白光干涉儀的光譜干涉模式原理主要基于光的干涉和光譜分析,。以下是對(duì)該原理的詳細(xì)解釋:
一,、基本原理
白光干涉儀利用干涉原理測(cè)量光程之差,從而測(cè)定有關(guān)物理量,。在光譜干涉模式中,,白光作為光源,其發(fā)出的光經(jīng)過擴(kuò)束準(zhǔn)直后,,通過分光棱鏡等光學(xué)元件被分成兩束相干光,。一束光經(jīng)被測(cè)表面反射回來,另一束光經(jīng)參考鏡反射,。兩束反射光最終匯聚并發(fā)生干涉,,形成干涉條紋。
二,、光譜干涉的特點(diǎn)
白光光源:白光屬于多色光,,具有連續(xù)的光譜,。這使得白光干涉儀能夠在寬光譜范圍內(nèi)進(jìn)行干涉測(cè)量,,從而獲取更多的被測(cè)表面信息。
干涉條紋的移動(dòng):兩束相干光間光程差的任何變化都會(huì)靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng),。在光譜干涉模式中,,干涉條紋的移動(dòng)與光的波長(zhǎng)有關(guān),不同波長(zhǎng)的光會(huì)形成不同的干涉條紋,。
光譜分析:通過光譜儀等光學(xué)元件,,可以將干涉信號(hào)轉(zhuǎn)化為不同波長(zhǎng)光譜的測(cè)量。這些光譜信息包含了被測(cè)表面的高度,、形貌等物理量信息,。
三、光譜干涉的測(cè)量過程
光路設(shè)置:在白光干涉儀中,,通過設(shè)置適當(dāng)?shù)墓饴?,使得參考光和測(cè)量光能夠發(fā)生干涉。這通常包括光源,、分束器,、參考光路和待測(cè)光路等部分。
干涉信號(hào)獲?。寒?dāng)兩束相干光發(fā)生干涉時(shí),,會(huì)形成干涉條紋,。通過干涉儀的接收屏或探測(cè)器,可以獲取干涉信號(hào)的強(qiáng)度分布,。
光譜分析:將干涉信號(hào)輸入到光譜儀中,,進(jìn)行光譜分析。光譜儀會(huì)將干涉信號(hào)轉(zhuǎn)化為不同波長(zhǎng)光譜的測(cè)量,,從而獲取被測(cè)表面的高度,、形貌等物理量信息。
數(shù)據(jù)處理:對(duì)光譜儀獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理和分析,,得到被測(cè)表面的三維形貌圖或其他相關(guān)物理量信息,。
四、應(yīng)用與優(yōu)勢(shì)
光譜干涉模式在白光干涉儀中具有廣泛的應(yīng)用,。它可以用于測(cè)量各種材料的表面形貌,、薄膜厚度、折射率等物理量,。與其他測(cè)量方法相比,,光譜干涉模式具有更高的測(cè)量精度和更廣泛的測(cè)量范圍。此外,,它還具有非接觸式測(cè)量,、無損檢測(cè)等優(yōu)點(diǎn),適用于各種復(fù)雜表面的測(cè)量,。
綜上所述,,白光干涉儀的光譜干涉模式原理是基于光的干涉和光譜分析原理,通過測(cè)量干涉條紋的移動(dòng)和光譜信息來獲取被測(cè)表面的物理量信息,。該模式具有高精度,、廣測(cè)量范圍和非接觸式測(cè)量等優(yōu)點(diǎn),在材料科學(xué),、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),、航空航天等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。
TopMap Micro View白光干涉3D輪廓儀
一款可以“實(shí)時(shí)”動(dòng)態(tài)/靜態(tài) 微納級(jí)3D輪廓測(cè)量的白光干涉儀
1)一改傳統(tǒng)白光干涉操作復(fù)雜的問題,,實(shí)現(xiàn)一鍵智能聚焦掃描,,亞納米精度下實(shí)現(xiàn)優(yōu)秀的重復(fù)性表現(xiàn)。
2)系統(tǒng)集成CST連續(xù)掃描技術(shù),,Z向測(cè)量范圍高達(dá)100mm,,不受物鏡放大倍率的影響的高精度垂直分辨率,為復(fù)雜形貌測(cè)量提供全面解決方案,。
3)可搭載多普勒激光測(cè)振系統(tǒng),,實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)“動(dòng)態(tài)”3D輪廓測(cè)量。
實(shí)際案例
1,,優(yōu)于1nm分辨率,,輕松測(cè)量硅片表面粗糙度測(cè)量,,Ra=0.7nm
2,毫米級(jí)視野,,實(shí)現(xiàn)5nm-有機(jī)油膜厚度掃描
3,,優(yōu)秀的“高深寬比”測(cè)量能力,實(shí)現(xiàn)光刻圖形凹槽深度和開口寬度測(cè)量,。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載,、摘編或利用其它方式使用上述作品,。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”,。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任,。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),,不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任,。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)等問題,,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利,。