聚四氟乙烯酸洗一體成型槽PTFE無焊接水槽耐腐蝕酸洗槽高溫四氟槽

ptfe內(nèi)外一體槽子主要用途，用于濕法研磨設(shè)備,，HF 和HNO3的混合（定量混合）,，反應(yīng)液內(nèi)部循環(huán)，及產(chǎn)品(Wafer)的蝕刻.其中,，圓形槽體，用于HF化學(xué)品和水的混合配比，,、HNO3和水的混合配比，并可以根據(jù)其配置的液位傳感器,，進(jìn)行化學(xué)品混合配比聚四氟乙烯（PTFE）酸槽憑借其優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性,、耐高溫性和高純度特性，在半導(dǎo)體行業(yè)中扮演著至關(guān)重要的角色,，主要用于以下幾個(gè)方面：

1. 濕法清洗工藝:

晶圓清洗: 在半導(dǎo)體制造過程中,，晶圓需要經(jīng)過多次清洗以去除表面的污染物、顆粒和金屬雜質(zhì),。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝各種清洗液,，如硫酸、氫氟酸,、氨水等,，對晶圓進(jìn)行高效清洗。

設(shè)備零部件清洗: 半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備中的零部件也需要定期清洗以去除沉積的雜質(zhì)和殘留物,。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝清洗液,，對零部件進(jìn)行浸泡或循環(huán)清洗。

2. 濕法刻蝕工藝:

晶圓刻蝕: 在半導(dǎo)體制造過程中,，需要利用化學(xué)溶液對晶圓表面進(jìn)行選擇性刻蝕,，以形成所需的電路圖案。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝刻蝕液,，如氫氟酸,、硝酸,、磷酸等，對晶圓進(jìn)行精確刻蝕,。

材料刻蝕: 一些半導(dǎo)體材料,，如硅、二氧化硅等,，也需要通過濕法刻蝕工藝進(jìn)行加工,。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝相應(yīng)的刻蝕液，對材料進(jìn)行刻蝕,。

3. 化學(xué)機(jī)械拋光 (CMP):

拋光液盛放: CMP 是半導(dǎo)體制造中用于平坦化晶圓表面的關(guān)鍵工藝,。聚四氟乙烯酸槽可用于盛放 CMP 拋光液，為拋光過程提供穩(wěn)定的化學(xué)環(huán)境,。

聚四氟乙烯方槽,，圓桶主要用于半導(dǎo)體新材料行業(yè)存儲(chǔ)酸堿溶劑，具有耐腐蝕性,，本底值低的特性,，可用作清洗溶劑，我公司生產(chǎn)提供各種尺寸的四氟方槽,，圓桶,，一體成型，耐用無泄漏風(fēng)險(xiǎn),，可根據(jù)客戶要求增加接頭,，放料閥等配件，尺寸可定制,，配套大型設(shè)備,。

四氟桶規(guī)格：1L-50L，支持加工定制

貨號;RNKW-PTFEYT

四氟方槽常用尺寸：

300*200*50mm

300*200*100mm

300*200*150mm

300*200*200mm

400*300*50mm

400*300*100mm

400*300*200mm

400*300*300mm

貨號：RNKW-PTFEFC

產(chǎn)品特性

1.外觀純白色,。

2.耐高低溫性：可使用溫度-200℃～＋250℃,。

3.耐腐蝕：耐強(qiáng)酸、強(qiáng)堿,、王水和各種有機(jī)溶劑,，且無溶出、吸附和析出現(xiàn)象,。

4.防污染：金屬元素空白值低,。

南京瑞尼克科技開發(fā)有限公司

研發(fā)生產(chǎn)PFA系列，F(xiàn)EP系列,，PTFE系列耗材

PFA系列試劑瓶,、洗瓶、洗氣瓶,、容量瓶,、燒瓶,、燒杯、量杯,、量筒等器皿

FEP系列試劑瓶,、洗瓶、洗氣瓶,、容量瓶,、燒杯等器皿

聚四氟乙烯系列試劑瓶、消解瓶,、燒杯,、坩堝、容量瓶,、燒瓶等器皿

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