電鍍砝碼理論知識

砝碼鉻鍍層的特征

1、鉻鍍層的物理性能及化學(xué)性能

鉻鍍層的顏色為略帶淺藍色的銀白色,。鉻鍍層有優(yōu)秀的特征,，比如，硬度高,、耐熱,、耐酸、耐堿,、耐硫化物,、耐有機酸、順磁,、不變色;鉻鍍層的摩擦系數(shù)低,，特別是干摩擦系數(shù)在所有金屬中是的，所以,，鉻鍍層擁有很好的耐磨性;鉻鍍層與橡膠,、膠木、塑料等非金屬資料黏附力差。所以,，這種資料的模具采納電鍍鉻后簡單脫模,，且模具表面粗拙值越小，壓制產(chǎn)品的亮度越高,、越雅觀,，模具使用壽命也可提升。

2,、鉻鍍層的硬度和應(yīng)力

在正常鍍鉻工藝條件下,，鉻鍍層硬度為HRC55~HRC65和HV750~HV1200。電鍍鉻比由高溫治金法獲取的金屬鉻硬度高得多,，最硬的鉻鍍層可達到剛玉的硬度,，比其余的現(xiàn)有電鍍層硬度都高。比如,，它是鐵,、鈷和鎳硬度的 2倍左右。它的硬度比經(jīng)過滲碳,、滲氮,、碳氮共滲、硬化辦理的鋼以及經(jīng)過熱辦理的合金構(gòu)造鋼的硬度都高,。電鍍時的氫,、外來離子的性質(zhì)、內(nèi)應(yīng)力增添是鉻鍍層擁有高硬度的主要要素,。資料抵擋硬物壓入表面的能力叫做硬度,。在測定鍍層硬度時，常使用維氏硬度計,，可依據(jù)鍍層厚度只要 5~ 200gf 的小壓荷使壓痕深度達到鍍層厚度的 1/7~ 1/10,，在鍍層斷面上測定硬度時，能夠針對鍍層厚度選擇適合的壓荷,， 測度方法相同,， 測出的硬度偏差較小。 加厚鉻鍍層假如大于100m 時可采納洛氏硬度計,，在非工作面長進行測定鉻鍍層硬度,。這種方法測準(zhǔn)時能夠直接看出鉻鍍層的硬度，使用較方便,。在電鍍過程中,，因為各種原由惹起鍍層品體構(gòu)造的變化，常會使鍍層有伸長或縮短的趨向,，但因鍍層已被固定在基體上,，促進鍍層處于受力狀態(tài)，這種作用于鍍層單位面積的力稱為內(nèi)應(yīng)力。在鍍鉻過程中應(yīng)力的產(chǎn)生,，主假如電析應(yīng)力,。鉻鍍層結(jié)協(xié)力很好，2940Mpa 以上的而在早期電析應(yīng)力特別大,，能夠察看到張應(yīng)力,，同時跟著鍍層的增厚其實不會轉(zhuǎn)變?yōu)閴簯?yīng)力，但這些都不影響鉻鍍層的結(jié)協(xié)力,。所以鉻鍍層結(jié)協(xié)力差,，主假如因為基體表面潔凈工作沒有做好，而電析應(yīng)力不是致使結(jié)協(xié)力差的原由,。

3,、鉻鍍層的耐磨性

鉻鍍層因為有其特別的構(gòu)造而形成很高的硬度，因為硬度高,，使耐性也提升,。但鉻鍍層的耐磨性利害，不只是是硬度,，還有金屬的延展性和彈性等也是耐磨性的決定要素,。經(jīng)過試驗以為鉻鍍層的維氏硬度為HV750~HV800 時擁有較大的耐磨性。鍍鉻層厚度與耐磨性有必定關(guān)系,，同時對使用壽命也有直接的影響,。使用壽命與厚度固然不完整成比例關(guān)系，可是厚度減小,，使用壽命就會大大縮短,。假如考慮表面耐性，則要示鉻鍍層厚度大于受沖擊的部件,，鉻鍍層厚度不該小于15 μm,。關(guān)于鋁合金的熱沖模，鍍鉻后能降低黏附性,，以上壓模鉻鍍層厚度往常為10~20m。橡膠模具和塑料模具鉻鍍層厚度只需求3~5μm即可,，橡膠模具和塑料模具經(jīng)鍍7.5 um,。

對比是低的。砝碼鉻鍍層與鋼鐵資料的摩擦系數(shù)為

鍍鉻溶液的構(gòu)成

1,、鉻酐(CrO3)(分子量:76)

鉻酐的水溶液是鉻酸,，它是電解液的主要成分。因鍍鉻工藝采納不溶性陽極,，所以它是鉻層的來源,。鍍硬鉻所用的電解液含鉻酐量一般在 200g~ 300g 之間，在標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻電解液中含鉻酐為250g ，此中大概含鉻 125gL ,。

