊穿分兩種，分別是電擊穿和熱擊穿,，電擊穿指的是雪崩擊穿(低濃度)和齊納擊穿(高濃度),，而這個(gè)電擊穿主要是載流子碰撞電離產(chǎn)生新的電子-空穴對(duì)(electron-hole)，所以它是可恢復(fù)的,。但是熱擊穿是不可恢復(fù)的,，因?yàn)闊崃烤奂瘜?dǎo)致硅(Si)被熔融燒毀了。所以我們需要控制在導(dǎo)通的瞬間控制電流,，一般會(huì)在保護(hù)二極管再串聯(lián)一個(gè)高電阻,，另外，大家是不是可以舉一反三理解為什么ESD的區(qū)域是不能form Silicide的,？還有給大家一個(gè)理論,，ESD通常都是在芯片輸入端的Pad旁邊，不能在芯片里面,，因?yàn)槲覀兛偸窍Ｍ饨绲撵o電需要第一時(shí)間泄放掉吧,， 放在里面會(huì)有延遲的(關(guān)注我前面解剖的那個(gè)芯片PAD旁邊都有二極管。甚至有放兩級(jí)ESD的,，達(dá)到雙重保護(hù)的目的,。 

在講ESD的原理和Process之前，我們先講下ESD的標(biāo)準(zhǔn)以及測試方法，根據(jù)靜電的產(chǎn)生方式以及對(duì)電路的損傷模式不同通常分為四種測試方式： 人體放電模式(HBM: Human-Body Model),、機(jī)器放電模式(Machine Model),、元件充電模式(CDM: Charge-Device Model)、電場感應(yīng)模式(FIM: Field-Induced Model),，但是業(yè)界通常使用前兩種模式來測試(HBM, MM),。

當(dāng)然就是人體摩擦產(chǎn)生了電荷突然碰到芯片釋放的電荷導(dǎo)致芯片燒毀擊穿，秋天和別人觸碰經(jīng)常觸電就是這個(gè)原因,。業(yè)界對(duì)HBM的ESD標(biāo)準(zhǔn)也有跡可循(MIL- STD-883C method 3015.7,，等效人體電容為100pF，等效人體電阻為1.5Kohm),，或者國際電子工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(EIA/JESD22-A114-A)也有規(guī)定,，看你要follow哪一份了。如果是MIL-STD-883C method 3015.7,，它規(guī)定小于<2kV的則為Class-1,，在2kV~4kV的為class-2，4kV~16kV的為class-3,。 

ESD的測試方法類似FAB里面的GOI測試,，指（）定pin之后先給他一個(gè)ESD電壓,，持續(xù)一段時(shí)間后，然后再回來測試電性看看是否損壞,，沒問題再去加一個(gè)step的ESD電壓再持續(xù)一段時(shí)間,，再測電性，如此反復(fù)直至擊穿,，此時(shí)的擊穿電壓為ESD擊穿的臨界電壓(ESD failure threshold Voltage),。通常我們都是給電路打三次電壓(3 zaps)，為了降低測試周期，通常起始電壓用標(biāo)準(zhǔn)電壓的70% ESD threshold,，每個(gè)step可以根據(jù)需要自己調(diào)整50V或者100V,。

 (1)Stress number = 3 Zaps. (5 Zaps, the worst case)

(2)Stress step   

ΔVESD = 50V(100V) for VZAP <=1000V

ΔVESD = 100V(250V, 500V) for VZAP > 1000V

(3)Starting VZAP = 70% of averaged ESD failure threshold (VESD)

另外，因?yàn)槊總€(gè)chip的pin腳很多,，你是一個(gè)個(gè)pin測試還是組合pin測試,，所以會(huì)分為幾種組合：I/O-pin測試(Input and Output pins)、pin-to-pin測試,、Vdd-Vss測試(輸入端到輸出端),、Analog-pin。

 1. I/O pins

就是分別對(duì)input-pin和output-pin做ESD測試,，而且電荷有正負(fù)之分,，所以有四種組合：input+正電荷、input+負(fù)電荷,、output+正電荷,、output+負(fù)電荷。測試input時(shí)候,，則output和其他pin全部浮接(floating),，反之亦然。 

