在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,,確保晶圓處理過程中介質(zhì)流量和壓力的精準(zhǔn)控制對于產(chǎn)品質(zhì)量至關(guān)重要,。流量的波動,,通常由出口的開關(guān)操作引起,,可能會對晶圓的質(zhì)量造成不利影響,。在這一背景下,,背壓控制技術(shù)發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,,它能夠保證在各個(gè)出口獨(dú)立控制的情況下,管線中的流量與壓力依然保持恒定,。
以化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)漿料應(yīng)用為例:
這一步驟對于晶圓的拋光至關(guān)重要,。通過精確控制漿料的供應(yīng)量,可以優(yōu)化材料的去除過程。背壓控制確保了流量的穩(wěn)定性,,從而保障了CMP過程的均勻性和效率,,這對于提升晶圓加工質(zhì)量和最終產(chǎn)品性能具有決定性意義。
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工藝流程圖
解決方案
蓋米推出GEMÜ C53 iComLine電動控制閥,,憑借其精確的控制精度和靈活的控制特性,,成為實(shí)現(xiàn)背壓控制的理想選擇。
方案優(yōu)勢
ADVANTAGES
結(jié)合兩款成熟的蓋米產(chǎn)品,提供全面的一體化解決方案,;GEMÜ C53 iComLine控制閥確保了介質(zhì)流量的精確控制,。GEMÜ C33壓力傳感器,提供精確的壓力測量,。
提供多種連接類型,,包括擴(kuò)口,、入珠、PrimeLock,、Nexus Connect®,,以滿足多樣化的工藝需求,;連接尺寸范圍廣泛,,從1/4"到3/4",,適用于不同的設(shè)備和工藝要求,。
所有與介質(zhì)接觸的部件均采用PFA或PTFE材料,確保耐腐蝕性和純凈度。
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蓋米以技術(shù)創(chuàng)新和zhuo越品質(zhì),,助力半導(dǎo)體制造行業(yè)邁向更高標(biāo)準(zhǔn),。我們期待與您攜手,,共同提升工藝效率。如需了解更多信息,,請聯(lián)系蓋米閥門中國,。
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