干法刻蝕中的等離子體
干法刻蝕工藝是利用氣體中陰陽(yáng)粒子解離后的等離子體來(lái)進(jìn)行刻蝕的。所謂的等離子體,,宇宙中99%的物質(zhì),,均處于等子狀態(tài),。其中包含了中性的粒子,、離子和電子,,它們混合在一起,表現(xiàn)為電中性,。在干法刻蝕中,,氣體中的分子和原子,通過(guò)外部能量的激發(fā),,形成震蕩,,使質(zhì)量較輕的電子脫離原子的軌道與相鄰的分子或原子碰撞,釋放出其他電子,,在這樣的反復(fù)過(guò)程中,,最終形成氣體離子與自由活性激團(tuán)。而干法刻蝕,,則利用了氣體等離子體中的自由活性激團(tuán)與離子,,與被刻蝕表面進(jìn)行反應(yīng),以此形成最終的特征圖形,。
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