 2.pin-to-pin測試

靜電放電發(fā)生在pin-to-pin之間形成回路,，但是如果要每每兩個(gè)腳測試組合太多,，因?yàn)槿魏蔚腎/O給電壓之后如果要對(duì)整個(gè)電路產(chǎn)生影響一定是先經(jīng)過VDD/Vss才能對(duì)整個(gè)電路供電，所以改良版則用某一I/O-pin加正或負(fù)的ESD電壓,，其他所有I/O一起接地,，但是輸入和輸出同時(shí)浮接(Floating)。 

 3.Vdd-Vss之間靜電放電

靜電放電發(fā)生在pin-to-pin之間形成回路,，但是如果要每每兩個(gè)腳測試組合太多,，因?yàn)槿魏蔚腎/O給電壓之后如果要對(duì)整個(gè)電路產(chǎn)生影響一定是先經(jīng)過VDD/Vss才能對(duì)整個(gè)電路供電，所以改良版則用某一I/O-pin加正或負(fù)的ESD電壓,，其他所有I/O一起接地,，但是輸入和輸出同時(shí)浮接(Floating)。 

 4.Analog-pin放電測試

因?yàn)槟M電路很多差分比對(duì)(Differential Pair)或者運(yùn)算放大器(OP AMP)都是有兩個(gè)輸入端的,，防止一個(gè)損壞導(dǎo)致差分比對(duì)或運(yùn)算失效,，所以需要單獨(dú)做ESD測試，當(dāng)然就是只針對(duì)這兩個(gè)pin,，其他pin全部浮接(floating),。 

好了，ESD的原理和測試部分就講到這里了,，下面接著講Process和設(shè)計(jì)上的factor隨著摩爾定律的進(jìn)一步縮小,，器件尺寸越來越小，結(jié)深越來越淺，GOX越來越薄,，所以靜電擊穿越來越容易,，而且在Advance制程里面，Silicide引入也會(huì)讓靜電擊穿變得更加尖銳,，所以幾乎所有的芯片設(shè)計(jì)都要克服靜電擊穿問題,。

靜電放電保護(hù)可以從FAB端的Process解決，也可以從IC設(shè)計(jì)端的Layout來設(shè)計(jì),，所以你會(huì)看到Prcess有一個(gè)ESD的option layer,，或者Design rule里面有ESD的設(shè)計(jì)規(guī)則可供客戶選擇等等。當(dāng)然有些客戶也會(huì)自己根據(jù)SPICE model的電性通過layout來設(shè)計(jì)ESD,。

1,、制程上的ESD

要么改變PN結(jié)，要么改變PN結(jié)的負(fù)載電阻,，而改變PN結(jié)只能靠ESD_IMP了,，而改變與PN結(jié)的負(fù)載電阻，就是用non-silicide或者串聯(lián)電阻的方法了,。

1）Source/Drain的ESD implant

因?yàn)槲覀兊腖DD結(jié)構(gòu)在gate poly兩邊很容易形成兩個(gè)淺結(jié),，而這個(gè)淺結(jié)的尖角電場比較集中，而且因?yàn)槭菧\結(jié),，所以它與Gate比較近,，所以受Gate的末端電場影響比較大，所以這樣的LDD尖角在耐ESD放電的能力是比較差的(<1kV),，所以如果這樣的Device用在I/O端口,，很容造成ESD損傷,。所以根據(jù)這個(gè)理論,，我們需要一個(gè)單獨(dú)的器件沒有LDD，但是需要另外一道ESD implant,，打一個(gè)比較深的N+_S/D,，這樣就可以讓那個(gè)尖角變圓而且離表面很遠(yuǎn)，所以可以明顯提高ESD擊穿能力(>4kV),。但是這樣的 話這個(gè)額外的MOS的Gate就必須很長防止穿通(punchthrough),，而且因?yàn)槠骷灰粯恿耍孕枰獑为?dú)提取器件的SPICE Model,。

