磁控離子濺射儀

產品介紹：

離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術開發(fā)研制成高科技產品,，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器,，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌，從而提高試樣的導電性和導熱性,。該儀器為全閉環(huán)真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實時監(jiān)控運行狀態(tài),，保證儀器安全穩(wěn)定運行。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境,，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細的膜層質量,。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應，高性能的平面磁控濺射陰極可實現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au,、Pt,、Ag、Pd等),，高精度的納米涂層為納米級別,，可滿足現(xiàn)代分析實驗要求?？捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜,、半導體薄膜、介電,、絕緣材料薄膜以及復合薄膜,、多層異質結等。

應用領域：

光學領域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術應用于光學薄膜（如減反射膜）,、低輻射玻璃和透明導電玻璃,；

微電子領域：用于沉積具有吸收、透射,、反射,、折射、偏振等功能的薄膜,，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉換效率,。

高溫超導薄膜、鐵電薄膜,、巨磁阻薄膜等領域：磁控濺射技術在這些領域的研究中發(fā)揮著重要作用,；