離子濺射成膜裝置
主要由真空室和鍍膜靶組成。工作時(shí),,幾個(gè)金屬靶材對(duì)著基板安置于真空室中,。靶材上放置有一個(gè)陰極,該陰極會(huì)發(fā)射電子,。電子被磁場聚焦并加速到高速,,撞擊靶材表面后會(huì)將原子或分子從靶材表面剝離。 剝離的原子和分子穿過反應(yīng)室,,在經(jīng)過減壓區(qū)域后,,抵達(dá)基板表面并生成均勻的薄膜。
MSP-mini是用于臺(tái)式SEM觀察,、光學(xué)顯微鏡的離子濺射成膜裝置,。
★小面積目標(biāo)物,最大限度地減少涂層小面積樣品時(shí)的浪費(fèi)
使用(φ30mm),。
★試料臺(tái)是滑動(dòng)玻璃原封不動(dòng)地裝載的平板試料臺(tái),。
★低電壓涂層,即使對(duì)敏感的樣品也不會(huì)造成樣品損傷,。
★用一個(gè)按鈕全自動(dòng)進(jìn)行排氣,、涂層、泄漏,。
★目標(biāo)金屬為金(Au)標(biāo)準(zhǔn),。您可以選擇銀(Ag)選項(xiàng)。
★排氣系統(tǒng)采用外置RP 5升/min,。
★輔助樣品階段(可選)可提高涂層速率和效率
可以成膜,。
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