超聲波清洗機是一種濕洗的物理清洗方式，需要有液體介質(zhì)的使用。不同的清洗對象,，需要選擇合適的清洗介質(zhì)。清洗的工藝有水基清洗,、半水溶劑清洗和有機溶劑清洗,。除了有機溶劑是一種不溶于水的溶劑，其高效的清潔能力特點,，適用在對潔凈度要求比較高的場合,，成本也高。水基清洗和半水溶劑清洗都是需要以水為基礎(chǔ)的清洗介質(zhì),。

    而對水的認識有硬水和軟水兩類之分,，水中有鈣與鎂的碳酸鹽、重碳酸鹽,、硫酸鹽,、氯化物以及硝酸鹽等存在即稱為硬水，將水的硬度（暫時硬度及長久硬度）降低或去除至一定程度的水稱之為軟水,。但在工業(yè)用水中,，通常需要純水，例如在化工,、發(fā)電,、醫(yī)藥、食品,、電子工業(yè)中,，各種產(chǎn)品對純水的純度要求就大不相同。

    純水可分為去離子水,、純凈水,、無熱源水、高純水和超純水五個等級,。

    去離子水：主要去除了水中的無機鹽,，同時去除部分機械雜質(zhì)和無機物。

    純凈水：處理對象仍為無機鹽,，但對水中剩余的微生物,、有機物等較去離子水要求嚴格。

    無熱源水：為細菌內(nèi)毒素檢查用水,，應用于溶解,、稀釋內(nèi)毒素檢測試劑盒標準品,。

    高純水：對殘余無機鹽要求極為嚴格，對有機物,、微生物及微粒粒徑有嚴格的要求,。

    超純水：各項指標接近理想的理論純水的指標，是半導體光刻與清洗的需求,。

    純水的純度,，主要是指水中各種導電介質(zhì)（即水中鹽類陽離子、陰離子）,、所含溶解氣體,、揮發(fā)物質(zhì)和其他非導電介質(zhì)的含量大小。超聲波清洗機在選擇用水方面具有一定的靈活性,，主要取決于清洗的具體需求和待清洗物件的性質(zhì),。

    水質(zhì)要求

    除了選擇合適的水源外，還需注意以下水質(zhì)要求以確保超聲波清洗效果：

    pH值：一般要求水質(zhì)的pH值在6.5-8.5之間,，過高或過低的pH值可能對清洗效果產(chǎn)生負面影響,。

    濁度：水質(zhì)的濁度應低于1 NTU，高濁度的水質(zhì)會影響清洗效果,。

    固體物質(zhì)：水質(zhì)中不應含有可見的固體物質(zhì),，如懸浮物、沉淀物等,。

    溶解氣體：水質(zhì)中的溶解氣體應盡量減少,，以避免對清洗過程產(chǎn)生不利影響,。

    有機物含量：水質(zhì)中的有機物質(zhì)含量應低,，高含量的有機物質(zhì)可能會降低超聲波的清洗效果。

    金屬離子含量：水質(zhì)中的金屬離子含量要盡量低,，以避免對清洗物體產(chǎn)生污染,。

    微生物污染：水質(zhì)中的細菌、病毒等微生物污染要符合衛(wèi)生標準,，以防止污染物在清洗過程中傳播,。