鍍膜材料選擇

• 窄帶濾光片：通常需尋找高折射率且低消光系數(shù)的鍍膜材料,，如二氧化鈦、五氧化三鈦等具有高折射率的材料,，以實(shí)現(xiàn)對特定窄波段光的精確控制134.

• 截止濾光片：材料選擇較為多樣,，根據(jù)截止波長范圍和具體應(yīng)用有所不同。如紅外截止濾光片常使用稀土金屬化合物,，像鉺,、鐿等，可有效阻擋紅外光,；對于可見光截止濾光片,，也會用到一些金屬氧化物和有機(jī)染料等材料578.

膜系設(shè)計

• 窄帶濾光片：膜系結(jié)構(gòu)相對復(fù)雜，一般由數(shù)十層甚至上百層不同折射率和厚度的薄膜組成,，通過精確控制各膜層的厚度和折射率,，利用光的干涉原理實(shí)現(xiàn)窄帶透過特性 。例如,，采用法布里 - 帕羅腔堆疊的方式進(jìn)行設(shè)計,，使中心波長處的光干涉相長，而其他波長的光干涉相消346.

• 截止濾光片：設(shè)計重點(diǎn)在于實(shí)現(xiàn)特定波長范圍的截止,，膜系結(jié)構(gòu)相對簡單,。比如長波截止濾光片，通過設(shè)計多層膜,，使短波長的光透過,，長波長的光在膜層間反射和吸收而截止。對于吸收型截止濾光片,，主要依靠材料本身對特定波長光的吸收特性來實(shí)現(xiàn)截止,，膜系設(shè)計相對更側(cè)重于材料的選擇和吸收層的優(yōu)化257.

鍍膜技術(shù)

• 窄帶濾光片：常用的鍍膜技術(shù)有離子束濺射和電子束蒸發(fā)等。這些方法能夠在高真空環(huán)境下精確控制每層薄膜的厚度和折射率,，保證膜層的均勻性和一致性,，從而實(shí)現(xiàn)窄帶濾光片的高精度光譜特性，但設(shè)備成本較高,、鍍膜速率相對較慢46.

• 截止濾光片：可采用真空蒸發(fā),、磁控濺射、化學(xué)氣相沉積等多種鍍膜技術(shù),。真空蒸發(fā)適用于金屬氧化物和稀土金屬化合物等材料的沉積,；磁控濺射則適用于涂覆均勻性要求較高的光學(xué)薄膜；化學(xué)氣相沉積常用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)的薄膜沉積57.

制作流程及監(jiān)控

• 窄帶濾光片：制作流程包括基底清洗,、鍍膜材料準(zhǔn)備,、膜系設(shè)計與優(yōu)化、高精度鍍膜以及嚴(yán)格的質(zhì)量檢測等環(huán)節(jié),。在鍍膜過程中,，需要精確控制膜層厚度和折射率,，常采用光控監(jiān)控和石英晶體監(jiān)控等方法實(shí)時監(jiān)測膜層生長情況，確保膜層厚度和性能符合設(shè)計要求146.

• 截止濾光片：首先要進(jìn)行基材的準(zhǔn)備,，如切割,、拋光等處理，以確保表面光滑平整,，便于后續(xù)的鍍膜,。然后進(jìn)行涂層沉積，根據(jù)不同的鍍膜技術(shù)和材料選擇合適的工藝參數(shù),。在薄膜設(shè)計階段,，使用光學(xué)設(shè)計軟件進(jìn)行模擬和優(yōu)化。制作過程中對膜層厚度和均勻性的監(jiān)控要求相對較低,，主要通過光譜測試等手段對成品進(jìn)行質(zhì)量檢測,，驗(yàn)證其在截止波長范圍內(nèi)的性能57.