半導體,、電子行業(yè)噴涂用二流體噴嘴的要求

工業(yè)噴霧噴嘴在電子行業(yè)有著廣泛的應用,，可應用于半導體制造過程,，硅晶片制造工序,，等離子體顯示器制造,、電子顯像管、以及印制電路板的制作（PCB）中,，顯影,、蝕刻、沖刷,、除膜,、噴涂等眾多工序。同時還能用于消除靜電,，保障電子行業(yè)生產(chǎn)順利進行,，是電子行業(yè)中不可缺重要裝置。

光刻膠,，是一種對光敏感的化學物質(zhì),。它是由光敏樹脂、增感劑,、溶劑三種主要成分組成,。經(jīng)曝光之后，膠會產(chǎn)生化學反應,，從而導致溶解度發(fā)生變化,。利用這種性質(zhì)，通過帶有特定圖形的掩膜就可以在基板上得到特定的圖形,。我們首先將光刻膠涂覆到半導體材料上,，經(jīng)過曝光顯影后，留下的光刻膠部分相當于對底層進行保護,，之后用蝕刻劑進行蝕刻,，最終達到將掩膜版上特定的微細圖形轉移到襯底上的目的，因此光刻膠是微細加工技術中的關鍵性材料,。

如何將光刻膠均勻且符合工藝要求的涂覆到襯底表面,，也是非常關鍵的課題。目前涂覆工藝有旋涂,、浸涂以及超聲波噴涂等工藝,。旋涂，也就是離心旋轉法,，是將一定量的光刻膠溶液滴在基材表面,，隨后通過離心力的作用將膠鋪展到基片上，此種方法可以得到厚度均勻的光刻膠薄膜,，但普遍存在膜厚偏薄且厚度范圍調(diào)節(jié)不穩(wěn)定的問題,。而且采用離心旋轉法涂膠，在旋轉過程中基片上多余的光刻膠被甩出,，造成光刻膠浪費,。而浸涂法,，雖然操作方便效率高且涂料利用率也比較高，但只適用于形狀簡單的流線型材料,，而且涂料量不好控制,。

Atmax噴嘴是獲得的“外混合渦流式緊湊型精密二流體噴嘴”，非常適合霧化液體,。
高速旋流將液體高效粉碎霧化成霧化噴霧,。液滴尺寸分布也非常好,。噴嘴內(nèi)部結構非常簡單,，大直徑可以穩(wěn)定連續(xù)噴射，不會堵塞,。為了獲得霧化液體,，人們一直認為液體應該通過微小的孔噴射出來，但Atmax噴嘴是一個源自想法的原創(chuàng)產(chǎn)品,。

技術/結構簡單即使使用高粘度和漿料也不會堵塞

• 還可以噴涂以前難以霧化的粘性液體,、漿料和乳液。

• 由于是外置混合噴嘴,，因此噴嘴內(nèi)部不存在液體堵塞的可能性,。

• 液體流路具有簡單的直線結構。

• 與傳統(tǒng)噴嘴相比,，噴霧孔徑更大（約10至200倍）,。

• 即使在低壓下也能進行噴霧操作，因此不會滴落或滴落,。

高性能/高功能可噴射 細顆粒噴霧（5μm）

• 即使噴射直徑很大,，也可以噴射出細小的顆粒。渦流霧化提供非常均勻的顆粒尺寸,。

• 可以用單個噴嘴控制噴射的顆粒從相當于5微米到雨滴大小,。

• 該噴嘴也非常適合多種液體的混合噴涂。液體供應通過管道分別輸送到噴嘴附近,，從而可以在噴嘴噴射部分進行混合噴射,。當由于液體的性質(zhì)而無法預先攪拌和混合時，它是有效的,。

• 由于部件配置簡單,，噴嘴可以根據(jù)使用環(huán)境和耐化學性采用特殊材料制造。我們可以選擇和制造耐熱,、耐腐蝕,、耐磨材料。

• 由于單噴嘴的噴射控制自由度較大,，因此噴射條件的設定相對容易,。通過控制供應的液體量和霧化氣體的流速，可以實現(xiàn)所需的噴射設置。

小巧輕便可以安裝在任何地方,、用于任何目的

• 噴嘴尺寸極小,，因此可以安裝在任何地方。

• 由于重量輕,，因此可以輕松安裝在設備中,。噴嘴可以使用注射口附近的安裝螺釘和螺母固定。

優(yōu)異的維護性僅 2 個組件

• 只有兩個部件,，因此易于安裝和拆卸,，維護簡單。

優(yōu)異的節(jié)能性能技術實現(xiàn)高效噴涂

• 我們的技術可實現(xiàn)高效的霧化噴涂,。與傳統(tǒng)噴嘴相比,，霧化消耗的壓縮氣體更少。

• 由于噴嘴具有自吸功能,，無需泵即可噴射低粘度液體,。

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