鍍膜材料選擇

• 窄帶濾光片：通常需尋找高折射率且低消光系數(shù)的鍍膜材料,，如二氧化鈦,、五氧化三鈦等具有高折射率的材料，以實(shí)現(xiàn)對(duì)特定窄波段光的精確控制134.

• 截止濾光片：材料選擇較為多樣,，根據(jù)截止波長(zhǎng)范圍和具體應(yīng)用有所不同,。如紅外截止濾光片常使用稀土金屬化合物，像鉺,、鐿等,，可有效阻擋紅外光；對(duì)于可見光截止濾光片,，也會(huì)用到一些金屬氧化物和有機(jī)染料等材料578.

膜系設(shè)計(jì)

• 窄帶濾光片：膜系結(jié)構(gòu)相對(duì)復(fù)雜,，一般由數(shù)十層甚至上百層不同折射率和厚度的薄膜組成，通過精確控制各膜層的厚度和折射率,，利用光的干涉原理實(shí)現(xiàn)窄帶透過特性 ,。例如，采用法布里 - 帕羅腔堆疊的方式進(jìn)行設(shè)計(jì),，使中心波長(zhǎng)處的光干涉相長(zhǎng),，而其他波長(zhǎng)的光干涉相消346.

• 截止濾光片：設(shè)計(jì)重點(diǎn)在于實(shí)現(xiàn)特定波長(zhǎng)范圍的截止，膜系結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單,。比如長(zhǎng)波截止濾光片,，通過設(shè)計(jì)多層膜，使短波長(zhǎng)的光透過,，長(zhǎng)波長(zhǎng)的光在膜層間反射和吸收而截止,。對(duì)于吸收型截止濾光片，主要依靠材料本身對(duì)特定波長(zhǎng)光的吸收特性來實(shí)現(xiàn)截止,，膜系設(shè)計(jì)相對(duì)更側(cè)重于材料的選擇和吸收層的優(yōu)化257.

鍍膜技術(shù)

• 窄帶濾光片：常用的鍍膜技術(shù)有離子束濺射和電子束蒸發(fā)等,。這些方法能夠在高真空環(huán)境下精確控制每層薄膜的厚度和折射率，保證膜層的均勻性和一致性,，從而實(shí)現(xiàn)窄帶濾光片的高精度光譜特性,，但設(shè)備成本較高、鍍膜速率相對(duì)較慢46.

• 截止濾光片：可采用真空蒸發(fā),、磁控濺射,、化學(xué)氣相沉積等多種鍍膜技術(shù)。真空蒸發(fā)適用于金屬氧化物和稀土金屬化合物等材料的沉積,；磁控濺射則適用于涂覆均勻性要求較高的光學(xué)薄膜,；化學(xué)氣相沉積常用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)的薄膜沉積57.

制作流程及監(jiān)控

• 窄帶濾光片：制作流程包括基底清洗、鍍膜材料準(zhǔn)備,、膜系設(shè)計(jì)與優(yōu)化,、高精度鍍膜以及嚴(yán)格的質(zhì)量檢測(cè)等環(huán)節(jié)。在鍍膜過程中,，需要精確控制膜層厚度和折射率,，常采用光控監(jiān)控和石英晶體監(jiān)控等方法實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)膜層生長(zhǎng)情況,，確保膜層厚度和性能符合設(shè)計(jì)要求146.

• 截止濾光片：首先要進(jìn)行基材的準(zhǔn)備，如切割,、拋光等處理,，以確保表面光滑平整，便于后續(xù)的鍍膜,。然后進(jìn)行涂層沉積,，根據(jù)不同的鍍膜技術(shù)和材料選擇合適的工藝參數(shù)。在薄膜設(shè)計(jì)階段,，使用光學(xué)設(shè)計(jì)軟件進(jìn)行模擬和優(yōu)化,。制作過程中對(duì)膜層厚度和均勻性的監(jiān)控要求相對(duì)較低，主要通過光譜測(cè)試等手段對(duì)成品進(jìn)行質(zhì)量檢測(cè),，驗(yàn)證其在截止波長(zhǎng)范圍內(nèi)的性能57.