高溫高壓光學浮區(qū)法單晶爐助力鎳基超導體高壓超快光譜研究取得新突破
由于鎳基超導具有與銅酸鹽類似的d電子結構,表明鎳基超導體具有潛在的高溫超導性,,因而受到關注,。尤其,,近期的研究成果進一步支持了這一假設。中山大學王猛及其合作者發(fā)現(xiàn)La3Ni2O7單晶在14 GPa及以上的壓力下,,顯示出TC≈80 K的超導轉變,。此后,諸多實驗也相繼報道了它在高壓下的超導性能,。然而,,其超導機制尚不清楚,也存在一些爭議。
密度波(DW)序與超導電性之間的強關聯(lián)相互作用在高溫超導領域一直是被廣泛研究的課題,。在La3Ni2O7中,,在常壓條件下,當溫度降低時,,存在兩種DW轉變,。在包括共振非彈性X射線散射(RIXS)、μ自旋旋轉(μSR)實驗,、核磁共振(NMR)等多種實驗中已經(jīng)確定在150 K左右存在類自旋密度波(SDW)躍遷,;而在輸運或光導測量中又存在電荷密度波(CDW)躍遷,躍遷溫度在110至130 K之間,。La3Ni2O7中復雜的DW行為,,被認為源于多個主要由Ni dx2-y2和dz2兩種eg軌道貢獻的費米表面之間的散射,而該行為受溫度和壓力的影響顯著,。因此,,深入研究DW有序在壓力下的演化對于揭示這種鎳酸鹽中超導配對機制至關重要,。
近期,,中國科學院物理研究所汪信波及其合作者[1],利用德國ScIDre公司的HKZ型高溫高壓光學浮區(qū)法單晶爐成功制備了La3Ni2O7單晶樣品,,并使用超快光學泵浦探測光譜技術,,深入探究了雙層鎳酸鹽La3Ni2O7單晶在高達34.2GPa高壓下的準粒子動力學,。在常壓下,弛豫動力學溫度依賴關系表現(xiàn)出聲子瓶頸效應,,這是在151K附近的能隙打開造成的。通過Rothwarf-Taylor模型確定這種類似DW帶隙的能量尺度為66meV,。結合近期的實驗結果,,作者認為常壓低溫下的這種類似DW轉變是自旋密度波(SDW)。這種SDW序在13.3GPa之前隨著壓力的增加被顯著抑制,,在26GPa附近消失,。值得注意的是,在29.4 GPa以上的壓力下,,作者觀察到另一種類似DW序的出現(xiàn),,它的轉變溫度在大約135K,這可能跟CDW有關,。作者的研究為高壓下類似DW帶隙的變化提供了實驗證據(jù),,為La3Ni2O7中DW序與超導電性之間的相關性提供了關鍵信息。
圖1:在環(huán)境壓力下泵-探針光譜和提取的參數(shù),。
圖2:20 K時泵-探針光譜及提取參數(shù)隨壓力的變化關系,,在26 GPa附近DW階消失。
圖3:基于泵浦-探針光譜測量的La3Ni2O7的溫度-壓力相圖。
該項研究工作中由德國ScIDre公司的HKZ型高溫高壓光學浮區(qū)法單晶爐成功制備的La3Ni2O7單晶樣品,,相關實驗參數(shù)為:O2氣氛,,壓力15bar,5KW氙燈,。
高溫高壓光學浮區(qū)爐
德國ScIDre公司推出的HKZ系列高溫高壓光學浮區(qū)法單晶爐能夠提供高達3000℃的生長溫度,,樣品腔壓力可達300bar,甚至10-5mbar的高真空,。適用于生長各種超導材料單晶,,介電和磁性材料單晶,氧化物及金屬間化合物單晶等,。Quantum Design將ScIDre公司先進的高溫高壓光學浮區(qū)法單晶爐,、高壓氧氣氛退火爐等科研設備引進中國,更好的為中國晶體生長領域的發(fā)展提供設備支持和技術服務,。
ScIDre單晶爐特點
? 采用垂直式光路設計
? 采用高照度氙燈,,多種功率規(guī)格可選
? 采用光闌控制技術,加熱功率從0-100% 可調
? 熔區(qū)溫度:高達2000 - 3000℃(具體取決于材料和配置)
? 熔區(qū)氣壓:10bar,、50bar,、100bar、150bar,、200bar,、300bar可選
? 熔區(qū)氣氛:Ar、O2,、N2,、混合氣等可選
? 不同真空環(huán)境可選:10-2 mbar或 10-5 mbar
? 豐富的可升級選件
高溫高壓光學浮區(qū)法單晶爐外觀圖
參考文獻:
[1]. Meng, Y., Yang, Y., Sun, H. et al. Density-wave-like gap evolution in La3Ni2O7 under high pressure revealed by ultrafast optical spectroscopy. Nature Communications, volume 15, 10408 (2024).
https://doi.org/10.1038/s41467-024-54518-1
相關產品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,,未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品,。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,,應在授權范圍內使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”,。違反上述聲明者,,本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,,目的在于傳遞更多信息,,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任,。其他媒體,、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉載時,,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任,。
- 如涉及作品內容,、版權等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內與本網(wǎng)聯(lián)系,,否則視為放棄相關權利,。