雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)的特點和應用場景

來源：納糯三維科技（上海）有限公司Nanoscribe 2025年03月31日 21:40

雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)利用高能激光在非線性光學晶體中產生的雙光子吸收效應,，通過激光與材料相互作用引發(fā)局部光化學反應,，直接實現微納結構的加工,。無需傳統(tǒng)掩膜版，極大簡化了工藝流,。

1,、核心優(yōu)勢：

超高精度：分辨率達100nm，表面粗糙度Ra＜5nm,，支持2.5D/3D微納結構加工,。

設計自由度：無需掩膜,，通過CAD直接設計結構,，支持快速迭代與小批量定制化生產。

材料兼容性：適用于金屬,、半導體（如InP,、SOI）、聚合物（如光敏樹脂）等多種材料,。

工業(yè)化潛力：如Nanoscribe的Quantum X系統(tǒng)可實現6英寸晶圓級批量加工,，通宵產能達200個標準結構。

2,、應用場景：

微電子與光子學：制造微處理器,、MEMS傳感器、光子晶體等,，提升器件集成度與性能,。

生物醫(yī)學：打印生物芯片、微流控芯片,、細胞支架等,，用于疾病診斷,、藥物篩選及組織工程。

光學器件：加工自由曲面透鏡,、光纖耦合器等,，實現光學組件的小型化與功能集成。

納米技術：制備納米傳感器,、量子點等,，推動納米電子與納米光子學的研究。

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