2,、硫酸(H

SO)(分子量:66)當(dāng)有SO2-存在時，它與溶液內(nèi)的三價鉻生成復(fù)雜的含有硫酸和三價鉻的陽離子團這種陽離子團跑向陰極,，促進堿性鉻酸鉻「Cr(OH)3fCr40(50 4)·(H20)41離子能在陰極1的薄膜溶解,，使.Cr(OH)CrOCrO上放電析出金屬鉻。

當(dāng)鍍鉻溶液的酸度為PH值為3時,，能有堿式鉻酸鉻[Cr(OH)3·Cr(OH)CrO 4]的薄膜存在,，沒有硫酸鹽該堿式鉻酸鉻的薄膜轉(zhuǎn)向陰極，并給它包上能透過氫離子的膠體薄膜,。時,，硫酸鹽的作用就是利用它的吸附作用，減低膠體的電流密度,，防止在陰極上形成堅固附著的膠體層,。

所以，在陰極表面上,，其余離子就有了復(fù)原的可能,。假如純真考慮到負電荷的 SO42-與陰極表面互相作用，則難以相信 SO4-離子能抵達陰極表面,。因為硫酸根(SO42-)離子的尺寸不而電荷高,，所以簡單被正電荷的膠體所汲取，并馬上與三價鉻生成綠色的而無反響能力的陽離子團[Cr4O(SO 4)4·(HO)4]2+,，這種離子團能經(jīng)過薄膜而不發(fā)生明顯變化,，抵達陰極表面以后，離子放電,，而硫酸根離子變?yōu)橛坞x狀態(tài),。生產(chǎn)實踐證明，為了獲取高質(zhì)量的鉻鍍層應(yīng)十分注意鍍液中的鉻酐與催化劑的濃度比,，而關(guān)于催化劑絕對含量相對而言其實不那么重要,。當(dāng)[CrO3]/[SO42-]為100:1 時，電流大,。當(dāng)[CrO3]/[SO42-]小于 100:1時,，鍍層的光明性和致密性有所提升。但鍍液的電流效率和分別能力下降,。當(dāng)[CrO31TSO4--1小于或等于 50:1時,，因為催化劑含量偏高， 使陰極膠體膜的溶解速度大于生成速度,陰極電勢達不到鉻的析出電勢,，致使局部以致所有沒有鉻的堆積,，鍍液的電流效率降低,，分別能力明顯惡ICrO 342-化，并且鍍液顏色變暗,，陰極鄰近產(chǎn)生渺小的氫氣泡;當(dāng)]大于 100:1 時,， SO 42含量不足,V/ISO200:1，SO42-含量嚴重不足,，在鍍層上會產(chǎn)生黑色條紋,鍍層的光明性鍍液的電流效率降低;若比值超出銘鍍層表面會出現(xiàn)粗拙的小顆粒,，光彩性差，鍍液顏色也會變淡,，陰極鄰近將產(chǎn)生大批氫氣泡,，并會產(chǎn)生剝落現(xiàn)象。因為SO4-含量太低,，陰極表面上只有極少部位的膜被溶解,，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地域放電長大,，所以獲取的鍍層粗拙,。

3、氟硅酸鈉(Na 2SiF6)(分子量:188)

氟硅酸根離子在電鍍過程中起著與硫酸根離子相像的作用,，但氟硅酸根離子還有其獨到長處,。比如，鉻鍍層簡單鈍化,，常常在鍍鉻過程中電流中止或進行二次鍍鉻時,，所獲取的鍍層為乳白色而無光彩:而有氟硅酸根離子存在時，所獲取的鉻鍍是光明的,，因為它擁有使鉻鍍層表面活化的作用,。采納含氟硅酸根離子的鍍液比標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液優(yōu)勝，當(dāng)鍍液溫度在士 5℃時,，相同能獲取光彩仔細的鉻鍍層,，并且比標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液所獲取鉻鍍層光彩雅觀，為帶有淺藍銀白色的光明鉻鍍層,。程正常進行,。電解液的分別能力很低，不易獲取平均的鍍層,。要想等到厚度平均的鍍層,,，一定采納適合的夾具、象形陽極,、協(xié)助陰極或絕緣障蔽等舉措。20A/dm 2以上;鍍鉻槽電壓較高,，往常6~ 12V ,。

4,、鍍鉻使用的電流密度很高，電流密度常在

5,、鍍鉻電解液的電流效率較低,，一般鍍鉻電解液的電流效率在20% 左右。

6,、陽極采納鉛,、鉛一銻合金或鉛一錫合金等做不溶性陽極，不可以用金屬鉻作陽極,。

7,、工藝參數(shù)對鍍鉻層性質(zhì)有影響，采納不一樣的電流密度和溫度,，可獲取不一樣性質(zhì)的鍍鉻層,。鍍鉻過程還有三個特別現(xiàn)象:陰極電流效率隨鉻酸濃度的高升而降落，降溫度高升而降落,，隨陰極電流密度的高升而高升,。