硅光子學(xué)是一項(xiàng)快速發(fā)展的技術(shù),,有望改變通信、計(jì)算和感知世界的方式,。然而,,缺少高度可擴(kuò)展的,、原生互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)集成光源是阻礙廣泛應(yīng)用的主要因素之一,。盡管在硅上混合與異質(zhì)集成III–V族光源,,取得了相當(dāng)大的進(jìn)展,,但通過直接外延III–V族材料的單片集成,仍然是具有成本效益較高的片上光源,。
近日,,比利時(shí)微電子研究中心 (imec) Yannick De Koninck, Charles Caer, Didit Yudistira,,Bernardette Kunert & Joris Van Campenhout等,在Nature上發(fā)文,,報(bào)道了基于一種全新的集成方法,即納米脊工程,,在CMOS試驗(yàn)生產(chǎn)線上,在300-mm Si(001)晶圓上,,制造了電驅(qū)動(dòng)砷化鎵(GaAs)基激光二極管。具有嵌入式p-i-n二極管和InGaAs量子阱的GaAs納米脊波導(dǎo),,在晶圓規(guī)模上高質(zhì)量生長。
GaAs nano-ridge laser diodes fully fabricated in a 300-mm CMOS pilot line. 在300-mm CMOS導(dǎo)引線中,,制造GaAs納米脊激光二極管。
圖1、片上GaAs NR激光器的晶圓級集成© 2025 Springer Nature
圖2,、具有片上光電探測器的GaAs NR激光測試單元,,用于片級表征© 2025 Springer Nature
圖3、單面切割GaAs NR激光器的模級測量© 2025 Springer Nature
圖4.蝕刻面GaAs NR激光器的片上測量© 2025 Springer Nature
圖5,、蝕刻面GaAs NR激光器的全晶圓尺度測量© 2025 Springer Nature
在晶圓上的300多個(gè)器件中,,演示了波長約為1.020nm室溫連續(xù)波激光,閾值電流低至5mA,,輸出功率超過1mW,,激光線寬低至46MHz,激光器工作溫度高達(dá)55°C。這些結(jié)果表明了,,在硅光子學(xué)平臺(tái)中的單片集成激光二極管,,III–V/Si納米脊工程概念的應(yīng)用潛力,有望應(yīng)用在光學(xué)傳感,、互連等領(lǐng)域的成本敏感且高容量應(yīng)用,。
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參考文獻(xiàn): 中國光學(xué)期刊網(wǎng)
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