光刻膠系列——精準(zhǔn)控制,，助力半導(dǎo)體制造

在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠的品質(zhì)直接關(guān)系到電路圖案的精度和可靠性,。我們?yōu)槟峁┝艘幌盗懈咂焚|(zhì)的光刻膠產(chǎn)品,，滿足不同工藝需求，助力您實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體制造,。

一,、高分辨率光刻膠——精細(xì)圖案，輕松實(shí)現(xiàn)

S1800 G2系列光刻膠,，包括S1805 G2,、S1813 G2、S1818 G2等型號(hào),，是高分辨率正膠,，膠厚范圍0.4-2.7um。它們具有優(yōu)異的粘附性和極限線寬0.5um,，適用于小線寬雙層膠lift-off工藝,，與LOR/PMGI系列搭配使用，實(shí)現(xiàn)精細(xì)圖案。

二,、SPR955-CM系列光刻膠——極限線寬,，挑戰(zhàn)精度極限

SPR955-CM系列光刻膠，膠厚范圍0.7-3.5um,，極限線寬可達(dá)0.35um,。該系列光刻膠粘附性好，適用于高精度圖案制作,。

三,、ROL-7133與SUN-lift 1303光刻膠——國(guó)產(chǎn)優(yōu)質(zhì)，性價(jià)比高

作為國(guó)產(chǎn)光刻膠的代表,，ROL-7133和SUN-lift 1303均為常用負(fù)膠,，適用于g/h/ i-line光源，膠厚范圍2.2-4um,。它們底切角度適中,，可用于lift-off工藝制作金屬電極或?qū)Ь€。

四,、多用途光刻膠——滿足多樣化需求

AZ 5214E,、AZ 4620、AZ MIR 701/703,、SU-8等光刻膠,，分別適用于正性薄膠、正性厚膠,、高分辨率正膠和高深寬比負(fù)膠等多種場(chǎng)景,。無論是做絕緣層、微流控,，還是干法/濕法刻蝕,、電鍍等工藝，都能找到合適的光刻膠,。

五,、特殊工藝光刻膠——專業(yè)定制，助力創(chuàng)新

AZ nLOF 2000系列,、SPR220系列,、AZ 1500系列光刻膠，專為特殊工藝設(shè)計(jì),。無論是耐高溫Lift-off工藝,，還是雙層膠lift-off工藝底層膠，都能提供專業(yè)支持,。

此外,，我們還提供圖形反轉(zhuǎn)膠、電子束光刻膠、LOR光刻膠,、PMGI SF光刻膠等多種產(chǎn)品,，滿足正性光刻膠、負(fù)性光刻膠,、厚光刻膠,、薄光刻膠、紫外光刻膠,、底層膠等多種需求。