什么是單晶硅呢？它是一種半導(dǎo)體材料,，其導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體和絕緣體之間,，主要應(yīng)用于太陽能電池行業(yè)。在單晶硅的生產(chǎn)過程我們要對其進(jìn)行清洗,，而清洗單晶硅時需要使用不含雜質(zhì)的超純水進(jìn)行清洗,，那么，超純水設(shè)備就是一種可制備超純水,，出水電阻率高且不含任何雜質(zhì)的設(shè)備,。

目前主要的超純水系統(tǒng)設(shè)計(jì)的主要工藝為雙級反滲透與EDI相結(jié)合的制水工藝，具有水利用率高，運(yùn)行可靠,，經(jīng)濟(jì)合理等特點(diǎn),。那么，制備單晶硅清洗用水的超純水設(shè)備在長時間工作后,，如果不定期進(jìn)行維護(hù),，就很容易被污染，因此要對該設(shè)備進(jìn)行“呵護(hù)”,，才能保證設(shè)備出水水質(zhì)符合要求,。

如何，清洗保養(yǎng)超純水設(shè)備,？

　　1,、將專用清洗液與純凈水在清洗藥箱內(nèi)混合。

　　2,、用清洗泵低流量將清洗液以低流速,、低壓力打至膜系統(tǒng)，并排走原水,，防止清洗液稀釋,。

　　3、保持設(shè)備溫度穩(wěn)定,，用清洗泵將清洗液在系統(tǒng)中循環(huán),。

　　4、清洗液在設(shè)備內(nèi)浸泡一小時即可,，污染較嚴(yán)重的膜系統(tǒng)可進(jìn)行更長時間的浸泡清洗,。

　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘,，使膜表面上被洗掉的污染物隨高流速水沖走,。

　　6、用清水將清洗液沖去,。設(shè)備沖洗后的清水需要保證PH6.5-7.5之間,。

　　綜上，單晶硅清洗應(yīng)用的超純水設(shè)備具有結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對靠緊,，占地面積小,，應(yīng)用范圍廣等特點(diǎn)，但只有定期清洗才能夠能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水,，保證設(shè)備更長久的運(yùn)行,。