2）接觸孔(contact)的ESD implant

在LDD器件的N+漏極的孔下面打一個(gè)P+的硼,，而且深度要超過N+漏極(drain)的深度，這樣就可以讓原來Drain的擊穿電壓降低(8V-->6V),，所以可以在LDD尖角發(fā)生擊穿之前先從Drain擊穿導(dǎo)走從而保護(hù)Drain和Gate的擊穿,。所以這樣的設(shè)計(jì)能夠保持器件尺寸不變，且MOS結(jié)構(gòu)沒有改變，故不需要重新提取SPICE model,。當(dāng)然這種智能用于non-silicide制程,，否則contact你也打不進(jìn)去implant。 

3）SAB (SAlicide Block)

一般我們?yōu)榱私档蚆OS的互連電容,，我們會(huì)使用silicide/SAlicide制程,，但是這樣器件如果工作在輸出端，我們的器件負(fù)載電阻變低,，外界 ESD電壓將會(huì)全部加載在LDD和Gate結(jié)構(gòu)之間很容易擊穿損傷,，所以在輸出級(jí)的MOS的Silicide/Salicide我們通常會(huì)用SAB(SAlicide Block)光罩擋住RPO，不要形成silicide,，增加一個(gè)photo layer成本增加,，但是ESD電壓可以從1kV提高到4kV。

4）串聯(lián)電阻法

這種方法不用增加光罩,，應(yīng)該是最省錢的了,，原理有點(diǎn)類似第三種(SAB)增加電阻法，我就故意給他串聯(lián)一個(gè)電阻(比如Rs_NW,，或者HiR,，等)，這樣也達(dá)到了SAB的方法,。

2,、設(shè)計(jì)上的ESD

這就完（）全靠設(shè)計(jì)者的功夫了，有些公司在設(shè)計(jì)規(guī)則就已經(jīng)提供給客solution了,，客戶只要照著畫就行了,，有些沒有的則只能靠客戶自己的designer了，很多設(shè)計(jì)規(guī)則都是寫著這個(gè)只是guideline/reference,，不是guarantee的,。一般都是把Gate/Source/Bulk短接在一起，把Drain結(jié)在I/O端承受ESD的浪涌(surge)電壓,，NMOS稱之為GGNMOS (Gate-Grounded NMOS)PMOS稱之為GDPMOS (Gate-to-Drain PMOS),。以NMOS為例，原理都是Gate關(guān)閉狀態(tài),，Source/Bulk的PN結(jié)本來是短接0偏的,，當(dāng)I/O端有大電壓時(shí)，則Drain/Bulk PN結(jié)雪崩擊穿,，瞬間bulk有大電流與襯底電阻形成壓差導(dǎo)致Bulk/Source的PN正偏,，所以這個(gè)MOS的寄生橫向NPN管進(jìn)入放大區(qū)(發(fā)射結(jié)正偏,集電結(jié)反偏),，所以呈現(xiàn)特性,，起到保護(hù)作用,。PMOS同理推導(dǎo)。 

這個(gè)原理看起來簡單,，但是設(shè)計(jì)的精髓(know-how)是什么,？怎么觸發(fā)BJT？怎么維持,？怎么撐到HBM>2KV or 4KV,？

如何觸發(fā)？必須有足夠大的襯底電流,，所以后來發(fā)展到了現(xiàn)在普遍采用的多指交叉并聯(lián)結(jié)構(gòu)(multi-finger),。但是這種結(jié)構(gòu)主要技術(shù)問題是基區(qū)寬度增加，放大系數(shù)減小,，所以不容易開啟,。而且隨著finger數(shù)量增多，會(huì)導(dǎo)致每個(gè)finger之間的均勻開啟變得很困難,，這也是ESD設(shè)計(jì)的瓶頸所在,。 

如果要改變這種問題，大概有兩種做法(因?yàn)閠riger的是電壓，改善電壓要么是電阻要么是電流)：1,、利用SAB(SAlicide-Block)在I/O的Drain上形成一個(gè)高阻的non-Silicide區(qū)域，使得漏極方塊電阻增大,，而使得ESD電流分布更均勻，從而提高泄放能力,；2,、增加一道P-ESD (Inner-Pickup imp,，類似上面的接觸孔P+ ESD imp),，在N+Drain下面打一個(gè)P+，降低Drain的雪崩擊穿電壓,，更早有比較多的雪崩擊穿電流(詳見文獻(xiàn)論文: Inner Pickup on ESD of multi-finger NMOS.pdf),。